Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Positive type photoresist composition

Номер патента: KR100600639B1
Опубликовано: 14-07-2006
Автор(ы): 강승진, 김상태, 박종원, 양돈식
Принадлежит: 동우 화인켐 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20190369493A1. Автор: Ju-Young Jung,Yeonok KIM,Jung-Hwa Lee,Geun Huh. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2019-12-05.

Positive-type photosensitive resin composition, method for producing semiconductor device including cured film using the same

Номер патента: US09454078B2. Автор: Hiroyuki Onishi,Masao Tomikawa,Yuki Masuda. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2016-09-27.

Positive-type photosensitive siloxane composition

Номер патента: US20150291749A1. Автор: Toshiaki Nonaka,Yuji Tashiro,Takashi Fuke,Daishi Tokoyama. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2015-10-15.

Positive-type photosensitive siloxane composition

Номер патента: US09580567B2. Автор: Toshiaki Nonaka,Yuji Tashiro,Takashi Fuke,Daishi Tokoyama. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2017-02-28.

Positive type photosensitive siloxane composition and cured film using the same

Номер патента: US20200225583A1. Автор: Toshiaki Nonaka,Megumi Takahashi,Naofumi Yoshida,Seishi SHIBAYAMA,Katsuto Taniguchi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20190278178A1. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2019-09-12.

Polymer, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the photoresist composition

Номер патента: US20240043592A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Chanjae Ahn,Jungha Chae,Sungwon Choi,Minyoung HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Photoresist compositions, methods for forming pattern using the same, and methods for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220128905A1. Автор: Jung Min Lee,Jong Hoon Kim,Suk Koo Hong,Eun Shoo Han,Sung An Do,Hong Joon Lee,Seung Chul Kwon,Sin Hae Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-28.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12085855B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Photoacid-generating copolymer and associated photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device

Номер патента: US09581901B2. Автор: James W. Thackeray,Owendi Ongayi,James F. Cameron,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-02-28.

Block copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device

Номер патента: US09815930B2. Автор: James W. Thackeray,Peter Trefonas, III,Ke Du,Idriss Blakey,Andrew Keith WHITTAKER. Владелец: University of Queensland UQ. Дата публикации: 2017-11-14.

Photoresist topcoat compositions and methods of processing photoresist compositions

Номер патента: US20160333212A1. Автор: Deyan Wang,Mingqi Li,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Irvinder Kaur,Doris H. KANG. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-17.

Low outgassing photoresist compositions

Номер патента: US20100062368A1. Автор: Ratnam Sooriyakumaran,Richard A. Dipietro,Sally A. Swanson,Hoa D. Truong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2010-03-11.

Photoresist compositions and methods

Номер патента: US11829069B2. Автор: Ke Yang,Mingqi Li,Cong Liu,Emad Aqad,Amy M. Kwok,Thomas Cardolaccia,Tomas MARANGONI,Joshua Kaitz,Choong-Bong LEE. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-28.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230324796A1. Автор: Ching-Yu Chang,Wei-Han Lai,Li-Po YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Compound, photoresist composition comprising same, photoresist pattern comprising same, and method for manufacturing photoresist pattern

Номер патента: US11834419B2. Автор: Minyoung Lim,Junhyun AN. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230408918A1. Автор: Chien-Chih Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11809077B2. Автор: Chunyi Wu,Mingqi Li,Cong Liu,Gregory P. Prokopowicz,Thomas Cardolaccia,Tomas MARANGONI,Jason A. DeSISTO,Choong-Bong LEE. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Dispersion resin, preparation method therefor and photoresist composition

Номер патента: US20240019781A1. Автор: Xia Yang,Wei Li,Yulong Chen,Meidi ZHONG,Xiangjun YUN,Guangfu REN. Владелец: Shenzhen Brthrborder Semiconductor Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Positive type Chemically amplified-Photoresist composition and method of forming TFT resist pattern using the same

Номер патента: KR101491973B1. Автор: 임철규,차혁진,권경일,박진규,조행규,홍명선. Владелец: (주)휴넷플러스. Дата публикации: 2015-02-11.

Polypeptide, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: EP4194488A1. Автор: Jieun Kim,Joonsong Park,Jinha Kim,Soonchun Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-14.

Process for producing film forming resins for photoresist compositions

Номер патента: MY122854A. Автор: Kudo Takanori,Padmanaban Munirathna,MCKENZIE Douglas,Dalil Rahman M. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2006-05-31.

Polyimide-based polymers, copolymers thereof and positive type photoresist compositions comprising the same

Номер патента: US20120301826A1. Автор: Sang Woo Kim,Kyung Jun Kim,Dong Hyun Oh,Chan Hyo Park,Se Jin Shin,Hye Ran Seong. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2012-11-29.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: EP3566098A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-13.

Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same

Номер патента: PH12019501406A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-08.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20190346765A1. Автор: Akiya Kawaue,Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: US09465292B2. Автор: Haruki Inabe,Hiromi Kobayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US7943284B2. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-17.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20090081580A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-26.

Compound, dissolution inhibitor, positive type resist composition, and method of forming resist pattern

Номер патента: US20110091810A1. Автор: Daiju Shiono,Hideo Hada,Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Taku Hirayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-21.

Positive-type resist composition for liquid immersion lithography and method for forming resist pattern

Номер патента: US20070190448A1. Автор: Kotaro Endo,Keita Ishiduka. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-16.

Positive type photosensitive siloxane composition

Номер патента: SG11201806330UA. Автор: Toshiaki Nonaka,Megumi Takahashi,Daishi Yokoyama,Motoki Misumi. Владелец: Az Electronic Mat Luxembourg Sarl. Дата публикации: 2018-09-27.

Polymeric compounds, chemically amplified positive type resist materials and process for pattern formation

Номер патента: US6048661A. Автор: Jun Hatakeyama,Tsunehiro Nishi,Toshinobu Ishihara,Shigehiro Nagura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2000-04-11.

Positive type photosensitive siloxane composition and cured film formed by using the same

Номер патента: US11860537B2. Автор: Megumi Takahashi,Naofumi Yoshida,Katsuto Taniguchi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-01-02.

Positive type photosensitive siloxane composition

Номер патента: US20190064660A1. Автор: Toshiaki Nonaka,Megumi Takahashi,Daishi Yokoyama,Motoki Misumi. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2019-02-28.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20230244144A1. Автор: Jung-Hwa Lee,Geun Huh,Jong-Ho Na. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Positive type light-sensitive composition

Номер патента: US5212042A. Автор: Akira Umehara,Fumiaki Shinozaki,Sadao Ishige. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1993-05-18.

Positive-type resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher, and polymeric compound

Номер патента: US9766541B2. Автор: Daisuke Kawana,Masatoshi Arai,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound

Номер патента: US20190121233A1. Автор: Akiya Kawaue,Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Polyimide resin and positive-type photosensitive resin comprising the same

Номер патента: US20220244640A1. Автор: Jiyeon SUNG,Minyoung Lim,Hyunsoon LIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method of manufacturing substrate with template, and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200033729A1. Автор: Shota Katayama,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Green photoresist composition, method of preparing the same, color filter, and display device

Номер патента: US09857681B2. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Xiao Sun,Yiming Zhao,Bing Bai. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Photoresist composition for forming an insulation film, insulation film for organic electroluminescence devices and process for producing the insulation film

Номер патента: US7008883B2. Автор: Motofumi Kashiwagi,Noriyuki Mitao. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2006-03-07.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240241437A1. Автор: Young Keun Kim,Dong Wan RYU,Changsoo Woo,Sukil Kang,Seol Hee Lim,Eunmi Kang,Soobin Lim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Novel organotin silicate compounds, preparation methods thereof and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20240228518A1. Автор: Hyun Tae Jung,Hyun Dam Jeong,Seung Hwan KANG,Ji Young Bang,Yu Sun WON. Владелец: JSI SILICONE CO. Дата публикации: 2024-07-11.

Photoresistive composition of a highly sensitive positive electron resist

Номер патента: RU2692678C1. Автор: Юрий Николаевич Колмогоров,Михаил Михайлович Джонс. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Поликетон". Дата публикации: 2019-06-26.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US12013635B2. Автор: Seung Han,Seungyong Chae,Jaehyun Kim,Changsoo Woo,Jimin Kim,Hwansung CHEON,Eunmi Kang,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240255848A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Ji Young Park,Geun Su Lee,Sung Jae Jung,Seungyeol Baek,Yeon Hee Seong,Chawon KOH,Moo Hyun KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Photoresist composition for forming insulation film, insulation film for organic electroluminescence element and method for its formation

Номер патента: EP1321821A4. Автор: Motofumi Kashiwagi,Noriyuki Mitao. Владелец: Nippon Zeon Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240288771A1. Автор: Honggu IM,Seonghyeon Ahn,Ji Cheol PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-29.

Photoresist composition including photosensitive polymer and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20240302742A1. Автор: Songse YI,Yoonhyun Kwak,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,Sungwon Choi,Jeong Ho MUN,Hogeun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

Номер патента: US09482948B2. Автор: Deyan Wang,Rosemary Bell,Young Cheol Bae,Thomas Cardolaccia,Seokho KANG. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the photoresist composition

Номер патента: US20240199540A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Haengdeog Koh,Hana Kim,Hyeran Kim,Changheon Lee,Hoyoon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Photoresist composition and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240231222A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Haeng Deog Koh,Jaemyoung Kim,Sunghyun HAN,Sukkoo Hong,Kyungoh KIM,Moo Hyun KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Photoresist composition and photoresist film using the same

Номер патента: US20200033727A1. Автор: Min Young Lim,Yongsik AHN,Yongmi KIM. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Polypetide, photoresist composition including the same, and method of forming pattern using the same

Номер патента: US12024540B2. Автор: Jieun Kim,Joonsong Park,Jinha Kim,Ginam Kim,Soonchun Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-02.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the photoresist composition

Номер патента: US20240094633A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Carboxylate salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the photoresist composition

Номер патента: EP4332083A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Youngmin Nam,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-06.

Organic salt, photoresist composition including the same, and method of forming pattern by using the same

Номер патента: US20240255847A1. Автор: Sunyoung Lee,Yoonhyun Kwak,Hana Kim,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Hoyoon PARK,Minyoung HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Multiple trigger photoresist compositions and methods

Номер патента: US20180246408A1. Автор: Andreas Frommhold,Dongxu Yang,Alexandra Mcclelland,John Roth,Alex Phillip Graham Robinson. Владелец: Irresistible Materials LTD. Дата публикации: 2018-08-30.

Multiple trigger photoresist compositions and method

Номер патента: WO2018156247A1. Автор: Dongxu Yang,Alexandra Mcclelland,John L. Roth,Alex P.G. ROBINSON,Andeas FROMMHOLD. Владелец: Roth John L. Дата публикации: 2018-08-30.

Method of manufacturing integrated circuit device using a metal-containing photoresist composition

Номер патента: US12112948B2. Автор: Kumagai Tomoya,Tsunehiro Nishi,Brian Cardineau,SooYoung CHOI,Chawon KOH,Soyeon Yoo,Kwangsub Yoon. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240345478A1. Автор: Young Keun Kim,Seol Hee Lim,Eunmi Kang,Soobin Lim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12135502B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Polyether compound, method for preparing same and photoresist composition

Номер патента: US09541833B2. Автор: Xuelan WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Positive-working photoresist composition for thick film formation

Номер патента: US09436084B2. Автор: Toshiki Okui,Koichi Misumi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Acrylic acid ester derivative and method for producing same, intermediate and method for producing same, high-molecular-weight compound, and photoresist composition

Номер патента: US09395625B2. Автор: Osamu Nakayama,Takashi Fukumoto,Akinobu Takeda. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Organic salt, photoresist composition including the same, and pattern formation method using the same

Номер патента: US20240201588A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Hana Kim,Beomseok Kim,Hyeran Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US20160103391A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Polymers for use in photoresist compositions

Номер патента: EP2197924A2. Автор: Takanori Kudo,Munirathna Padmanaban,Muthiah Thiyagarajan,Srinivasan Chakrapani,David L. Rentkiewicz. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2010-06-23.

Photoacid generator and photoresist composition including the same

Номер патента: US20230130998A1. Автор: Hyunwoo Kim,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

Photoresist polymer and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20060022297A1. Автор: Min Son. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-02-02.

Photoresist composition

Номер патента: US20240255845A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Jiyoung Park,Wonjoon SON,Seungyeol Baek,Chawon KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-01.

Diazo-resin, photoresist composition and method of preparing same

Номер патента: US20160334704A1. Автор: Jianguo Wang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-17.

Salt compound and quencher, photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20240337930A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Resin, and arf dry photoresist composition comprising same and application

Номер патента: US20240302749A1. Автор: Su Wang,Sen Xu,Yiming Lin,Shunong Fang. Владелец: China Advanced Lithographic Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Polymerizable oligomer and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20160137758A1. Автор: LIN Li,Wenwen SUN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-19.

Photoacid generator, photoresist composition and method for forming photoresist pattern using the same

Номер патента: US20240337929A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Jeongmin Ha,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo,Chanhyuk JI,Gyeonghun JANG. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Salt compound, and quencher and photoresist composition comprising same

Номер патента: EP4450486A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Novel photoacid generator, photoresist composition, and photoresist pattern formation method

Номер патента: EP4451061A1. Автор: Jeong Sik Kim,Jaehyun Kim,Hyung Kun Lee,Jeongmin Ha,Myoung Hyun HUR,Min Ja Yoo,Chanhyuk JI,Gyeonghun JANG. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Fluorenyl β-oxime ester compounds, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same

Номер патента: US09873663B2. Автор: Min-Sun Lee,Yong-Il Cho,Sang-Oh Lee,Kun Jun,Jong-Il SHIN,Chun-Rim Oh,Won-Jung LEE,Seung-Rim SHIN. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Photoresist composition and method of manufacturing substrate for display device by using the same

Номер патента: US09851635B2. Автор: CHANGHOON Kim,Hoon Kang,Wooyong Sung,JaeHyuk Chang,Younsuk Kim,Sanghyun Yun,Jungin Park,Chadong Kim,Kibeom Lee,Hikuk Lee,Deokman Kang,Saetae Oh. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2017-12-26.

Acid-labile hyperbranched copolymer and associated photoresist composition and method of forming an electronic device

Номер патента: US09758610B2. Автор: John W. Kramer. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2017-09-12.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US09606434B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-03-28.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US09575408B2. Автор: Koji Ichikawa,Mitsuyoshi OCHIAI. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Photoresist composition, compound and process of producing photoresist pattern

Номер патента: US09563123B2. Автор: Koji Ichikawa,Shingo Fujita,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US09557642B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-01-31.

Photoresist composition, resist pattern-forming method, acid diffusion control agent, and compound

Номер патента: US09557641B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US09551930B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-01-24.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US09527936B2. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-12-27.

Polymerizable oligomer and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US09512242B2. Автор: LIN Li,Wenwen SUN. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Photoresist composition, compound, and production method thereof

Номер патента: US09477149B2. Автор: Norihiko Ikeda,Hayato Namai,Takanori Kawakami. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Photoresist compositions and method of preparing the same

Номер патента: US9657123B2. Автор: JI Li,Yungjui LEE. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Photoresist compositions

Номер патента: GB1360217A. Автор: . Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1974-07-17.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11940730B2. Автор: Mingqi Li,Mitsuru Haga. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Monomers, polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

Номер патента: US20130011783A1. Автор: Yi Liu,Matthias S. Ober,Seung-Hyun Lee,Young Cheol Bae,Jong Keun Park. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2013-01-10.

Fluorine-containing styrene acrylate copolymers and use thereof in lithographic photoresist compositions

Номер патента: US20020164538A1. Автор: Robert Allen,Hiroshi Ito,Phillip Brock,Gregory Wallraff. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-11-07.

Isolation of novolak resin without high temperature distillation and photoresist composition therefrom

Номер патента: US6090533A. Автор: Ping-Hung Lu,M. Dalil Rahman. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Polymer mixture for a photoresist composition

Номер патента: GB2336591A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-10-27.

Fluorinated vinyl ethers, copolymers thereof, and use in lithographic photoresist compositions

Номер патента: US20060275701A1. Автор: Hiroshi Ito,Richard DiPietro. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-12-07.

