具有横向沟道的三维半导体器件及其制造方法
Номер патента: CN104347711B
Опубликовано: 07-05-2019
Автор(ы): 金锡基
Принадлежит: Hynix Semiconductor Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-05-2019
Автор(ы): 金锡基
Принадлежит: Hynix Semiconductor Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Three-dimensional semiconductor device having vertical misalignment
Номер патента: EP4135018A1. Автор: Seunghyun Song,Byounghak Hong,Inchan HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-15.