Semiconductor device having stacked decoupling capacitors
Номер патента: KR100665848B1
Опубликовано: 09-01-2007
Автор(ы): 양향자
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-01-2007
Автор(ы): 양향자
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming semiconductor device having metallization comprising select lines, bit lines and word lines
Номер патента: US20100035386A1. Автор: Jae-Hoon Jang,Soon-Moon Jung,Won-Seok Cho,Young-Chul Jang,Yang-Soo Son,Min-Sung Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-02-11.