Novel naphthalimide sulfonate derivative, and photoacid generator and photoresist composition each comprising same

Номер патента: US20240085786A1. Автор: Min Jung Kim,Won Jung Lee,Chun Rim Oh,Ji Eun Choi,Ki Tae Kang,Dae Hyuk Choi,Deuk Rak LEE,Chi Wan LEE,Yu Na CHOI. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20220197138A1. Автор: Seung Han,Seungyong Chae,Jaehyun Kim,Changsoo Woo,Jimin Kim,Hwansung CHEON,Eunmi Kang,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patters using the composition

Номер патента: US20240168375A1. Автор: Minyoung Lee,Seung Han,Jimin Kim,Gyeong Ryeong Bak,Yaeun Seo,Sangkyun IM. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240176234A1. Автор: Minyoung Lee,Seungyong Chae,Jimin Kim,Yaeun Seo,Sangkyun IM,Taegeun SEONG. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Fractionated novolak resin from cresol-formaldehyde reaction mixture and photoresist composition therefrom

Номер патента: WO1998027129A1. Автор: Ping-Hung Lu,M. Dalil Rahman,Michelle Cook. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD.. Дата публикации: 1998-06-25.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240134273A1. Автор: Young Keun Kim,Dong Wan RYU,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Photoresist composition and polymer

Номер патента: RU2194295C2. Автор: Брайен Л. Гудол,Сайкумар Джаяраман,Ларри Ф. Роудез,Роберт Э. Шик. Владелец: З Би. Эф. Гудрич Кампэни. Дата публикации: 2002-12-10.

Chemically amplified photoresist composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20100330497A1. Автор: Takashi Hiraoka,Koji Ichikawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-30.

Dissolution inhibitor of chemically amplified photoresist and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6165680A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-12-26.

Positive photoresist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: WO2005007719A2. Автор: Toshiki Okui,Yasuo Masuda. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2005-01-27.

Alkylsulfonium salts and photoresist compositions containing the same

Номер патента: US5635332A. Автор: Shigeyuki Iwasa,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-06-03.

Positive working photoresist composition

Номер патента: US5554481A. Автор: Yasumasa Kawabe,Toshiaki Aoai,Kenichiro Satoh. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-09-10.

Copolymer, photoresist compositions thereof and deep UV bilayer system thereof

Номер патента: US6916543B2. Автор: Sanjay Malik,Binod B. De,Ognian N. Dimov,Stephanie J. Dilocker. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2005-07-12.

Process for producing a photoresist composition having a reduced tendency to produce particles

Номер патента: MY121042A. Автор: Joseph E Oberlander,M Dalil Rahman,William C Nelson,Michelle M Cook. Владелец: Az Electronic Materials Japan. Дата публикации: 2005-12-30.

Novel naphthalimide sulfonate derivative, and photoacid generator and photoresist composition which comprise same

Номер патента: US20230331680A1. Автор: Min Jung Kim,Won Jung Lee,Chun Rim Oh,Ji Eun Choi,Dae Hyuk Choi,Deuk Rak LEE,Yu Na CHOI. Владелец: Samyang Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Modified epoxy acrylate, photoresist composition and method for producing the same, transparent photoresist

Номер патента: US9772553B2. Автор: Xuelan WANG,Haifeng Zhou. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Photoresist compositions

Номер патента: US20210380612A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Seung Han,Kunwoo BAEK,Jaehyun Kim,Moonil Jung,Mijeong Song,Chawon KOH. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230384673A1. Автор: Ching-Yu Chang,Yen-Hao Chen,Wei-Han Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Resin, photoresist composition, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230393467A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Siao-Shan Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230393464A1. Автор: Ching-Yu Chang,Li-Po YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Photoresist compositions for euv and methods for manufacturing semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230229083A1. Автор: Hyunwoo Kim,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,JinJoo Kim,Ji Yup KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Photoresist compositions and methods of manufacturing integrated circuit device using the same

Номер патента: US20220252976A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Hyunwoo Kim,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-08-11.

Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition

Номер патента: US20230212112A1. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-07-06.

Photoresist composition, coated substrate including the photoresist composition, and method of forming electronic device

Номер патента: US11960206B2. Автор: Emad Aqad,William Williams, III,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-16.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US11971659B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Chun-Chih Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Photoacid-generating monomer, polymer derived therefrom, photoresist composition including the polymer, and method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition

Номер патента: US11947258B2. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Photoresist composition

Номер патента: US20130316287A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Photosensitizing compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230060954A1. Автор: Hyun-Ji SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Photo-decomposable compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230120542A1. Автор: Songse YI,Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Hyunji SONG,Sumin KIM,Yechan KIM,JinJoo Kim,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-20.

Photo-decomposable compound, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230131429A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,SungHwan Park,JinJoo Kim,Giyoung Song,Jiyup KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20230384667A1. Автор: Minyoung Lee,Jaeyeol Baek,Changsoo Woo,Jimin Kim,Seol Hee Lim,Yaeun Seo,Sumin Jang,Eunmi Kang,Soobin Lim,Jaebum Lim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20210311387A1. Автор: Seung Han,Seungyong Chae,Ran Namgung,Taeho Kim,Jaehyun Kim,Changsoo Woo,Jimin Kim,Hwansung CHEON,Eunmi Kang,Kyungsoo MOON. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Photoresist composition including a chrysene compound, method of forming a pattern using the same, and method of fabricating 6-nitrochrysene

Номер патента: US20230357123A1. Автор: Juhee Kim,Young Gyu Kim,Hong Won Lee,Jonghoon Kim,Sunah Lee,Suk Koo Hong,Gumhye Jeon,Hae Min Yang,Jooyoung Song,Ahhyun LEE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Photosensitive compound and photoresist composition including the same

Номер патента: US20090081587A1. Автор: Jae-Woo Lee,Jae-Hyun Kim,Min-Ja Yoo,Young-Bae Lim,Jun-Gyeong Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-26.

Photoacid-generating compound and associated polymer, photoresist composition, and method of forming a photoresist relief image

Номер патента: US20180095363A1. Автор: Emad Aqad. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-04-05.

Compound and photoresist composition containing the same

Номер патента: US8475999B2. Автор: Mitsuhiro Hata,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-02.

Salt and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20100304294A1. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA,Masako Sugihara. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-02.

Styryl compounds, process for preparing the same and photoresist compositions comprising the same

Номер патента: CA1329599C. Автор: Takanori Yamamoto,Takeshi Hioki,Shinji Konishi,Ryotaro Hanawa,Akihiro Furuta,Jun Tomioka. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-05-17.

Cross-linker for photoresist and photoresist composition comprising the same

Номер патента: GB2344104A. Автор: Hyeong Soo Kim,Jae Chang Jung,Ki Ho Baik,Jin Soo Kim,Keun Kyu Kong,Myoung Soo Kim,Hyoung Gi Kim. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2000-05-31.

Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups

Номер патента: EP1021750A1. Автор: Brian L. Goodall,Larry F. Rhodes,Saikumar Jayaraman,Robert David Allen,Thomas Wallow,Robert A. Shick,Richard Anthony Di Pietro. Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 2000-07-26.

Photoresist composition for deep UV and process thereof

Номер патента: US7537879B2. Автор: M. Dalil Rahman,Munirathna Padmanaban,Ralph R. Dammel,Andrew R. Romano,Francis M. Houlihan. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2009-05-26.

Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups

Номер патента: US6136499A. Автор: Brian L. Goodall,Larry F. Rhodes,Saikumar Jayaraman,Robert A. Shick. Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 2000-10-24.

Photosensitive polymer compound and photoresist composition containing the same

Номер патента: GB2316085A. Автор: Sang-jun Choi,Young-bum Koh,Chun-Geun Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-18.

Negative photoresist composition

Номер патента: CA2100392A1. Автор: Yuko Nakano,Hiromi Ueki,Yuji Ueda,Takehiro Kusumoto,Naoki Takeyama. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-02-21.

Copolymers and photoresist compositions comprising copolymer resin binder component

Номер патента: US5861231A. Автор: James W. Thackeray,Hiroshi Ito,George G. Barclay,Michael F. Cronin,Ronald A. Dellaguardia,Greg Breyta. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 1999-01-19.

Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups

Номер патента: WO1997033198A1. Автор: Brian L. Goodall,Larry F. Rhodes,Saikumar Jayaraman,Robert A. Shick. Владелец: The B.F. Goodrich Company. Дата публикации: 1997-09-12.

Polymers for photoresist and photoresist compositions including the same

Номер патента: US20230123035A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juhyeon Park,Su Min Kim,Suk Koo Hong,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-20.

Novel fluorine-containing monomeric ester compound for base resin in photoresist composition

Номер патента: US20020115883A1. Автор: Hiroshi Komano,Toshiyuki Ogata,Kotaro Endo. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Acetal group-containing alkoxy-styrene polymers, method of preparing the same and chemical amplified photoresist composition mainly comprising the same

Номер патента: US5665841A. Автор: Seong-Ju Kim,Ji-Hong Kim,Joo-Hyeon Park,Sun-Yi Park. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Brush polymer, photoresist composition including the same, and method of manufacturing integrated circuit device

Номер патента: US20230194985A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juyoung Kim,Sumin KIM,Suk Koo Hong,Yechan KIM,Jicheol PARK,JinJoo Kim,Giyoung Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Acetal-based compound, acetal-based prepolymer, acetal-based polymer, and photoresist composition comprising the same

Номер патента: US20230174471A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Myungwoong Kim,Chanjae Ahn,Sol AN. Владелец: Inha University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Photoresist composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20130089817A1. Автор: Hiromitsu Nakashima,Masafumi Yoshida,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-04-11.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US20160195809A1. Автор: Koji Ichikawa,Mitsuyoshi OCHIAI. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-07.

Photoacid generator and photoresist composition including the same

Номер патента: US20180031967A1. Автор: Hyo-Sung Lee,Suk-Koo Hong,Gum-hye JEON,Kyoung-Yong Cho,Mi-yeong KANG,Gun-Woo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-01.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US20230324791A1. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US11693315B2. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-04.

Photoacid generator, photoresist composition including the same, and method of preparing the photoacid generator

Номер патента: US11982940B2. Автор: Sunyoung Lee,Hyunwoo Kim,Yoonhyun Kwak,Eunkyung LEE,Aram JEON,Juhyeon Park,Youngmin Nam,Byunghee SOHN,Sungwon Choi,Sumin KIM,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Photoresist composition and method of manufacturing substrate for display device by using the same

Номер патента: US20160018731A1. Автор: CHANGHOON Kim,Hoon Kang,Wooyong Sung,JaeHyuk Chang,Younsuk Kim,Sanghyun Yun,Jungin Park,Chadong Kim,Kibeom Lee,Hikuk Lee,Deokman Kang,Saetae Oh. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-01-21.

Photoresist compositions and methods of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20230152694A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juhyeon Park,Sumin KIM,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM,SungHwan Park,JinJoo Kim,Giyoung Song,Sukkoo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-18.

Acetal-based compound, acetal-based prepolymer, acetal-based polymer, and photoresist composition comprising the same

Номер патента: EP4194438A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Myungwoong Kim,Chanjae Ahn,Sol AN. Владелец: Inha University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-06-14.

Positive photoresist composition containing naphthoquinone diazide phosphazene esterification product

Номер патента: US5523191A. Автор: Seong-Ju Kim,Hosull Lee,Ki-Dae Kim,Dae Y. Lee. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1996-06-04.

Photoresist polymer and photoresist composition including the same

Номер патента: US20230194987A1. Автор: Hyunwoo Kim,Juhyeon Park,Hyunji SONG,Sumin KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Photoresist compositions and methods

Номер патента: US20170090283A1. Автор: Eui-Hyun Ryu,Min-Kyung Jang,Dong-Yong Kim,Chang-Young Hong. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

Номер патента: US20160102157A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Photoresist composition

Номер патента: US20200218153A1. Автор: Tae Seob LEE,Hyun Min PARK,Minyoung Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

Номер патента: US20160103392A1. Автор: James W. Thackeray,James F. Cameron,Amy M. Kwok,Paul J. LaBeaume,Suzanne M. Coley,David A. Valeri,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-04-14.

Two-step photoresist compositions and methods

Номер патента: WO2016086236A2. Автор: Andreas Frommhold,Alex Phillip Graham Robinson,Allen Brown,Tom Lada. Владелец: Tom Lada. Дата публикации: 2016-06-02.

Two-Step Photoresist Compositions and Methods

Номер патента: US20150241773A1. Автор: Alex Philip Graham Robinson,Andreas Frommhold,Thomas Lada,Alan G. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-08-27.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20190369493A1. Автор: Ju-Young Jung,Yeonok KIM,Jung-Hwa Lee,Geun Huh. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2019-12-05.

Positive-type photosensitive resin composition, and method for formation of cured film using the same

Номер патента: CN101809503B. Автор: 泷田敏. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-09-05.

COMPOSITIONS FOR LITHOGRAPHIC PRINT IRON SENSITIVE TO THE POSITIVE TYPE HEAT.

Номер патента: ES2295566T3. Автор: Giuseppe Li Bassi,Marco Visconti,Gabriele Norcini,Stefano Romagnano. Владелец: LAMBERTI SPA. Дата публикации: 2008-04-16.

Positive type photoresist composition, coating film thereof and novolac type phenol resin

Номер патента: JP5152447B2. Автор: 知之 今田,孝和 鹿毛,規史 今泉. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2013-02-27.

Polymer of polyimide precursor, positive type photosensitive resin composition, negative type photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic parts

Номер патента: US20180275513A1. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Polymer of polyimide precursor, positive type photosensitive resin composition, negative type photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic parts

Номер патента: EP3398983B1. Автор: Katsuya Takemura,Masashi Iio,Hiroyuki Urano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Photoresist composition for green color filter

Номер патента: US09678257B2. Автор: Hyunjin Kim,Sunwoo Kang,Daewon Lee,Chul Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYSILOXANE COMPOSITION

Номер патента: US20220146938A1. Автор: Yoshida Naofumi,Fuke Takashi,NOYA Atsuko. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

Positive type photosensitive organic compound, the manufacture method of pattern cured film, pattern cured film and electronic unit

Номер патента: CN107430334A. Автор: 松川大作,榎本哲也. Владелец: HITACHI CHEM DUPONT MICROSYS. Дата публикации: 2017-12-01.

Positive-type photosensitive resin composition and insulation layer formed from the same

Номер патента: KR102383695B1. Автор: 최화섭,김성빈,장석운. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2022-04-05.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: KR20220093540A. Автор: 정주영,이은영,임진규. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2022-07-05.

Positive type resist material with dry etching resistance

Номер патента: JPS57122430A. Автор: Katsuyuki Harada. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1982-07-30.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US11226558B2. Автор: Eun-young Lee,Geun Huh,Jong-Ho Na,Kahee SHIN. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2022-01-18.

Positive-type resist composition and method for formation of resist pattern

Номер патента: WO2008081731A1. Автор: Daiju Shiono,Takako Suzuki. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2008-07-10.

Alkali-soluble siloxane polymer, positive type resist composition, resist pattern, process for forming the same, electronic device and process for manufacturing the same

Номер патента: US20050221227A1. Автор: Keiji Watanabe,Fumi Yamaguchi,Shoichi Suda,Michitaka Morikawa,Isao Yahagi,Miwa Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-10-06.

Positive-type resist composition, and method for production of microlens

Номер патента: EP2302456A4. Автор: Takahiro Sakaguchi,Hiroyuki Soda,Takahiro Kishioka,Shojiro Yukawa. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-01-04.

A positive-type photosensitive resin composition, and a method of forming a pattern using the composition

Номер патента: TWI408501B. Автор: Chun An Shih,kai min Chen. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2013-09-11.

Positive-type resist composition and method for production of microlens

Номер патента: KR20110031238A. Автор: 타카히로 키시오카,히로유키 소다,타카히로 사카구치,쇼지로 유카와. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2011-03-24.

Positive type photosensitive resin composition, method for forming cured film, cured film, liquid crystal display device, and organic el display device

Номер патента: KR101945752B1. Автор: 마사노리 히키타,다카시 가와시마,겐타 야마자키,데츠야 시모야마. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-02-11.

