抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合物、制备方法及用途
Номер патента: CN113430065A
Опубликовано: 24-09-2021
Автор(ы): 李国山, 王溯, 蒋闯
Принадлежит: Shanghai Xinyang Semiconductor Material Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-09-2021
Автор(ы): 李国山, 王溯, 蒋闯
Принадлежит: Shanghai Xinyang Semiconductor Material Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Solution for post etch residue removal (perr)
Номер патента: WO2024126549A1. Автор: Andreas Klipp,Haci Osman GUEVENC,Cheng Wei Lin,Mei Chin SHEN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-06-20.