Interconnect structures and methods of fabrication
Номер патента: US09412695B1
Опубликовано: 09-08-2016
Автор(ы): Andreas Knorr, Hiroaki Niimi, Ruilong Xie
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-08-2016
Автор(ы): Andreas Knorr, Hiroaki Niimi, Ruilong Xie
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor devices including backside vias and methods of forming the same
Номер патента: US12040407B2. Автор: Wei-Yang Lee,Chia-Pin Lin,Che-Lun Chang,Yuan-Ching Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.