Positive-type photosensitive electrodeposition coating composition

Номер патента: CA2044986A1. Автор: Naozumi Iwasawa,Junichi Higashi,Yuw Akaki. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1991-12-21.

Heat-conducting type photoresist

Номер патента: CN109212904A. Автор: 黄堂杰,庄维仲. Владелец: Microcosm Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-15.

Binder resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: US11687002B2. Автор: Sumin Park,Minyoung Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Binder resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: US20220043349A1. Автор: Sumin Park,Minyoung Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2022-02-10.

Positive type photosensitive silicone composition

Номер патента: TWI595321B. Автор: Toshiaki Nonaka,Yuji Tashiro,Daishi Yokoyama,Takashi Fuke. Владелец: Az Electronic Mat (Luxembourg) S A R L. Дата публикации: 2017-08-11.

Positive type cresol-novolak photoresist composition

Номер патента: JPS6042753A. Автор: 泰弘 亀山,Tameichi Ochiai,Yasuhiro Kameyama,Ryuichiro Takasaki,Konoe Miura,龍一郎 高崎,三浦　近衛,落合　為一. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1985-03-07.

Positive-type non-return valve

Номер патента: CA2103068C. Автор: Robert F. Dray. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-11-02.

Positive type planographic printing plate precursor and method of producing planographic printing plate

Номер патента: US20190176459A1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-06-13.

Positive type image-forming material and planographic printing plate precursor

Номер патента: EP1236569B1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Ippei Nakamura,Akio Oda. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-31.

Positive type image-forming material and planographic printing plate precursor

Номер патента: EP1236569A3. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Ippei Nakamura,Akio Oda. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-12.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240280903A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Photoresist composition, system comprising a photoresist composition, method for producing a three-dimensional structure, and use of a photoresist composition in 3d-printing

Номер патента: WO2023073034A1. Автор: Martin Wegener,Vincent Hahn,Tobias Messer. Владелец: KARLSRUHER INSTITUT FUR TECHNOLOGIE. Дата публикации: 2023-05-04.

Process for coating a photoresist composition onto a substrate

Номер патента: WO1990011837A1. Автор: Ivan S. Daraktchiev. Владелец: Olin Hunt Specialty Products Inc.. Дата публикации: 1990-10-18.

Photoresist composition and method of forming a metal pattern using the same

Номер патента: US20140076847A1. Автор: Tae-gyun Kim,Jeong-Won Kim,Chul-Won PARK,Jin-Ho Ju,Dong-Min Kim,Eun Jeagal,Min Kang,Hyun-Joo Lee,Won-Young Lee,Bong-Yeon Kim,Jun-Hyuk WOO,Joo-Kyoung Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20230341780A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Photoresist composition and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US11966162B2. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Tzu-Yang Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE TYPE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND METHOD OF PREPARING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20190094694A1. Автор: NOZAKI Atsuyasu,YASUHARA Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

The production method of positive type photosensitive organic compound, eurymeric Driginal plate of plate-printing board and plate printing plate

Номер патента: CN109416510A. Автор: 野崎敦靖,安原祐一,安原祐. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-03-01.

Positive type planographic printing plate precursor and method of preparing planographic printing plate

Номер патента: EP3557324B1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-11.

Composition for positive type photoresist

Номер патента: US6447975B1. Автор: Jin-Ho Ju,Ki-Soo Kim,Yu-Kyung Lee,Hong-Sik Park,Sung-Chul Kang,Yun-Jung Nah. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-09-10.

Chemically-amplified-type negative-type photoresist composition

Номер патента: US20190137871A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Process for resist pattern formation using positive electrodeposition photoresist compositions

Номер патента: US5702872A. Автор: Naozumi Iwasawa,Genji Imai,Tsuguo Yamaoka. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-30.

Positive type photosensitive siloxane composition and cured film formed by using the same

Номер патента: SG11201909268PA. Автор: Megumi Takahashi,Naofumi Yoshida,Katsuto Taniguchi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-28.

Positive-type display device using guest-host type mixture of liquid crystals and dyes

Номер патента: US4291949A. Автор: Masanobu Wada,Tatsuo Uchida,Toru Teshima. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-09-29.

Direct positive type silver halide photographic material comprising a mixture of dyes

Номер патента: US5547828A. Автор: Takanori Hioki,Toyohisa Oya,Shingo Nishiyama. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-08-20.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: EP3948418A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-02-09.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20060223010A1. Автор: Takayuki Tsuji,Daisuke Shimizu,Tomoki Nagai,Kentarou Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-05.

Positive-type photosensitive resin composition, method for production of resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: US09786576B2. Автор: Hiroshi Matsutani,Ken Nanaumi,Takumi Ueno,Alexandre Nicolas. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick-film application

Номер патента: US09448478B2. Автор: Makiko Irie,Yuta Yamamoto,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Direct positive-type multi-layer light-sensitive material

Номер патента: US3854953A. Автор: H Ueda,A Sato,K Shiba,H Amano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1974-12-17.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick film

Номер патента: US09977328B2. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and OLED formed using the same

Номер патента: US09921476B2. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2018-03-20.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US09557651B2. Автор: Yasushi Washio,Takahiro Shimizu,Shota Katayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-30.

Positive-Type Resist Composition

Номер патента: US20140134542A1. Автор: Yoshiharu Terui,Takashi Mori,Haruhiko Komoriya. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-15.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A0. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-08-20.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: US20220163888A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-05-26.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104989A1. Автор: Kenta WATANABE,Tomohide Katayama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Thick film chemically amplified positive type resist composition and method for manufacturing resist film using the same

Номер патента: WO2024104940A1. Автор: Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Positive type resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: WO2020193686A1. Автор: Rui Zhang,Tomohide Katayama,Kazumichi Akashi,Yoshiko URABE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-10-01.

Procede de realisation d'un detecteur photoelectrique du type photoresistance de grande sensibilite

Номер патента: FR2577668A1. Автор: Didier Decoster,Renaud Fauquembergue,Monique T Constant. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 1986-08-22.

Positive type lift-off resist composition and method for manufacturing resist pattern using the same

Номер патента: WO2023156419A1. Автор: Hiroshi Hitokawa,Tomotsugu YANO,Yusuke Hama. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-08-24.

Direct positive type silver halide photosensitive material

Номер патента: US4395483A. Автор: Yoshiaki Suzuki,Terumi Matsuda,Shigenori Moriuchi,Shoji Ishiguro. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1983-07-26.

Positive-type photosensitive electrodeposition coating composition and process for producing circuit plate

Номер патента: US5134054A. Автор: Naozumi Iwasawa,Junichi Higashi. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1992-07-28.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and oled formed using the same

Номер патента: WO2013048069A9. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2013-09-19.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template and method of manufacturing plated article

Номер патента: US20200142307A1. Автор: Yasuo Masuda,Akiya Kawaue,Shota Katayama,Aya Momozawa,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA,Kohei Fukumoto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing substrate with template, and method for manufacturing plated article

Номер патента: US20180259853A1. Автор: Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-13.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: PH12018501573A1. Автор: Tadamitsu Nakamura,Daisaku Matsukawa. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2019-04-15.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: WO2003085455A3. Автор: Joseph E Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F Wanat,Robert R Plass. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-05-21.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: EP1497697A2. Автор: Joseph E. Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F. Wanat,Robert R. Plass. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2005-01-19.

Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents

Номер патента: WO2003085455A2. Автор: Joseph E. Oberlander,Douglas McKenzie,Stanley F. Wanat,Robert R. Plass. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. Дата публикации: 2003-10-16.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile and resolution

Номер патента: EP4369099A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Ycchem Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Black photoresist composition, method of preparing the same, color filter, and display device

Номер патента: US20160259241A1. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Xiao Sun,Yiming Zhao,Bing Bai. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-08.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US20160266489A1. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09817311B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Black photoresist composition, method of preparing the same, color filter, and display device

Номер патента: US09529256B2. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Xiao Sun,Yiming Zhao,Bing Bai. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Resist pattern-forming method, substrate-processing method, and photoresist composition

Номер патента: US09417527B2. Автор: Motoyuki Shima,Ryu Matsumoto,Yuji Yada,Yuichiro KATSURA,Ken Nakakura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Photoresist composition, method for preparing the same, and patterning method

Номер патента: US11762290B2. Автор: Teng ZHANG,Kejun LU,Daeyoun Park,Fanhua HU. Владелец: Beijing Asahi Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Photoresist composition, method for preparing the same, and patterning method

Номер патента: US20210096463A1. Автор: Teng ZHANG,Kejun LU,Daeyoun Park,Fanhua HU. Владелец: Beijing Asahi Electronic Materials Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: US20040253541A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-12-16.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: US7144662B2. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-05.

Photoresist composition having a high heat resistance

Номер патента: WO2003034151A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2003-04-24.

I-line negative photoresist composition for reducing height difference between center and edge and reducing ler, and i-line negative photoresist composition for improving process margin

Номер патента: US20230350293A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Negative tone developer compatible photoresist composition and methods of use

Номер патента: US09921478B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

Номер патента: US09482945B2. Автор: Deyan Wang,Cecily Andes,Jong Keun Park,Christopher Nam LEE. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of forming plated product using negative photoresist composition and photosensitive composition used therein

Номер патента: EP1761823A1. Автор: Yasuo Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. MASUDA,Yasushi Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. WASHIO,Koji Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. SAITO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-14.

Photoresist compositions

Номер патента: WO2004088424A3. Автор: J Neville Eilbeck. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-12-23.

Photoresist composition

Номер патента: US09726975B2. Автор: Xuelan WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Photoresist composition for forming a color filter and method of manufacturing a substrate for a display device

Номер патента: US8883377B2. Автор: Yun-Ho LEE,Sang-Hun Lee,Sun-Young Chang,Yui-Ku Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Photoresist compositions and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20200348594A1. Автор: Soo Young Choi,Tsunehiro Nishi,Brian Cardineau,Sangyoon Woo,Chawon KOH,Jason Stowers. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Copolymer with acid-labile group, photoresist composition, coated substrate, and method of forming an electronic device

Номер патента: US20150177614A1. Автор: James W. Thackeray,Owendi Ongayi,Suzanne Coley,James F. Cameron,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-06-25.

Photoresist composition and method for forming a metal pattern

Номер патента: US20140183162A1. Автор: Hoon Kang,Jae-Sung Kim,Ki-hyun Cho,Dong-Min Kim,Eun Jeagal,Seung-Ki Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-03.

Photoresist composition for the formation of thick films

Номер патента: WO2004083962A3. Автор: Stephen Meyer,Ralph R Dammel,Mark A Spak. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-12-02.

Photoresist composition and use thereof

Номер патента: US20240280901A1. Автор: Dongxu Yang,XIAN Peng,Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Changtao WANG,Kaixin SU. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2024-08-22.

Photoresist composition for deep ultraviolet lithography

Номер патента: US20070172762A1. Автор: Ralph Dammel,Raj Sakamuri,Francis Houlihan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-26.

Method of forming plated product using negative photoresist composition

Номер патента: EP1761823B1. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio,Yasuo Masuda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-21.

Positive-working chemical-amplification photoresist composition

Номер патента: US20020028407A1. Автор: Kazufumi Sato,Katsumi Oomori,Hiroto Yukawa,Ryusuke Uchida. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-07.

Photoresist compositions

Номер патента: US20030180657A1. Автор: James Cameron,James Thackeray,Gary Teng. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-09-25.

Photoresist compositions and methods for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230130025A1. Автор: Tsunehiro Nishi,Ji Young Park,Min Young Lee,Chang Soo Woo,Cha Won Koh,Hyun Jae Lee,Dong Il Shin. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Photoreactive polymer compound, photoresist composition comprising the same, and method of forming pattern by using the photoresist compound

Номер патента: US20240319595A1. Автор: Yoonhyun Kwak,Kyuhyun IM,Minsang Kim,Haengdeog Koh,Hana Kim,Chanjae Ahn,Sungwon Choi,Beomseok Kim,Hyeran Kim,Hoyoon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Organic salt, photoresist composition including the same and method of forming pattern by using the photoresist pattern

Номер патента: US20240337928A1. Автор: Songse YI,Aram JEON,Youngmin Nam,Haengdeog Koh,Hana Kim,Jungha Chae,Hyeran Kim,Giyoung Song,Sukkoo Hong,Changheon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240345477A1. Автор: Young Keun Kim,Dong Wan RYU,Sukil Kang,Seol Hee Lim,Soobin Lim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Photoresist composition and color filter manufacturing method

Номер патента: US09880465B2. Автор: Yueyan Zhang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Low surface energy photoresist composition and process

Номер патента: US09746776B2. Автор: Hjalti Skulason,Raia Finc,Ines Wyrsta,Smita Dayal,Steven Donald Dascomb. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2017-08-29.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20240241438A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Sung Hwan Park,Juhyeon Park,Sungmin KO,Sounghyun Jun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Photoresist compositions, methods of forming patterns and methods of manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20170176859A1. Автор: Boo-Deuk Kim,Jung-Hoon Lee,Youn-Soo Kim,Soo-Young Kim,Jae-Hee Choi,Joon-Je LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-22.

Polymers and photoresist compositions comprising electronegative groups

Номер патента: WO2002021216A9. Автор: Anthony Zampini,Charles R Szmanda,Sungseo Cho,Gary N Taylor. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-04-03.

Photoacid generators in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: WO2002039186A3. Автор: Viacheslav Alexandrovic Petrov,Iii Frank L Schadt. Владелец: Iii Frank L Schadt. Дата публикации: 2002-11-21.

Photoresist composition and method of forming a photoresist pattern with a controlled remnant ratio

Номер патента: US20030049565A1. Автор: Jeong-lim Nam,Dae-Youp Lee,Do-yul Yoo,Jeung-woo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-03-13.

Novel polymers and photoresist compositions for short wavelength imaging

Номер патента: US20020051938A1. Автор: Peter Trefonas,Gary Taylor,Charles Szmanda. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2002-05-02.

Photoacid generators in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: EP1332406A2. Автор: Viacheslav Alexandrovich Petrov,Iii Frank L. Schadt. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2003-08-06.

Photoresist composition and method of manufacturing a display substrate using the same

Номер патента: US20110097835A1. Автор: Jeong-Min Park,Jung-Soo Lee,Eun-Sang Lee,In-Ho Yu,Seong-Hyeon Kim,Won-Young Chang. Владелец: Dongwoo Fine Chem Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-28.

Novel polymers and photoresist compositions for short short wavelength imaging

Номер патента: US20020055061A1. Автор: Shintaro Yamada,Gary Taylor,Robert Brainard. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2002-05-09.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US12085854B2. Автор: Mingqi Li,Cong Liu,Sheng Liu,James F. Cameron,Jong Keun Park,Tsutomu Asazuma. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-09-10.

Polymers and photoresist compositions for short wavelength imaging

Номер патента: WO2002021211A3. Автор: Charles R Szmanda,Peter Trefonas,Gary N Taylor. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2002-06-20.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device using the same

Номер патента: US20240310724A1. Автор: Jaeyeon Kim,Juyoung Kim,Yechan KIM,Jicheol PARK,Honggu IM,Yonghoon MOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Photoresist composition, method for forming resist pattern, method for manufacturing semiconductor device, and substrate processing device

Номер патента: US20240288768A1. Автор: Makoto Muramatsu,Seiji Nagahara,Congque DINH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Photoresist composition and method of manufacturing black matrix using the same

Номер патента: US09746767B2. Автор: Hyun-seok Kim,Jae Hyuk Chang,Ki Beom Lee,Hi Kuk Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Photoresist composition and method for producing photoresist pattern

Номер патента: US09740102B2. Автор: Koji Ichikawa,Shingo Fujita,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Polymer dye and method for preparing the same, photoresist composition and display device

Номер патента: US09581903B2. Автор: Wei Deng,Xiaoxiong TIAN,Zhuo Zhang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Photoresist composition

Номер патента: US09507259B2. Автор: Mingqi Li,Shintaro Yamada,Cong Liu,Cheng-Bai Xu,Emad Aqad,Ching-Lung Chen,Joseph Mattia. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-11-29.

Photoresist composition and method of manufacturing a thin film transistor substrate

Номер патента: US09448476B2. Автор: Ki-hyun Cho,Ji-Hyun Kim,Byung-Uk Kim,Jeong-Min Park,Hyoc-Min Youn,Jun Chun,Jin-Sun Kim,Jung-Soo Lee,Sung-Kyun Park,Tai-Hoon YEO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: WO2006109185A2. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2006-10-19.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: WO2006109185A3. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2007-04-12.

