Method of fabricating semiconductor device
Номер патента: US09524870B2
Опубликовано: 20-12-2016
Автор(ы): Chun-Soo KANG, You-Song Kim
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-12-2016
Автор(ы): Chun-Soo KANG, You-Song Kim
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of patterning features of a semiconductor device
Номер патента: US09627262B2. Автор: Ming-Feng Shieh,Ru-Gun Liu,Chih-Ming Lai,Wen-Chun Huang,Wei-Chao Chiu,Chen-Yu Chen,Nian-Fuh Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.