Apparatuses exhibiting enhanced stress resistance and planarity, and related microelectronic devices and memory devices
Номер патента: US11769738B2
Опубликовано: 26-09-2023
Автор(ы): Chao Wen Wang, Kyle K. Kirby
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-09-2023
Автор(ы): Chao Wen Wang, Kyle K. Kirby
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatuses exhibiting enhanced stress resistance and planarity, and related microelectronic devices and memory devices
Номер патента: US20210296289A1. Автор: Kyle K. Kirby,Chao Wen Wang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-23.