Positive photoresist compositions having deep uv response, photosensitive elements and thermally stable photochemically imaged systems containing same

Номер патента: CA1279218C. Автор: Michael J. McFarland,Frederick R. Hopf,Christopher E. Osuch. Владелец: Allied Corp. Дата публикации: 1991-01-22.

Polymers for photoresist compositions for microlithography

Номер патента: US6951705B2. Автор: PERIYASAMY Mookkan,Michael Fryd,Frank Leonard Schadt, III. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2005-10-04.

Polymers for photoresist compositions for microlithography

Номер патента: WO2001086352A2. Автор: Michael Fryd,Frank Leonard Schadt, III,Mookkan Periyasamy. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2001-11-15.

Red photoresist composition, method of preparing the same, color filter, and display device

Номер патента: US9606274B2. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Xiao Sun,Yiming Zhao,Bing Bai. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Chemically amplified photoresist composition, photoresist laminated product, manufacturing method for photoresist composition, manufacturing method for photoresist pattern, and manufacturing method for connection element

Номер патента: EP2202579A2. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-30.

Photoresist composition containing a protected hydroxyl group for negative development and pattern forming method using thereof

Номер патента: US20130288178A1. Автор: Kuang-Jung Chen,Wu-Song Huang,Wai-Kin Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Negative-working photoresist compositions for laser ablation and use thereof

Номер патента: SG10201908369VA. Автор: Weihong Liu,Chunwei Chen,PingHung Lu. Владелец: Az Electronic Mat Luxembourg Sarl. Дата публикации: 2019-10-30.

Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films

Номер патента: MY140476A. Автор: LU Ping-Hung,CHEN Chunwei,ZHUANG Hong,Mark Neisser. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2009-12-31.

Polymer for photoresist, photoresist composition containing the same, and preparation method thereof

Номер патента: MY118218A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-09-30.

Photoresist compositions comprising norbornene derivative polymers with acid labile groups

Номер патента: US6103445A. Автор: C. Grant Willson,Uzodinma Okoroanyanwu,David Medieros. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2000-08-15.

Photoresist compositions

Номер патента: CA2010594A1. Автор: Reinhard Schulz,Ekkehard Bartmann,Horst MÜNZEL. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1990-08-23.

Photoresist composition comprising a copolymer having a di-t-butyl fumarate

Номер патента: US5346803A. Автор: James V. Crivello,Sang-Yeon Shim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1994-09-13.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US20210216013A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240061336A1. Автор: Minyoung Lee,Seung Han,Seungyong Chae,Changsoo Woo,Jimin Kim,Yaeun Seo,Sumin Jang,Eunmi Kang,Soobin Lim,Kyungsoo MOON,Sangkyun IM. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Chemically amplified positive photoresist composition for improving pattern profile

Номер патента: US11906900B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Photoresist composition comprising cyclohexyleneoxyalkyl acrylates

Номер патента: CA1330737C. Автор: Michel F. Molaire,Robert C. Mcconkey,Gerald W. Klein,John M. Noonan. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1994-07-19.

Lithographic photoresist composition and process for its use in the manufacture of integrated circuits

Номер патента: US6165678A. Автор: Robert David Allen,Richard Anthony DiPietro,Ratnam Sooriyakumaran,Gregory Michael Wallraff,Thomas I. Wallow. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2000-12-26.

Photoresist composition

Номер патента: US6861199B2. Автор: Geun Su Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-03-01.

Positive-working photoresist composition

Номер патента: US6087063A. Автор: Hiroshi Komano,Kazufumi Sato,Hideo Hada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2000-07-11.

Negative photoresist composition involving non-crosslinking chemistry

Номер патента: US20050175928A1. Автор: Wenjie Li,Pushkara Varanasi,Alyssandrea Hamad. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2005-08-11.

Positive photoresist composition

Номер патента: US6004721A. Автор: Toru Fujimori,Shiro Tan,Toshiaki Aoai. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-21.

Positive-working photoresist composition and method for forming a light-absorbing matrix

Номер патента: US4546064A. Автор: Robert L. Lambert,Robert L. Bergamo,Judy A. Nagel. Владелец: North American Philips Corp. Дата публикации: 1985-10-08.

Photoresist composition for multi-micro nozzle head coater

Номер патента: US20040144753A1. Автор: Jin-Ho Ju,Dong-Ki Lee,Sung-Chul Kang,Hyo-Youl Kim,You-Kyoung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-07-29.

Positive photoresist composition and resist pattern formation

Номер патента: EP1664928A2. Автор: Yasuo c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. MASUDA,Toshiki c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. OKUI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-07.

Positive photoresist composition and resist pattern formation

Номер патента: WO2005029184A2. Автор: Toshiki Okui,Yasuo Masuda. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2005-03-31.

Rubber photoresist composite and a method for producing a circuit board using thereof

Номер патента: US5783359A. Автор: Yasuhiro Yoneda,Masahiko Sugimura,Shigeru Tomisawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-07-21.

Positive photoresist composition, via-forming method, display substrate and display device

Номер патента: US20190146341A1. Автор: Wei Li,Yang Zhang,Rui Ma,Guangyao LI,Jianye Zhang,Tongshang Su,Yingbin HU,Jifeng SHAO. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Method of fabricating thin film transistor substrate and negative photoresist composition used therein

Номер патента: US20100203449A1. Автор: Hi-Kuk Lee,Byung-Uk Kim,Hyoc-Min Youn,Ki-Hyuk Koo,Yeong-Beom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-12.

Colored negative photoresist composition, colored pattern comprising the same, and method for producing the colored pattern

Номер патента: WO2007139312A1. Автор: Seong Hyeon Kim,Seung No Lee,Sang Tae Kim. Владелец: Dongwoo Fine-Chem. Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-12-06.

Negative-working photoresist composition for use on a polymethyl methacrylate surface

Номер патента: CA1217079A. Автор: Kenneth Speigel. Владелец: North American Philips Consumer Electronics Corp. Дата публикации: 1987-01-27.

Chemical-sensitization photoresist composition

Номер патента: US5902713A. Автор: Hiroshi Komano,Hiroyuki Yamazaki,Hideo Hada,Yoshiki Sugeta,Kiyoshi Ishikawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-05-11.

Photosensitive polymer, dissolution inhibitor and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6103450A. Автор: Sang-jun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-08-15.

Chemical-sensitization photoresist composition

Номер патента: US5908730A. Автор: Kazufumi Sato,Toshimasa Nakayama,Kazuyuki Nitta,Akiyoshi Yamazaki,Yoshika Sakai. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-06-01.

Photoresist composition, pixel definition layer, display substrate and method for preparing the same, and display device

Номер патента: US20200035765A1. Автор: Wei Li,Wei Song,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangyao LI,Biao Luo,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US11934101B2. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Photoresist composition, pixel definition layer, display substrate and method for preparing the same, and display device

Номер патента: US11322561B2. Автор: Wei Li,Wei Song,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangyao LI,Biao Luo,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-03.

Photoresist Composition, its Manufacturing Method, and Manufacturing Methods of Metal Pattern and Array Substrate

Номер патента: US20210333710A1. Автор: Wei Li,Jun Cheng,Bin Zhou,Guangcai Yuan,Dongfang Wang,Tongshang Su,Yingbin HU,Jingjing XIA. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Photoresist composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20230384670A1. Автор: Ching-Yu Chang,An-Ren Zi. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Photoresist composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20170199456A1. Автор: Jin Park,Hyun Woo Kim,Jin Kyu Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-13.

Positive photoresist composition, thick film photoresist laminate, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connecting terminal

Номер патента: EP1864186A2. Автор: Yasushi c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. WASHIO,Koji c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Saito,Koichi c/o Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. MISUMI,Takahiro c/o TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD. SENZAKI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-12.

Photoresist polymer and photoresist composition containing the same

Номер патента: US20050026070A1. Автор: Sang Lee,Jae Kim,Jung Kim,Geun Lee,Ki Shin,Cheol Bok,Seung Moon,Jae Kang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-03.

Photoresist composition and method of forming a pattern using same

Номер патента: US20050266342A1. Автор: Young-Ho Kim,Jae-ho Kim,Boo-Deuk Kim,Kyoung-Mi Kim,Youn-Kyung Wang,Yeu-Young Youn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-12-01.

Photoresist composition

Номер патента: WO2002077709A3. Автор: Charles R Szmanda. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-02-27.

Method of manufacturing a semiconductor device and photoresist composition

Номер патента: US20240126170A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Chun-Chih Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Photoresist composition for extreme ultraviolet, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240168381A1. Автор: Naery YU,Juyoung Kim,Juhyeon Park,Honggu IM,Jincheol PARK,Seonghyeon Ahn,Sungmin KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Multiple trigger monomer containing photoresist compositions and method

Номер патента: WO2019046148A1. Автор: Andreas Frommhold,Dongxu Yang,Alexandra Mcclelland,David Ure,John L. Roth,Alex Phillip Graham Robinson. Владелец: Roth John L. Дата публикации: 2019-03-07.

Photoresist composition for forming a color filter and method of manufacturing a substrate for a display device

Номер патента: US20130295495A1. Автор: Yun-Ho LEE,Sang-Hun Lee,Sun-Young Chang,Yui-Ku Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-07.

Semiconductor photoresist composition and method of forming patterns using the composition

Номер патента: US20240027899A1. Автор: Minyoung Lee,Seung Han,Jimin Kim,Yaeun Seo,Bukeun Oh,Sangkyun IM. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Photoresist composition, coated substrate, and method of forming electronic device

Номер патента: US20150021289A1. Автор: Matthias S. Ober,John B. Etienne,Vipul Jain. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-01-22.

Negative-acting chemically amplified photoresist composition

Номер патента: EP1297386A1. Автор: Ping-Hung Lu,Ralph R. Dammel,Pingyong Xu. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-04-02.

Photoresist composition

Номер патента: WO2002077712A3. Автор: Charles R Szmanda,Gary N Taylor. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2002-12-19.

Positive-working photoresist composition

Номер патента: US20020110750A1. Автор: Kazufumi Sato,Taku Nakao,Kazuyuki Nitta,Satoshi Maemori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Chemically amplified photoresist composition and method for forming pattern

Номер патента: US20100203446A1. Автор: Koji Ichikawa,Masako Sugihara,Yusuke Fuji. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-12.

Photoresist composition and process of producing photoresist pattern

Номер патента: US10168616B2. Автор: Koji Ichikawa,Tatsuro MASUYAMA. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Photosensitive polymer and chemically amplified photoresist composition containing the same

Номер патента: US6593441B2. Автор: Sang-jun Choi,Si-hyeung Lee,Sook Lee,Dong-Won Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-15.

Photoresist compositions particularly suitable for short wavelength imaging

Номер патента: US20030157428A1. Автор: Gary N. Taylor,Peter Trefonas. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-08-21.

Photoresist composition

Номер патента: GB2314846A. Автор: Jae Chang Jung,Cha Won Koh. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-01-14.

Dry developable photoresist compositions and method for use thereof

Номер патента: US5322765A. Автор: Harbans S. Sachdev,Hubert Schlosser,Carlton G. Willson,Scott A. Macdonald,Nicholas J. Clecak,Willard E. Conley,Ranee W.-L. Kwong,Leo L. Linehan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-06-21.

Stabilized photoresist composition

Номер патента: US3776736A. Автор: E Davidson. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1973-12-04.

Photoresist composition

Номер патента: US5846688A. Автор: Nobuhito Fukui,Yuji Ueda,Shigeki Yamamoto,Takehiro Kusumoto,Naoki Takeyama,Yuko Yako. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-08.

Photoresist compositions

Номер патента: US6037107A. Автор: James W. Thackeray,Roger F. Sinta,James F. Cameron. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2000-03-14.

Process of photopatterning a substrate with a positive photoresist composition containing a diazoquinone photosensitizer

Номер патента: US5399463A. Автор: Hans J. Merrem. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1995-03-21.

Positive photoresist composition

Номер патента: US6773858B2. Автор: Tomoyoshi Furihata,Kyoko Soga,Hideto Kato. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-10.

Photoimageable electrodepositable photoresist composition

Номер патента: CA2048164C. Автор: Kurt G. Olson,Michael G. Sandala,Steven R. Zawacky,Masayuki Nakajima,Charles F. Ii Kahle. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

A photoresist composition, a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and etched si containing layer(s), and manufacturing a device using thereof

Номер патента: US20210263414A1. Автор: Taku Hirayama,Shunji Kawato,Hiroshi Yanagita,Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-08-26.

Photoresist composition comprising amide compound and pattern formation methods using the same

Номер патента: US11874603B2. Автор: Won Seok Lee,Hae-Jin Lim,Kwang Mo Choi,Philjae Kang,Yoo Jung Yoon. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11852972B2. Автор: James W. Thackeray,Emad Aqad,James F. Cameron,Tomas MARANGONI,Xisen Hou,ChoongBong Lee. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-26.

Positive photoresist composition

Номер патента: US20020064727A1. Автор: Kenichiro Sato. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-30.

A photoresist composition, a method for manufacturing a photoresist coating, etched photoresist coating, and etched si containing layer(s), and manufacturing a device using thereof

Номер патента: EP3811152A1. Автор: Taku Hirayama,Shunji Kawato,Hiroshi Yanagita,Yusuke Hama,Takayuki Sao. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-04-28.

Multilayer elements containing photoresist compositions and their use in microlithography

Номер патента: WO2002044815A3. Автор: Larry L Berger,Frank L Schadt Iii. Владелец: Frank L Schadt Iii. Дата публикации: 2003-08-14.

Photoresist composition for deep uv radiation

Номер патента: WO2001042853A3. Автор: Munirathna Padmanaban,Ralph R Dammel. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2002-05-02.

Photoresist composition and method of manufacturing integrated circuit device by using the same

Номер патента: US20230176477A1. Автор: Hyun-Ji SONG,Yechan KIM,Sukkoo Hong,Moohyun KOH,Sungan DO,Kyungoh KIM,Kyunghwan NOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Polymers and photoresist compositions

Номер патента: WO2002069044A3. Автор: George G Barclay,Robert J Kavanagh. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-02-27.

Polymers blends and their use in photoresist compositions for microlithography

Номер патента: WO2002044811A3. Автор: Larry L Berger,Frank L Schadt Iii. Владелец: Frank L Schadt Iii. Дата публикации: 2004-09-23.

Photoresist composition and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220197139A1. Автор: Ji Eun Kim,Jae Hee SIM,Chung Hyeon BAN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

PHOTOACID GENERATOR AND CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20200033724A1. Автор: KIM Ji Hye,LIM Min Young,LEE Tae Seob. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2020-01-30.

Photoacid generator and chemically amplified positive-type photoresist composition for thick film comprising the same

Номер патента: KR102129049B1. Автор: 임민영,김지혜,이태섭. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2020-07-01.

Positive type photoresist composition

Номер патента: KR900007797B1. Автор: 신고 아사우미,히데가쯔 고하라,하쓰유끼 다나까,마사노리 미야베,도시마사 나까야마. Владелец: 이또오 다께오. Дата публикации: 1990-10-20.

Positive type photoresist composition

Номер патента: EP0510672A1. Автор: Kazuya C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Uenishi,Yasumasa C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Kawabe,Tadayoshi C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Kokubo. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1992-10-28.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: KR20090066568A. Автор: 이병일,김병기,박세형. Владелец: 주식회사 코오롱. Дата публикации: 2009-06-24.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: KR101853317B1. Автор: 도모유키 이마다,다카카즈 가게,노리후미 이마이즈미. Владелец: 디아이씨 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-05-02.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6235349A. Автор: Shingo Asaumi,Akira Yokota,Hisashi Nakane,初幸 田中,寿昌 中山,Hatsuyuki Tanaka,Yoshiaki Arai,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,晃 横田,Masanori Miyabe,浅海　慎五,中根　久,宮部　将典,荒井　喜晶. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1987-02-16.

