パワ−mosfet
Номер патента: JPS6180858A
Опубликовано: 24-04-1986
Автор(ы): Shigeo Otaka, Tetsuo Iijima, Yasuo Maruyama, 丸山 泰男, 哲郎 飯島, 成雄 大高
Принадлежит: HITACHI LTD
Опубликовано: 24-04-1986
Автор(ы): Shigeo Otaka, Tetsuo Iijima, Yasuo Maruyama, 丸山 泰男, 哲郎 飯島, 成雄 大高
Принадлежит: HITACHI LTD
Реферат: (57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた め要約のデータは記録されません。
Process for forming power MOSFET device in float zone, non-epitaxial silicon
Номер патента: US6426248B2. Автор: Richard Francis,Chiu Ng. Владелец: International Rectifier Corp USA. Дата публикации: 2002-07-30.