Positive-type photoresist composition, insulating film formed therefrom, and oled using the film

Номер патента: KR20170034231A. Автор: 김병기,채헌승,박세형,하지민. Владелец: 코오롱인더스트리 주식회사. Дата публикации: 2017-03-28.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: WO2012063635A1. Автор: 規史 今泉,鹿毛　孝和. Владелец: Dic株式会社. Дата публикации: 2012-05-18.

Positive-type photoresist composition for thick film, method for producing thick film resist pattern, and method for producing connection terminal

Номер патента: KR102050606B1. Автор: 요시유키 우츠미,다카히로 시미즈. Владелец: 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-11-29.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: EP2639637B1. Автор: Takakazu Kage,Norifumi Imaizumi. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2017-03-22.

Dnq-type photoresist composition including alkali-soluble acrylic resins

Номер патента: WO2021094423A1. Автор: Weihong Liu,Medhat A. Toukhy,Chunwei Chen,PingHung Lu. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-05-20.

DNQ-type photoresist composition including alkali-soluble acrylic resins

Номер патента: US11822242B2. Автор: Weihong Liu,Ping-Hung Lu,Medhat A. Toukhy,Chunwei Chen. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-11-21.

Chemical amplification type photoresist composition

Номер патента: JPH10207069A. Автор: Hiroshi Komano,博司 駒野,Kazufumi Sato,Hideo Haneda,英夫 羽田,和史 佐藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1998-08-07.

Diazonaphthoquinone (DNQ) type photoresist composition containing alkali-soluble acrylic resin

Номер патента: CN114730131A. Автор: 陈春伟,卢炳宏,刘卫宏,M·A·图奇. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-07-08.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE TYPE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND METHOD OF PRODUCING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20180314152A1. Автор: NOZAKI Atsuyasu,YASUHARA Yuichi. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

Composition of positive type photosensitive polyimide varnish, positive type polyimide and film containing that

Номер патента: KR101385183B1. Автор: 김성준,정지홍,정찬문,이상열,이재희,고승오,유환철. Владелец: (주)상아프론테크. Дата публикации: 2014-04-21.

Positive-type radiation-sensitive mixture, positive-type radiation-sensitive recording material and production method thereof

Номер патента: JP2666852B2. Автор: カール‐フリードリツヒ・デツセル,ラルフ・ダメル,ユールゲン・リングナウ. Владелец: ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト. Дата публикации: 1997-10-22.

A positive-type photosensitive acrylic resin and positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101912158B1. Автор: 가츠히로 시모노,히로유키 요네자와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-10-26.

Positive type resist composition and monomer containing acid dissociative group used to the same

Номер патента: TWI237739B. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Satoshi Fujimura,Yoshikazu Katajima. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-11.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: US20160291469A1. Автор: Shota Katayama,Aya Momozawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: US09798235B2. Автор: Haruki Inabe,Hiromi Kobayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: US09703196B2. Автор: Haruki Inabe,Hiromi Kobayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

ULTRASOUND-INDUCED POSITIONING TYPE PUNCTURE ASSEMBLY AND SLEEVE TYPE SMALL NEEDLE KNIFE

Номер патента: US20220304648A1. Автор: WANG Yuanli,Wang Qingpu,LU Yanli,TIAN Zhijun. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-29.

Positive-type radiation-sensitive composition for discharge nozzle type coating method, interlayer insulating film for display element and method for forming the same

Номер патента: JP4844695B2. Автор: 大吾 一戸. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Ultrasound-induced positioning-type piercing component and sleeve-type needle blade

Номер патента: WO2020249093A1. Автор: 李永磊,卢艳丽,田志军,王元利,王庆普. Владелец: 北京市隆福医院. Дата публикации: 2020-12-17.

Copolymer for positive type lithography, polymerization initiator used in production of said copolymer, and composition for semiconductor lithography

Номер патента: US20120071638A1. Автор: Minoru Iijima,Takanori Yamagishi. Владелец: Maruzen Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-22.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: US20120251949A1. Автор: Yoji Fujita,Tomotsugu MIYABE. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2012-10-04.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND NITROGEN-CONTAINING AROMATIC HETEROCYCLIC COMPOUND

Номер патента: US20200004150A1. Автор: EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

Positive Type Photosensitive Siloxane Composition, Active Matrix Substrate, Display Apparatus, and Method of Manufacturing Active Matrix Substrate

Номер патента: US20180017869A1. Автор: Kato Masahiro,NODERA NOBUTAKE,MATSUMOTO TAKAO,Yokoyama Daishi,Fuke Takashi,TANIGUCHI Katsuto,Koiwa Shinji,SHINOZUKA AKIHIRO. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

BINDER RESIN, POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220043349A1. Автор: Park Sumin,LIM Minyoung. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2022-02-10.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION

Номер патента: US20190064660A1. Автор: Yokoyama Daishi,Nonaka Toshiaki,TAKAHASHI Megumi,MISUMI Motoki. Владелец: AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à r.l.. Дата публикации: 2019-02-28.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND MERCAPTO COMPOUND

Номер патента: US20190121233A1. Автор: Kawaue Akiya,Kuroiwa Yasushi,Yamamoto Yuta,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

SUPPRESSING FALSE POSITIVES (TYPE I ERROR) DURING ANALYSIS OF SAMPLE BIOLOGICAL MATERIALS

Номер патента: US20220275440A1. Автор: MCARTHUR Andrew,WRIGHT Gerard D.,POINAR Hendrik,SURETTE Michael G.,GUITOR Allison. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20210165326A1. Автор: SHIN Kahee,NA Jong-Ho,HUH Geun,Lee Jung-Hwa. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PATTERNED RESIST FILM, COMPOUND, PHOTO-ACID GENERATOR, AND PRODUCTION METHOD FOR N-ORGANOSULFONYLOXY COMPOUND

Номер патента: US20220283500A1. Автор: Kawaue Akiya. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20200142304A1. Автор: Lee Eun-Young,SHIN Kahee,NA Jong-Ho,HUH Geun. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20200174368A1. Автор: JUNG Ju-young,HUH Geun,Kim Yeonok,Yang Jong Han. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US20190204737A1. Автор: Ju-Young Jung,Yeonok KIM,Jung-Hwa Lee,Geun Huh,Jong Han YANG. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND CURED FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200209746A1. Автор: Lee Eun-Young,SHIN Kahee,NA Jong-Ho,HUH Geun,Yang Jong Han. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND CURED FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200209750A1. Автор: SHIN Kahee,NA Jong-Ho,HUH Geun,Kim Yeonok,Yang Jong Han. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20170255098A1. Автор: INABE Haruki,Kobayashi Hiromi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2017-09-07.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION

Номер патента: US20150291749A1. Автор: Fuke Takashi,Tashiro Yuji,Nonaka Toshiaki,Tokoyama Daishi. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20170285476A1. Автор: Kuroiwa Yasushi,MASUDA Yasuo. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-05.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20190278178A1. Автор: Kuroiwa Yasushi,Yamamoto Yuta. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20170315444A1. Автор: Irie Makiko,MOMOZAWA Aya. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-02.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20170322489A1. Автор: Yamamoto Yuta,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-09.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20190346765A1. Автор: Kawaue Akiya,Katayama Shota,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-14.

Positive-type resist composition, method for forming resist pattern, photo-reactive quencher, and polymeric compound

Номер патента: US20160376233A1. Автор: Daisuke Kawana,Masatoshi Arai,Tatsuya Fujii,Kenta Suzuki,Hiroto Yamazaki,Yoshitaka Komuro. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-29.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20200407510A1. Автор: KIM Ji Ung,JUNG Ju-young,HUH Geun,Kim Yeonok,IM JinKyu. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: TW200606589A. Автор: Hiromi Kanda,Haruki Inabe. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Composition Comprising Positive-Type Photosenstive Polyimide Precusors

Номер патента: KR100753745B1. Автор: 정명섭,정성경,박용영,양상윤. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-08-31.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101247624B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-03-29.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: KR102172818B1. Автор: 최경식,박석봉,조오형,김연옥,권오영. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2020-11-02.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101015857B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2011-02-23.

Photo Active compound and positive type Photosensitive composition comprising thereof

Номер патента: KR101380969B1. Автор: 오동현,김경준. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2014-04-04.

Polyimide resin and positive-type photosensitive resin comprising the same

Номер патента: KR20220112366A. Автор: 임민영,성지연. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2022-08-11.

Chemically-amplified Binder Resin and Positive type Photosensitive Organic Insulation layer Composition including the same

Номер патента: KR101949589B1. Автор: 차혁진. Владелец: 차혁진. Дата публикации: 2019-02-18.

Reactive monomers, preparation thereof, and positive-type photosensitive polyimide precursor obtained therefrom

Номер патента: KR101775138B1. Автор: 최진욱,최성묵,최중근. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2017-09-05.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR102356742B1. Автор: 가즈아키 에비사와,유타 야마모토. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-01-27.

Fixed position type steel heating quenching method

Номер патента: JPS5684417A. Автор: Kenji Ushitani,Mamoru Kaneda,Shoji Nagasuki. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 1981-07-09.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101247623B1. Автор: 유용식,김영훈,전환승,이정우,이종화,조현용,정민국,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-03-29.

A kind of more official's photo-acid generators of heterocycle and preparation method thereof and chemical amplification type photoresist obtained

Номер патента: CN110231754A. Автор: 徐亮,郑祥飞,纪昌炜. Владелец: SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd. Дата публикации: 2019-09-13.

Cage type polysilsesquioxane oligomer, imprinting type photoresist and preparation method thereof

Номер патента: CN111944149A. Автор: 秦龙,花雷,耿文练. Владелец: Shanghai Hantai Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-11-17.

Positive type radiation sensitive resin composition for production of plated shaped body transfer film and method for producing plated shaped body

Номер патента: KR101266564B1. Автор: 고우지 니시까와,고우스께 모리,마사루 오오따,신-이치로 이와나가. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-05-22.

Positive type resist composition and method of forming resist pattern from the same

Номер патента: KR100671192B1. Автор: 마사루 다케시타,료타로 하야시,다케시 이와이. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-01-19.

Production method of polyhydroxyimide and polyhydroxyimide-containing positive type photosensitive resin composition obtained by said production method

Номер патента: TWI458753B. Автор: Kazuya Ebara. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2014-11-01.

Positive type resist composition and resist pattern formation method using same

Номер патента: CN1818784B. Автор: 岩井武,羽田英夫,藤村悟史,久保田尚孝,宫入美和. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-04.

Positive type resist composition and resist pattern formation method using same.

Номер патента: EP1909140A1. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Satoshi Fujimura,Naotaka Kubota,Miwa Miyairi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Copolymer for positive type lithography, polymerization initiator used in production of said copolymer, and composition for semiconductor lithography

Номер патента: US8709698B2. Автор: Minoru Iijima,Takanori Yamagishi. Владелец: Maruzen Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-29.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: KR20110022602A. Автор: 유스케 안노,고지 와카마츠,마코토 스기우라,고이치 후지와라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-03-07.

Positive type resist material and pattern formation method

Номер патента: JP2006225476A. Автор: Kazunori Maeda,和規 前田,Satoshi Watanabe,隆信 武田,Eiji Fukuda,聡 渡邉,英次 福田,Takanobu Takeda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-31.

Positive Type Chemically-amplified Photosensitive Resin Composition, Method for Producing a Cured Film Using The Same and Electronic Device Comprising The Cured Film

Номер патента: KR101491975B1. Автор: 임철규,차혁진,권경일,박진규,조행규,홍명선. Владелец: (주)휴넷플러스. Дата публикации: 2015-02-11.

Polyimide resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: KR20220080488A. Автор: 임민영,김지혜,박현민. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2022-06-14.

Quinonediazide photosensitizer solution and positive-type resist composition

Номер патента: CN102597876A. Автор: 金谷纮希. Владелец: Sony Chemical and Information Device Corp. Дата публикации: 2012-07-18.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: GB2073756B. Автор: . Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1984-06-27.

Positive-type radiation-sensitive resin composition for producing a metal-plating formed material, transcription film and production method of a metal-plating formed material

Номер патента: US20070031758A1. Автор: Shin-ichiro Iwanaga,Kouji Nishikawa,Masaru Ohta,Kousuke Mori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-08.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR20170125727A. Автор: 가즈아키 에비사와,유타 야마모토. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-11-15.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR102396893B1. Автор: 아야 모모자와,마키코 이리에. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-05-11.

Positive-type radiation-sensitive composition, cured film, interlayer insulating film, method of forming interlayer insulating film, display device, and siloxane polymer for forming interlayer insulating film

Номер патента: US8486604B2. Автор: Masaaki Hanamura,Hideaki Takase,Daigo Ichinohe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-16.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: KR101211487B1. Автор: 히로미 칸다,하루키 이나베. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-12-12.

Positive typed photosensitive composition

Номер патента: CN102004395B. Автор: 李钟范,朴柱铉,曺正焕,孙敬喆. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: EP2110708B1. Автор: Yoji Fujita,Shinji Arimoto,Rinsei Ike. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2012-12-05.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: EP1621927A3. Автор: Hiromi Fuji Photo Film Co. Ltd. Kanda,Haruki Fuji Photo Film Co. Ltd. Inabe. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-05.

Positive type resist composition and method of forming resist pattern from the same

Номер патента: WO2005003861A1. Автор: Masaru Takeshita,Takeshi Iwai,Ryotaro Hayashi. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2005-01-13.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR20100036111A. Автор: 유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,차명환,신성호,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2010-04-07.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: TW201812456A. Автор: 山本悠太,海老澤和明. Владелец: 東京應化工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-04-01.

Polymer and positive-type resist solution

Номер патента: TW201837067A. Автор: 堤隆志,蒲田耕平. Владелец: 日商日本瑞翁股份有限公司. Дата публикации: 2018-10-16.

Positive-type photosensitive resin composition, method for manufacturing cured film, cured film, organic el display device, and liquid crystal display device

Номер патента: KR101746606B1. Автор: 사토루 야마다. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-06-13.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film, protective film, insulating film, and semiconductor device and display device each comprising the cured film

Номер патента: WO2010010842A1. Автор: 美樹 寺山. Владелец: 住友ベークライト株式会社. Дата публикации: 2010-01-28.

Polyimide resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: TW202222915A. Автор: 金智慧,林敏映,朴賢旻. Владелец: 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司. Дата публикации: 2022-06-16.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: KR20200083196A. Автор: 나종호,김연옥,신가희,양종한,허근. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2020-07-08.

Positive type photosensitive polyimide resin composition

Номер патента: EP1241527A1. Автор: Kazuhisa Nissan Chemical Industries Ltd. ISHII,Tomonari Nissan Chemical Industries Ltd NAKAYAMA,Takayasu Nissan Chemical Industries Ltd. NIHIRA,Hiroyoshi Nissan Chemical Industries Ltd. FUKURO. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2002-09-18.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film, protective film, insulating film and semiconductor device or display device utilizing the cured film, the protective film or the insulating film, and method for forming resist film

Номер патента: WO2010044275A1. Автор: 高橋泰典. Владелец: 住友ベークライト株式会社. Дата публикации: 2010-04-22.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: US8883391B2. Автор: Yoji Fujita,Tomotsugu MIYABE. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-11-11.

Positive Typed Photosensitive Composition

Номер патента: US20110053080A1. Автор: Jung Hwan Cho,Jin Han Lee,Joo Hyeon Park,Kyung Chul Son. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-03.

Positive-type photosensitive resin composition and partition wall of organic el element

Номер патента: TW202113483A. Автор: 新井良和,石田恭裕,古江健太郎,岩崎光紘,堀邊英夫. Владелец: 日商昭和電工股份有限公司. Дата публикации: 2021-04-01.

Positive typed photosensitive composition

Номер патента: CN102004396A. Автор: 朴柱铉,曺正焕,孙敬喆,李进翰. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical amplification positive type resist composition

Номер патента: KR20060056237A. Автор: 김상태,김태호,박한우,양돈식. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2006-05-24.

Positive-type resist composition and method for producing microlens

Номер патента: CN102725691B. Автор: 汤川升志郎,远藤勇树,武山敏明,荒濑慎哉,毛吕健夫. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-06-11.

Positive-type photosensitive composition

Номер патента: CN102027414B. Автор: 植松照博,仲村亮正,绪方寿幸,志知哲也,高桥元树,久里州多佛·柯多尼尔. Владелец: TOAKI PASSENGER RAILWAY CO Ltd. Дата публикации: 2013-07-17.

Positive type photosensitive organic compound

Номер патента: CN106462064B. Автор: 古江健太郎,大野由起. Владелец: Showa Ltd. Дата публикации: 2019-10-25.

Positive type photosensitive siloxane composition and cured film formed using the same

Номер патента: JP7296886B2. Автор: 尚史 吉田,恵 高橋,克人 谷口. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-06-23.

Polyimide resin, positive-type photosensitive resin composition, insulating film and semiconductor device

Номер патента: KR20220041532A. Автор: 윤미선. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2022-04-01.

Positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

Номер патента: EP2309332A1. Автор: Makoto Sugiura,Gouji Wakamatsu,Yuusuke Anno,Kouichi Fujiwara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101333690B1. Автор: 유용식,전환승,이정우,이종화,조현용,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-11-27.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: EP2520977A4. Автор: Yoji Fujita,Tomotsugu MIYABE. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2013-04-03.

Positive-type resist composition and method for producing microlens

Номер патента: EP2530524A1. Автор: Toshiaki Takeyama,Takeo Moro,Shinya Arase,Yuki Endo,Shojiro Yukawa. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-12-05.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film and manufacturing method thereof, pattern, mems structure manufacturing method, dry and wet etching method

Номер патента: CN103019034B. Автор: 米泽裕之,下野胜弘. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-24.

Chemical amplification positive type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, photosensitive dry film manufacturing method, patterned resist film manufacturing method, mold-provided substrate manufacturing method, and plated molded object manufacturing method

Номер патента: KR20220094114A. Автор: 아키야 가와우에,유스케 기시모토. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-07-05.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101333706B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-11-27.

Positive-type photosensitive resin composition and insulation layer formed from the same

Номер патента: KR20200088130A. Автор: 임민주,조백현,장석운. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2020-07-22.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: KR20210081741A. Автор: 이정화,나종호,신가희,허근. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2021-07-02.

Positive-type resist composition

Номер патента: TWI391408B. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Yoshimi Isono,Satoru Narizuka,Jonathan Joachim Jodry. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-01.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method for producing photosensitive dry film, method for producing patterned resist film, method for producing substrate provided with template, and method for producing a plated article

Номер патента: US20230102353A1. Автор: Akiya Kawaue,Yusuke KISHIMOTO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR100914063B1. Автор: 이길성,유용식,조현용,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2009-08-28.

Positive type resist composition and resist pattern formation method using same

Номер патента: US20060134552A1. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Satoshi Fujimura,Naotaka Kubota,Miwa Miyairi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-22.

Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same

Номер патента: US7531287B2. Автор: Hiromi Kanda,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-05-12.

P (Positive) type insert layer with cycle structure and growing method

Номер патента: CN103872204A. Автор: 肖云飞. Владелец: Hefei Irico Epilight Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-18.

Positive type photosensitive resin composition and polyhydroxyamide resin

Номер патента: TW200916951A. Автор: Hideo Suzuki,Takayuki Tamura,Kazuya Ehara. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Positive type resist composition and resist pattern formation method using same

Номер патента: US20060134553A1. Автор: Hideo Hada,Takeshi Iwai,Satoshi Fujimura,Naotaka Kubota,Miwa Miyairi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-22.

Positive-type resist composition and method for producing microlens

Номер патента: WO2011093188A1. Автор: 健夫 毛呂,慎哉 荒瀬,勇樹 遠藤,昇志郎 湯川,武山　敏明. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2011-08-04.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound

Номер патента: US11022880B2. Автор: Akiya Kawaue,Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa,Kazuaki EBISAWA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-01.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: US20220275440A1. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard D. WRIGHT,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-09-01.

Positive type silicone-containing photosensitive composition

Номер патента: TW530190B. Автор: Shinji Sakaguchi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-01.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: EP4017996A1. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard Wright,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-06-29.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: CA3107221A1. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard Wright,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-02-23.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: CA3107221C. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard Wright,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-02-22.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: EP4017996A4. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard Wright,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-08-23.

Suppressing false positives (type i error) during analysis of sample biological materials

Номер патента: WO2021035339A1. Автор: Andrew McArthur,Michael G. Surette,Gerard Wright,Hendrik POINAR,Allison GUITOR. Владелец: MCMASTER UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-03-04.

Ortho-nitrobenzyl ester compound and positive type photosensitive resin composition including the same

Номер патента: TW201231438A. Автор: Jae-Hyun Kim,Jeong-Woo Lee,Hwan-Sung Cheon,Jong-Hwa Lee,Young-Ho Kim,Ji-young Jeong,Su-min Park,Soo-Young Kim,Hyun-Yong Cho,Yong-Sik Yoo,Min-Kook CHUNG. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Guiding and positioning type hip joint handle body

Номер патента: CN201798824U. Автор: 黄国富. Владелец: 黄国富. Дата публикации: 2011-04-20.

Positioning type intraspinal anesthesia needle

Номер патента: CN111001062A. Автор: 王海燕. Владелец: Yantai Yuhuangding Hospital. Дата публикации: 2020-04-14.

Guide positioning type electric bone drill

Номер патента: CN111839654B. Автор: 蒋莉,唐举玉,吴攀峰,庞晓阳,卿黎明. Владелец: Xiangya Hospital of Central South University. Дата публикации: 2022-05-20.

Homing position type external fixing rack

Номер патента: CN106859749A. Автор: 林燕,丁大发. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-06-20.

Homing position type massage machine

Номер патента: CN105362054B. Автор: 陈霞. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-25.

Electric heating cauterization quick positioning type tail cutting pliers

Номер патента: CN109481072B. Автор: 蒋瑞文,韩雪超,朱望武,张奥迪. Владелец: Wuhan Red Star Intelligent Agri Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-06-22.

Positioning type Nance bow orthodontic molar control device and manufacturing method

Номер патента: CN116172735A. Автор: 李巍然,黄一平,衡墨笛,郭润智,王嘉怡. Владелец: Peking University School of Stomatology. Дата публикации: 2023-05-30.

Method of reducing density of flaws on positive type photooresist

Номер патента: JPS52154405A. Автор: Paaru Gabooru. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1977-12-22.

Arrangement position type cultivation ship

Номер патента: CN112498591A. Автор: 王小红,严俊,范为,胡超凯,丁岚,成宗亮. Владелец: Hubei Marine Engineering Equipment Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-16.

The independent space creation type variable position type sliding door using an open type furniture

Номер патента: KR20220006898A. Автор: 구자호. Владелец: 구자호. Дата публикации: 2022-01-18.

Improvements in or relating to reclining chairs and like articles of furniture of the multiple position type

Номер патента: GB888706A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1962-01-31.

Method for peeling positive type resist film, method for manufacturing exposure mask, and resist peeling device

Номер патента: KR100680553B1. Автор: 까즈히사 이무라. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-02-08.

Reclining chair of the multiple position type

Номер патента: US3059968A. Автор: Fridtjof F Schliephacke. Владелец: Individual. Дата публикации: 1962-10-23.

Side-hanging positioning type book placing frame

Номер патента: CN114009955A. Автор: 周平,钟华,陈环,李洪江,熊正国. Владелец: Fengshu Uygur And Hui Township Middle School In Taoyuan County. Дата публикации: 2022-02-08.

Positioning type fishing gear

Номер патента: CN105961342A. Автор: 吴长江. Владелец: HUIZHOU HENGLIDA INDUSTRIAL DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-28.

A kind of gear positioning type ectoskeleton seat

Номер патента: CN107692631A. Автор: 徐晰人,董宇奇. Владелец: Hangzhou Haoche Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-16.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPH01142548A. Автор: Shuichi Tsukada,修一 塚田,Kazuhiro Tago,一弘 田子. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-05.

Positive type infrared light responsive composition, positive type printing plate and method of use thereof

Номер патента: CN101439609B. Автор: 江磊,张振亚,赵伟建,薛新琴. Владелец: SECOND FILM FACTORY OF LUCKY GROUP. Дата публикации: 2010-11-03.

A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser

Номер патента: EP0909657A2. Автор: Hideo Miyake,Ikuo Kawauchi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-21.

Typewriter with swingable springgmass system for positioning type carrier

Номер патента: JPS5584685A. Автор: Putsufu Deiitoherumu,Efu Uiru Noruberuto. Владелец: Triumph Werke Nuernberg AG. Дата публикации: 1980-06-26.

Intervention type self-adaptive positioning type steel pipe lossless transportation equipment

Номер патента: CN114379445A. Автор: 颜祯. Владелец: Xuzhou Zhongshun Shangyi Machinery Manufacturing Co ltd. Дата публикации: 2022-04-22.

Quick positioning type positioning pin assembling tool

Номер патента: CN104260048A. Автор: 高静,袁代华,邓金智. Владелец: Chengdu Fanxinjia Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-07.

Positive type planographic printing plate precursor and method of producing planographic printing plate

Номер патента: US20190176459A1. Автор: Atsuyasu Nozaki,Yuichi Yasuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-06-13.

POSITIVE TYPE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR AND METHOD OF PRODUCING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20180311989A1. Автор: Sato Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

Axial positioning type automatic elastic externally-clamping tool

Номер патента: CN104002160A. Автор: 徐伟,蒋安全,任刚强. Владелец: Hefei Bolin Advanced Materials Co ltd. Дата публикации: 2014-08-27.

Workpiece Loading and Unloading Apparatus for CNC Machine Tool Having Variable Positioning Type Main Body

Номер патента: KR20220152693A. Автор: 전동진. Владелец: 전동진. Дата публикации: 2022-11-17.

Double-buffer type photoresist liquid spraying system

Номер патента: CN111451061B. Автор: 尹安和. Владелец: Xinmi Xiamen Semiconductor Equipment Co ltd. Дата публикации: 2021-12-31.

Wave energy self-powered positioning type lifting ecobuoy

Номер патента: CN105799868A. Автор: 孙强,杨浩,胡海鹏,王世明,李晴,刘海敌,李华南,王鹏波,杨志乾,吴帅桥. Владелец: Shanghai Maritime University. Дата публикации: 2016-07-27.

Hydraulic positioning type vertical driving mechanism for laser melting powder spreading device

Номер патента: CN108746618B. Автор: 马波,杨转运,唐志添. Владелец: Fuqing Chuangjia Intelligent Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-07-10.

Compact printer of the multi-position type.

Номер патента: FR2693949A1. Автор: ONO Masayuki,FUJIOKA Satoshi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1994-01-28.

Positioning type assembling clamp and terminal screen assembling equipment

Номер патента: CN108891120B. Автор: 曾华全,陈能力,黄有昶. Владелец: Dongguan Huabei Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-08.

Clamping positioning type rudder bearing

Номер патента: CN113120209A. Автор: 周树明. Владелец: Dongtai Youming Marine Fittings Co ltd. Дата публикации: 2021-07-16.

Hole positioning type main board profile modeling device on radiator core body assembly machine

Номер патента: CN105598690A. Автор: 徐文彬,李俊楠,陈立明,葛建锋,黄世铅. Владелец: Fujian Yige Machinery Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-25.

Soaking type photoresist removing, cleaning and drying integrated machine

Номер патента: CN114472332B. Автор: 赵天翔,杨仕品,周训丙. Владелец: Zhicheng Semiconductor Equipment Technology Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-21.

One kind rotation three-position type solid-liquid separator

Номер патента: CN106584900B. Автор: 赵鸿斌. Владелец: Dongguan Tianhe Electromechanical Development Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

A kind of welding machine electromechanics accessory homing position type automatic packing device

Номер патента: CN107472572A. Автор: 程敬卿. Владелец: Anhui Ding Heng Manufacturing Technology Research Institute Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-15.

Welding assembly fixture for dual-positioning type high-pressure fuel distribution pipe

Номер патента: CN110181213B. Автор: 张琴琴,程水良,肖松,鲍红军. Владелец: Shanghai Winkelmann Longchuan Co ltd. Дата публикации: 2020-12-22.

Positive type photosensitive composition for infrared lasers

Номер патента: EP0914964A3. Автор: Takeshi Kimura,Ippei c/o Fuji Photo Film CO. Ltd. Nakamura. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-05-19.

Positioning type steering column device

Номер патента: AU2003246216A1. Автор: Naoki Sawada. Владелец: NSK LTD. Дата публикации: 2004-02-02.

Soft positioning type injection molding process for shell of dust collector

Номер патента: CN111645253B. Автор: 包海香. Владелец: Suzhou Boqihai Electric Appliance Co ltd. Дата публикации: 2022-07-01.

A kind of step positioning type propeller

Номер патента: CN108100205A. Автор: 陈桂材. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-01.

Can fine positioning type cavity mould

Номер патента: CN108421963A. Автор: 李丽,邓宇斌,郑桂林,林显记. Владелец: Guangzhou Die And Mould Manufacturing Co ltd. Дата публикации: 2018-08-21.

Auxiliary device based on positioning type wall drilling

Номер патента: CN111347566A. Автор: 张东东,朱惜惜. Владелец: Hefei Tuokalatu Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-06-30.

Detection positioning type unmanned aerial vehicle and operating system thereof

Номер патента: CN110803282B. Автор: 李龙. Владелец: Chun'an County Land Survey Mapping Planning And Design Co ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Prevent gravity center skew from positioning type heap high car

Номер патента: CN115159397B. Автор: 甘莅. Владелец: Hubei Maihui Jinmao Machinery Co ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

A kind of air pressure homing position type emulsion pumps

Номер патента: CN104477495B. Автор: 林添大. Владелец: ZHONGSHAN CLC PUMP Ltd. Дата публикации: 2016-09-14.

MULTI-POSITION TYPE COMPACT PRINTER.

Номер патента: FR2693949B1. Автор: ONO Masayuki,FUJIOKA Satoshi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1995-06-16.

Double-tool-bit positioning type tool apron

Номер патента: CN112264822A. Автор: 冯阳,程敬华,章晨辉,孟智渊,陆义有. Владелец: Zhejiang Huachen Power Machinery Co ltd. Дата публикации: 2021-01-26.

Positive type photoresist composition and method of forming resist pattern

Номер патента: TW200407672A. Автор: Kazuhiko Nakayama,Kosuke Doi,Toshisato Tate. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-16.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: TW495645B. Автор: Toru Fujimori,Sjorp Tan. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-21.

Positive-type photoresist composition, photoresist laminate, method for producing photoresist pattern, and method for producing connecting terminal

Номер патента: US9091916B2. Автор: Takayoshi Mori,Yasushi Washio,Yoshiyuki Utsumi,Takahiro Shimizu,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-28.

POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CONNECTING TERMINAL

Номер патента: US20130230801A1. Автор: Utsumi Yoshiyuki,Kuroiwa Yasushi,Washio Yasushi,Shimizu Takahiro,MORI Takayoshi. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-05.

Positive-type photoresist composition, photoresist pattern using the same, and method for producing photoresist pattern

Номер патента: TW201910922A. Автор: 金智慧,林敏映,李泰燮. Владелец: 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-16.

Positive-type photoresist composition for circuit board, positive-type dry film for circuit board, and manufacturing method of circuit board using the same

Номер патента: TW200736837A. Автор: Genji Imai,Toshikazu Murayama,Harufumi Hagino. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-01.

Composition for positive type photoresist and positive type photoresist film manufactured thereby

Номер патента: WO2007119949A1. Автор: Jong-Min Park,Byoung-Kee Kim,Se-Hyung Park,Byrong-Il Lee,Seog-Jeong Song. Владелец: Kolon Industries, Inc. Дата публикации: 2007-10-25.

POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION

Номер патента: US20130244174A1. Автор: Imada Tomoyuki,Kage Takakazu,Imaizumi Norifumi. Владелец: DIC CORPORATION. Дата публикации: 2013-09-19.

POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION

Номер патента: US20130224655A1. Автор: Kage Takakazu,Imaizumi Norifumi. Владелец: DIC CORPORATION. Дата публикации: 2013-08-29.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20190339614A1. Автор: Suzuki Masato,KAWATO Shunji,TAKAICHI Tetsumasa,AKASHI Kazumichi. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-07.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6214148A. Автор: Makoto Hanabatake,Shinji Konishi,Akihiro Furuta,Nobuyuki Kurata,Yasuhiko Horikawa,誠 花畑,古田　秋弘,小西　伸二,蔵田　信行,堀川　泰彦. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1987-01-22.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS57201229A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,Toko Harada,Yukihiro Hosaka. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1982-12-09.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6327836A. Автор: Shingo Asaumi,初幸 田中,寿昌 中山,Hatsuyuki Tanaka,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,浅海　慎五. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1988-02-05.

Chemically amplified positive-type photoresist composition for thick film, chemically amplified dry film for thick film, and method for production of thick film resist pattern

Номер патента: KR101423801B1. Автор: 야스시 와시오,다카히로 센자키,가즈히데 우노,고지 사이토,고이치 미스미,미츠아키 오가케. Владелец: 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-07-25.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS63186233A. Автор: Makoto Hanabatake,Yukikazu Kamimura,Akihiro Furuta,誠 花畑,Kyoko Nagase,古田　秋弘,長瀬　恭子,上村　幸和. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-08-01.

Chemically amplified positive-type photoresist composition thick film, and method for producing thick film resist pattern

Номер патента: KR101735121B1. Автор: 야스시 와시오,준 고시야마,도모유키 안도,다카히로 시미즈. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-05-12.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS61260239A. Автор: Kazuo Mitsuhashi,Ryuichiro Takasaki,Konoe Miura,Tetsuo Ozawa,鉄男 尾澤,龍一郎 高崎,Nariyuki Haruhata,三浦　近衛,三ツ橋　和夫,春畑　成幸. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1986-11-18.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6446746A. Автор: Haruyori Tanaka,Kazuya Uenishi,Saburo Imamura,Tadayoshi Kokubo. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1989-02-21.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6417049A. Автор: Hideo Kikuchi,Hitoshi Sugiura,Hiroko Urano,Yoji Yamazawa. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 1989-01-20.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS60159846A. Автор: Makoto Hanabatake,Masaaki Yasui,Akihiro Furuta,誠 花畑,Osamu Hiroake,Naomi Jinno,古田　秋弘,安井　誠明,広明　修,直美 神野. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1985-08-21.

Chemically amplified positive-type photoresist composition for thick film, chemically amplified dry film for thick film, and method for production of thick film resist pattern

Номер патента: WO2008065827A1. Автор: Takahiro Senzaki,Koji Saito,Yasushi Washio,Kazuhide Uno,Koichi Misumi,Mitsuaki Ohgake. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2008-06-05.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6413541A. Автор: Nobuaki Matsuda. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1989-01-18.

Positive type photoresist composition

Номер патента: KR100447950B1. Автор: 김성호,박종진. Владелец: 한솔제지주식회사. Дата публикации: 2004-09-08.

Positive-type photoresist composition

Номер патента: TW565746B. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kenichiro Sato,Shoichiro Yasunami. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-11.

Positive type photoresist composition

Номер патента: KR910004844B1. Автор: 고이찌 다까하시,히데가쯔 고하라,도시마사 나까야마,요시아끼 아라이,요시유끼 사또후,미쯔오 야부따,노부오 도구다께. Владелец: 도오교오오오까고오교오 가부시기가이샤. Дата публикации: 1991-07-13.

Positive-type photoresist compositions

Номер патента: DE3374610D1. Автор: Seimei Yasui,Kunihiko Tanaka,Akihiro Furuta,Makoto Hanabata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1987-12-23.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS62136637A. Автор: 泰弘 亀山,Tameichi Ochiai,Yasuhiro Kameyama,Konoe Miura,Chie Tanaka,千絵 田中,三浦　近衛,落合　為一. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1987-06-19.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS62159142A. Автор: Shingo Asaumi,寿昌 中山,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,Masanori Miyabe,浅海　慎五,宮部　将典. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-15.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6449038A. Автор: Mineo Nishi,Masahiro Sakaguchi. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1989-02-23.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6327835A. Автор: Shingo Asaumi,初幸 田中,寿昌 中山,Hatsuyuki Tanaka,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,Masanori Miyabe,浅海　慎五,宮部　将典. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1988-02-05.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS6289041A. Автор: Kiyoto Mori,Hayato Katsuragi,桂木　速人,森　清人. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 1987-04-23.

Novolak resin precursor, novolak resin, and positive-type photoresist composition containing the novolak resin

Номер патента: JPH1135650A. Автор: 寿昌 中山,賢 宮城,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,Kosuke Doi,Masaru Miyagi,宏介 土井,隆作 高橋,Ryusaku Takahashi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-09.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPS62260146A. Автор: Shingo Asaumi,初幸 田中,寿昌 中山,Hatsuyuki Tanaka,Hidekatsu Obara,秀克 小原,Toshimasa Nakayama,Masanori Miyabe,浅海　慎五,宮部　将典. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-12.

Chemical amplification type photoresist composition, method for producing a semiconductor device using the composition, and semiconductor substrate

Номер патента: TW200301923A. Автор: Toyohisa Sakurada,Takao Yoshihara,Seiji Nagahara. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2003-07-16.

Chemical amplification type photoresist composition, method for producing a semiconductor device using the composition, and semiconductor substrate

Номер патента: TW594850B. Автор: Toyohisa Sakurada,Takao Yoshihara,Seiji Nagahara. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2004-06-21.

Aqueous developer solution for positive type photoresists with tetramethyl ammonium hydroxide and trimethyl hydroxyethyl ammonium hydroxide

Номер патента: US4610953A. Автор: Akira Yokota,Hisashi Nakane,Koichiro Hashimoto,Shirushi Yamamoto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1986-09-09.

Developing solution for use in positive type photoresist

Номер патента: JPS5730832A. Автор: Yoichi Kamoshita,Hiromichi Hara,Yoshiyuki Harita,Toko Harada. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1982-02-19.

Peeling solution for positive type photoresist

Номер патента: JPS5564233A. Автор: Akira Hirano,Hideki Fujiwara. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-05-14.

Positive type photoresist film

Номер патента: KR20070106131A. Автор: 병 기 김,세 형 박,병 일 이,종 민 박,석 정 송. Владелец: 주식회사 코오롱. Дата публикации: 2007-11-01.

Positive type photoresist film

Номер патента: KR101040994B1. Автор: 병 기 김,세 형 박,병 일 이,종 민 박,석 정 송. Владелец: 코오롱인더스트리 주식회사. Дата публикации: 2011-06-16.

Improved developing solution for positive type photoresist

Номер патента: JPS59182444A. Автор: Kenji Niwa,Ichiro Ichikawa,健二 丹羽,一郎 市川. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1984-10-17.

Positive type photoresist developing method

Номер патента: JPS57136646A. Автор: Takeshi Takada,Mikio Shoda,Nobutoshi Ogami. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1982-08-23.

Positive type photoresist developer and the preparation thereof

Номер патента: KR960003909B1. Автор: 테쓰오 아오야마,쓰스무 가네꼬. Владелец: 미쓰비시 가스 가가꾸 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1996-03-23.

Photosensitive component for positive-type photoresist material

Номер патента: JPS58219548A. Автор: ギユンテル・ハ−ス,カ−ル「あ」ハインツ・ナイジウス,アルフレ−ト・シユタイン. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1983-12-21.

Developer for positive type photoresist

Номер патента: JPS60158442A. Автор: ハンス＝ヨアヒム・メレム,ヴインフリート・バロン,クルト・マルクアルト,ライムント・ジントリンゲル,クラウス＝ペーター・テイエル. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1985-08-19.

Formation of thick film of positive type photoresist

Номер патента: JPS6368834A. Автор: Takao Ninomiya,Yukikazu Kamimura,Yukio Hanamoto,二宮　高雄,上村　幸和,花元　幸夫. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-03-28.

Production of novolak resin for positive type photoresist

Номер патента: JPS62172341A. Автор: Satsuo Ooi,Yasuhiko Horikawa,Naomi Jinno,大井　冊雄,堀川　泰彦,直美 神野. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-29.

Positive type photoresist developer

Номер патента: EP0364895A1. Автор: Tetsuo Mitsubishi Gas Chemical Co. Inc. Aoyama,Susumu Mitsubishi Gas Chemical Co. Inc. Kaneko. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 1990-04-25.

Method for contact exposure of positive type photoresist

Номер патента: JPS59211045A. Автор: Kunihiro Isori,Chiharu Kato,千晴 加藤,五十里　邦弘. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1984-11-29.

Positive type photoresist scum remover

Номер патента: JPH0638160B2. Автор: 初幸 田中,寿昌 中山,秀克 小原,善亨 佐藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1994-05-18.

Method of developing positive type photoresist

Номер патента: JPH0638396B2. Автор: 洋一 大塚,和明 小川,則夫 鈴木. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-05-18.

Direct positive type light-sensitive silver halide photographic materials

Номер патента: US4863838A. Автор: Yasuo Tosaka,Keiji Ogi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1989-09-05.

Negative-type photoresist composition for thick film and use thereof

Номер патента: US20150118617A1. Автор: Yi Jing CHEN,Nai Tien CHOU,Hsin Yi HUANG. Владелец: Everlight Chemical Industrial Corp. Дата публикации: 2015-04-30.

I-LINE NEGATIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION HAVING EXCELLENT ETCHING RESISTANCE

Номер патента: US20180246404A1. Автор: LEE Seung Hyun,Lee Seung Hun,Choi Young Cheol,YOON Sang Woong. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-30.

Negative-type photoresist composition for thick film and use thereof

Номер патента: US9170491B2. Автор: Yi Jing CHEN,Nai Tien CHOU,Hsin Yi HUANG,Yen-Cheng Li. Владелец: Everlight Chemical Industrial Corp. Дата публикации: 2015-10-27.

KrF thick film type photoresist composition and preparation method and application thereof

Номер патента: CN112485962A. Автор: 王溯,王志勇,黄桂华,唐晨,崔中越,耿志月,薛新斌,王世建. Владелец: Shanghai Xinyang Semiconductor Material Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-12.

Negative type photoresist composition

Номер патента: JPS62255934A. Автор: Nobuhiro Tsujimoto,Michinori Suzuki,通典 鈴木,辻本　信弘. Владелец: UBE Industries Ltd. Дата публикации: 1987-11-07.

Photosensitive polyimide and negative type photoresist composition containing the same

Номер патента: CN103897185A. Автор: 邱国展,林振隆,许富舜. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2014-07-02.

Chemically-amplified-type negative-type photoresist composition

Номер патента: WO2017196010A2. Автор: 이승훈,이승현,이수진,최영철. Владелец: 영창케미칼 주식회사. Дата публикации: 2017-11-16.

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE AND NEGATIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME

Номер патента: US20140178823A1. Автор: CHIOU Kuo-Chan,LIN Chen-Lung,HSU Fu-Shun. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-26.

Chemically-amplified-type negative-type photoresist composition

Номер патента: US20190137871A1. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Eyeline type photoresist composition

Номер патента: JPH11133608A. Автор: ジェームズ・ジー・シェルナット,G Shelnatt James. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 1999-05-21.

I-line negative type photoresist composition having excellent etching resistance

Номер патента: WO2017039235A1. Автор: 이승훈,이승현,최영철,윤상웅. Владелец: 영창케미칼 주식회사. Дата публикации: 2017-03-09.

Chemically-amplified-type negative-type photoresist composition

Номер патента: US11586109B2. Автор: Seung Hyun Lee,Su Jin Lee,Seung Hun Lee,Young Cheol Choi. Владелец: Youngchang Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Positive type photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using positive type photosensitive resin composition, and semiconductor device including photosensitive resin layer

Номер патента: KR101400190B1. Автор: 김정현,전환승,이종화,조현용,임미라,정민국,정지영,차명환. Владелец: 제일모직 주식회사. Дата публикации: 2014-05-27.

Positive-type radiation-sensitive mixture, positive-type radiation-sensitive recording material and method for producing the recording material

Номер патента: JP2683055B2. Автор: カール‐フリードリツヒ・デツセル. Владелец: ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト. Дата публикации: 1997-11-26.

Positive type photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using positive type photosensitive resin composition, and semiconductor device including photosensitive resin layer

Номер патента: KR20120074810A. Автор: 김정현,전환승,이종화,조현용,임미라,정민국,정지영,차명환. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2012-07-06.

Positive type photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using positive type photosensitive resin composition, and semiconductor device including photosensitive resin layer

Номер патента: KR101400189B1. Автор: 전환승,이종화,조현용,임미라,정민국,정지영,차명환. Владелец: 제일모직 주식회사. Дата публикации: 2014-05-27.

Composition of positive type photosensitive polyimide varnish, positive type polyimide and film containing that

Номер патента: KR101378841B1. Автор: 김성준,이광훈,강정호,정지홍,정찬문,이상열,유환철. Владелец: (주)상아프론테크. Дата публикации: 2014-03-28.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: EP3413131A4. Автор: Tadamitsu Nakamura. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2019-10-09.

Positive typed photosensitive composition

Номер патента: US20110183115A1. Автор: Jin Han Lee,Seok Chan Kang. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-28.

Hybrid photoresist composition for extreme ultraviolet photolithography applications

Номер патента: US20240264525A1. Автор: Takuo Sugioka,Tsuyoshi Goya,Albert Manfred Brouwer,Quentin Jack Omer EVRARD. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-08.

A position-type special device for disassemble cables

Номер патента: LU504012B1. Автор: XU Chu,Haiyan Luo,BO Wang,Li Deng,Ji Zhang,Xiaoli Liu,Shuai Dong,Yanbo Guo,Yiming Zhang,Yimeng Zhang,Caixia Zhang,Haiyang ZHAO,Ming Cui,An ZHENG,Shushan Li,Yanxin Lian,Fen Zhao,Hongjun Fan,Baidong Chen,Zitao Lv,Tiepeng Xing,Xiuyun Liu,Xingtao Wang,Kegang Jia,Fangjiang Liu. Владелец: Huaneng Yimin Coal Power Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-20.

Photoresist composition

Номер патента: WO2008096263A3. Автор: Munirathna Padmanaban,Srinivasan Chakrapani. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2008-11-20.

Photoresist composition

Номер патента: WO2008096263A2. Автор: Munirathna Padmanaban,Srinivasan Chakrapani. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2008-08-14.

T-butyl cinnamate polymers and their use in photoresist compositions

Номер патента: EP1303789A1. Автор: Sanjay Malik,Lawrence Ferreira,Jeffrey Eisele,Alan Whewell. Владелец: OCG Microelectronic Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-23.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20130177850A1. Автор: KANDA Hiromi,INABE Haruki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-07-11.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BLACK BANK OF AN ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

Номер патента: US20130189623A1. Автор: KIM Sang-Woo,KIM Kyung-Jun,Shin Se-Jin. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2013-07-25.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, PROTECTIVE FILM, INSULATING FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY DEVICE INCLUDING THE CURED FILM

Номер патента: US20130280654A1. Автор: TAKAHASHI Yasunori,SUGIYAMA Hiromichi. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20140113230A1. Автор: KIM Eung-Gon,KIM Seong-Gi,RYU Sun. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-24.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20200033729A1. Автор: Katayama Shota,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20190041748A1. Автор: NAKAMURA Tadamitsu. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20190049842A1. Автор: NAKAMURA Tadamitsu,MATSUKAWA Daisaku. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-14.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20150056557A1. Автор: Irie Makiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

Positive-Type Resist Composition

Номер патента: US20140134542A1. Автор: Yoshiharu Terui,Takashi Mori,Haruhiko Komoriya. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-15.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION AND CURED FILM FORMED BY USING THE SAME

Номер патента: US20200073241A1. Автор: Yoshida Naofumi,TAKAHASHI Megumi,TANIGUCHI Katsuto. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

POLYIMIDE RESIN, POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220179316A1. Автор: Kim JiHye,PARK Hyunmin,LIM Minyoung. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2022-06-09.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND INSULATING FILM AND OLED FORMED USING THE SAME

Номер патента: US20140234775A1. Автор: PARK Se Hyung,Kim Byoung Kee. Владелец: KOLON INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2014-08-21.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20200142307A1. Автор: Kawaue Akiya,Kuroiwa Yasushi,Katayama Shota,EBISAWA Kazuaki,MASUDA Yasuo,MOMOZAWA Aya,FUKUMOTO Kohei. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20150160554A1. Автор: Liu Chi-ming,Shih Chun-An. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-11.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20160187780A1. Автор: INABE Haruki,Kobayashi Hiromi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-06-30.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20150205205A1. Автор: INABE Haruki,Kobayashi Hiromi. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-23.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING CURED FILM USING THE SAME

Номер патента: US20150212412A1. Автор: Tomikawa Masao,Onishi Hiroyuki,MASUDA Yuki. Владелец: Toray Industries, Inc.. Дата публикации: 2015-07-30.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20150219991A1. Автор: Tomikawa Masao,Onishi Hiroyuki,MASUDA Yuki,KAMEMOTO Satoshi. Владелец: Toray Industries, Inc.. Дата публикации: 2015-08-06.

POSITIVE TYPE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD OF PRODUCING SAME, AND METHOD OF PREPARING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20190212652A1. Автор: Sato Takashi,YASUHARA Yuichi,MUKAIYAMA Rena. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20200209748A1. Автор: Kimura Kenta,Katayama Shota,EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition for thick film

Номер патента: US20160231651A1. Автор: Yuta Yamamoto,Yasushi Kuroiwa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-11.

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION AND CURED FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200225583A1. Автор: Yoshida Naofumi,Nonaka Toshiaki,TAKAHASHI Megumi,TANIGUCHI Katsuto,SHIBAYAMA Seishi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20150268553A1. Автор: Washio Yasushi,Shimizu Takahiro,Katayama Shota. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-24.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR THICK-FILM APPLICATION

Номер патента: US20150268557A1. Автор: Yamamoto Yuta,Irie Makiko,MOMOZAWA Aya. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-24.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLATED ARTICLE

Номер патента: US20180259853A1. Автор: EBISAWA Kazuaki. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-13.

APPARATUS FOR TRANSMITTING WIRELESS POWER AND METHOD OF TRANSMITTING WIRELESS POWER ACCORDING TO POSITION TYPE

Номер патента: US20180278099A1. Автор: KIM Ji-won,KIM Dong-Zo,Song Keum-Su,KIM Kwang-Seob,HA Min-Cheol,HONG Jong-Chul,CHO Se-Hyun. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20160291469A1. Автор: Katayama Shota,MOMOZAWA Aya. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-06.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20160370701A1. Автор: INABE Haruki,Kobayashi Hiromi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-12-22.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20200409266A1. Автор: KIM Ji Ung,JUNG Ju-young,HUH Geun,Kim Yeonok,IM JinKyu. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Positive-type photosensitive resin composition, method for producing resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: KR101398754B1. Автор: 히로시 마츠타니,타쿠미 우에노,알렉산드로 니콜라,유키히코 야마시타,켄 나나우미,아키토시 타니모토. Владелец: 히타치가세이가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-05-27.

Positive type photosensitive epoxy resin composition and printed circuit board using the same

Номер патента: AU2002224832A1. Автор: Yasuharu Nojima. Владелец: Vantico GmbH. Дата публикации: 2002-05-27.

Positive-type photosensitive resin compositions

Номер патента: EP0608894A1. Автор: Kazuyuki Kawamura,Kiyomi Sakurai,Mamoru Seio,Chikayuki Otsuka. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1994-08-03.

Positive type actinic ray-curable dry film and pattern-forming method by use of the same

Номер патента: KR100347411B1. Автор: 하세가와타케야,이마이겐지. Владелец: 간사이 페인트 가부시키가이샤. Дата публикации: 2002-08-03.

Positive type resist composition

Номер патента: KR102127533B1. Автор: 가즈키 다카하시,나오즈미 마츠모토,지로 히키다. Владелец: 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-06-26.

Injection type photoresist stripping process

Номер патента: KR102148833B1. Автор: 쇼밍 마,웨이-화 리어우,춘-옌 강,비제이 엠. 배니아푸라,하이-어우 엠. 판-부. Владелец: 베이징 이타운 세미컨덕터 테크놀로지 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2020-08-28.

Positive type transfer film

Номер патента: KR101305664B1. Автор: 이병일,문희완. Владелец: 코오롱인더스트리 주식회사. Дата публикации: 2013-09-09.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: KR102016443B1. Автор: 한석,박석봉,이학주,김진성,강수진,유선. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2019-09-02.

Positive type resist developing solution

Номер патента: JPS59219743A. Автор: Akira Yokota,Hisashi Nakane,Koichiro Hashimoto,Cho Yamamoto,晃 横田,中根　久,山本　兆,橋本　鋼一郎. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1984-12-11.

Forming method of negative type photoresist pattern

Номер патента: JPS5640823A. Автор: Yoshio Yamashita,Takaharu Kawazu,Mitsumasa Kunishi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1981-04-17.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101423539B1. Автор: 김영호,유용식,김재현,전환승,이정우,이종화,조현용,정민국,정지영,박수민,김수영. Владелец: 삼성전자 주식회사. Дата публикации: 2014-07-25.

Positive type photosensitive epoxy resin composition and printed circuit board using same

Номер патента: CN1474961A. Автор: ,��Ұ���,菅野安昭,野岛安治. Владелец: VANDIEK Inc. Дата публикации: 2004-02-11.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101247622B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,차명환,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-03-29.

Direct positive type silver halide photographic sensitive material

Номер патента: JPS6459349A. Автор: Yasuo Tosaka,Susumu Okawachi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1989-03-07.

Positive type photosensitive heat-resisting material

Номер патента: JPS6461747A. Автор: Shigeru Kubota,Norimoto Moriwaki,Torahiko Ando,Sachiko Yamawaki. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-03-08.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101023089B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,차명환,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2011-03-24.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS63305348A. Автор: Yasumasa Kawabe,Kazuya Uenishi,一也 上西,Tadayoshi Kokubo,小久保　忠嘉,河辺　保雅. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1988-12-13.

Double-layered positive type organic photoreceptor

Номер патента: KR100462622B1. Автор: 주혜리,이남정,김범준,이환구,요코다사부로,연경열. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-12-23.

Positive Type Dry Film Photoresist

Номер патента: KR100759852B1. Автор: 병 기 김,세 형 박,종 민 박,성 인 백. Владелец: 주식회사 코오롱. Дата публикации: 2007-09-18.

Positive Type Photosensitive Insulating Resin Composition, and Cured Product and Electronic Component Produced Therefrom

Номер патента: KR101290041B1. Автор: 히로후미 고또,히로후미 사사끼,아쯔시 이또,유이찌 하시구찌. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-07-30.

Positioning type combined sewing clothing template

Номер патента: CN110983648B. Автор: 王丽霞. Владелец: Xingtai Polytechnic College. Дата публикации: 2021-09-24.

V-shape positioning type internal diameter and external diameter comparison measuring instrument

Номер патента: CN110360916B. Автор: 金熠,全贻智,古小灵. Владелец: LIUZHOU KELU MEASUREMENT INSTRUMENT CO Ltd. Дата публикации: 2021-07-23.

Photoengraving method of positive type photosensitive lithographic printing plate

Номер патента: JPS6078451A. Автор: 耕太郎 山末,Kotaro Yamasue. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1985-05-04.

Direct positive type silver halide photographic sensitive material

Номер патента: JPS6375739A. Автор: Yuji Mihara,Nobuaki Inoue,Naoki Saeki,Toshinao Ukai,祐治 三原,利直 鵜飼,井上　伸昭,佐伯　直己. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1988-04-06.

Calibration method of position type adjusting instrument

Номер патента: CN114935354A. Автор: 刘浩,罗峰,刘洪华,朱用文. Владелец: Shenzhen Tiansu Calibration And Testing Co ltd. Дата публикации: 2022-08-23.

Positive Type Radiosensitive Composition and Method for Forming Pattern

Номер патента: KR100817377B1. Автор: 도모히로 우따까,겐따로 다마끼,아끼라 니시까와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-03-27.

Positive type resist composition and formation of mask patter using it

Номер патента: KR900002539B1. Автор: 오구라껭. Владелец: 하시모또 나우미오. Дата публикации: 1990-04-20.

Manufacture of heat resistant positive type resist and heat resistant relief construction

Номер патента: JPS646947A. Автор: Aane Herumuuto,Hanmaashiyumitsuto Aruberuto. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-01-11.

Positive type actinic ray-curable dry film and pattern-forming method by use of the same

Номер патента: KR100428236B1. Автор: 이마이겐지,하세가와다케야. Владелец: 간사이 페인트 가부시키가이샤. Дата публикации: 2004-04-30.

Positive-type photosensitive resin composition, method for forming cured film, cured film, organic el display device, and, liquid crystal display device

Номер патента: KR101964685B1. Автор: 다츠야 시모야마. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-04-03.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film and forming method thereof, interlayer dielectric and display device

Номер патента: CN102540726B. Автор: 山田悟,山﨑健太,霜山达也,川岛敬史,下野胜弘,杉原幸一,柏木大助,真崎庆央. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-06.

Yarn sending apparatus of positive type in circular knitting machine

Номер патента: JPS57139542A. Автор: Masatoshi Sawazaki. Владелец: FUKUHARA SEIKI SEISAKUSHO KK. Дата публикации: 1982-08-28.

Positive-type photosensitive resin composition and hardened overcoat layer prepared therefrom

Номер патента: KR20140049722A. Автор: 김응곤,김성기,유선. Владелец: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사. Дата публикации: 2014-04-28.

Kit for ABO blood group positive typing and Rh blood group detection and preparation method and detection method thereof

Номер патента: CN111638373A. Автор: 童军,王玉霞,高浩月,孔维臣,安潇潇,邱晓雨. Владелец: Changchun Bode Biotechnology Co ltd. Дата публикации: 2020-09-08.

Positive type ionization radiation resist composition

Номер патента: JPS6093430A. Автор: Yasuhiro Yoneda,泰博 米田,Masashi Miyagawa,昌士 宮川,Kota Nishii,Shunichi Fukuyama,俊一 福山,耕太 西井. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1985-05-25.

Positive Type Photosensitive Resin Precursor Composition and Display Device Using the Same

Номер патента: KR100788537B1. Автор: 미쯔히또 수와,가즈또 미요시,마사오 도미까와. Владелец: 도레이 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-12-24.

Positive type radiosensitive composition and method for forming pattern

Номер патента: CN1507580A. Автор: 广,玉木研太郎,宇高友广,西川昭. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-06-23.

Positive type photosensitive and heat sensitive recording material

Номер патента: JPS5840543A. Автор: Masaaki Umehara,正彬 梅原. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 1983-03-09.

Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR102399142B1. Автор: 야스시 와시오,쇼타 가타야마,다카히로 시미즈. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-05-17.

Positive type resist material, and pattern-forming method

Номер патента: JP2022042967A. Автор: Jun Hatakeyama,岳志 永田,Takeshi Nagata,潤 畠山,伝文 林,Chuanwen Lin,朝美 渡邊,Asami Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-15.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS58145938A. Автор: ニコラス・ジエフリ−ス・クレカツク,デニス・リチヤ−ド・マツキ−ン,ロバ−ト・デニス・ミラ−,テリ−・キヤデイ・トンプキンス,ロバ−ト・ジエ−ムズ・ツウイ−グ,カ−ルトン・グラント・ウイルソン. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1983-08-31.

Resist processing method and use of positive type resist composition

Номер патента: US20110183264A1. Автор: Satoshi Yamamoto,Kazuhiko Hashimoto,Mitsuhiro Hata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-28.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: JPS63113451A. Автор: Hitoshi Oka,孝夫 三浦,Takashi Aoki,Takao Miura,隆司 青木,岡　仁志. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1988-05-18.

Positive type photosensitive organic compound and the cured film formation method of having used said composition

Номер патента: CN101876789A. Автор: 安藤豪,泷田敏. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-11-03.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101333704B1. Автор: 유용식,전환승,이정우,이종화,조현용,정민국,정지영,차명환,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-11-27.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPS58182633A. Автор: Akira Yokota,Hisashi Nakane,Koichiro Hashimoto,Takashi Komine,Cho Yamamoto,晃 横田,小峰　孝,中根　久,山本　兆,橋本　鋼一郎. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1983-10-25.

Positive type resist, insulating layer and OLED

Номер патента: KR101115787B1. Автор: 이병일,김병기,박세형. Владелец: 코오롱인더스트리 주식회사. Дата публикации: 2012-03-09.

Positive-type photosensitive resin composition, and method for formation of cured film using the same

Номер патента: KR101754841B1. Автор: 타케시 안도,사토시 타키타. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-07-06.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS60189739A. Автор: Yoshiyuki Harita,孝夫 三浦,Yukihiro Hosaka,Takao Miura,幸宏 保坂,榛田　善行. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1985-09-27.

Positive type photosensitive resin composition, method for forming cured film, cured film, organic el display device, and liquid crystal display device

Номер патента: KR101610980B1. Автор: 마사노리 히키타,아키노리 후지타,마사토시 유모토. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-04-08.

Transmission device, between a drive shaft and a driven shaft, equipped with a positive-type clutch

Номер патента: FR2660040A1. Автор: Defuans Jean-Louis. Владелец: DEFUANS JEAN LOUIS. Дата публикации: 1991-09-27.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS63281153A. Автор: Katsukiyo Ishikawa,Kanji Nishijima,Akio Kashiwabara,Mamoru Kiyoo,石川　勝清,西島　寛治,清尾　守,柏原　章雄. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1988-11-17.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS58182632A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,Toko Harada,Yukihiro Hosaka,幸宏 保坂,榛田　善行,鴨志田　洋一,原田　都弘. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1983-10-25.

Developing agent for positive-type photosensitive composition

Номер патента: EP1574907A1. Автор: Tsutomu Sato. Владелец: Think Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-14.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS5875149A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,Toko Harada,Yukihiro Hosaka,幸宏 保坂,榛田　善行,鴨志田　洋一,原田　都弘. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1983-05-06.

Positioning type safety hand bracelet for children

Номер патента: CN103906231A. Автор: 蔡建聪,严易强,杨延丽. Владелец: FUJIAN TAOSING NETWORK TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-02.

Developing method for positive type photosensitive lithographic plate

Номер патента: JPS5612645A. Автор: Hiroshi Takahashi,Masaru Watanabe,Haruo Ito. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1981-02-07.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: KR102461088B1. Автор: 마호 아키모토,사토미 후쿠시마,연정 임. Владелец: 다이요 홀딩스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-10-31.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS5843451A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,Toko Harada,Yukihiro Hosaka,幸宏 保坂,榛田　善行,鴨志田　洋一,原田　都弘. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1983-03-14.

Positive type organic light emitting diode display

Номер патента: CN101127194A. Автор: 陈纪文,张孟祥. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2008-02-20.

Direct positive type silver halide photographic sensitive material

Номер патента: JPS62278544A. Автор: Yasuo Tosaka,泰雄 登坂,Atsushi Kamitakahara,Keiji Ogi,上高原　篤,荻　啓二. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1987-12-03.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS60162249A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,孝夫 三浦,Takao Miura,Mitsunobu Koshiba,榛田　善行,鴨志田　洋一,小柴　満信. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1985-08-24.

Positive Type Photosensitive Resin Composition, Process for Producing Pattern and Electronic Parts

Номер патента: KR100677814B1. Автор: 도모노리 미네기시,마꼬또 가지. Владелец: 히다치 케미칼 듀폰 마이크로시스템즈 리미티드. Дата публикации: 2007-02-05.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPS62251740A. Автор: Akira Nishioka,Hiroshi Matsumoto,明 西岡,博 松本,Keiji Akiyama,慶侍 秋山. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-02.

Positive-type photosensitive resin composition, method of producing cured film, cured film, liquid crystal display device, and organic electroluminescent display device

Номер патента: KR101932449B1. Автор: 타카시 카와시마,켄타 야마자키,마사노리 히키타,히로유키 요네자와. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-12-26.

Double-layered positive type organic photoreceptor

Номер патента: KR100497359B1. Автор: 주혜리,이남정,김범준,이환구,요코다사부로,연경열. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-06-23.

Positive type resist for use in electron beams

Номер патента: JPS57104136A. Автор: Seiji Miyazaki. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-06-29.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS6145240A. Автор: Yoichi Kamoshita,Yoshiyuki Harita,孝夫 三浦,Takao Miura,Mitsunobu Koshiba,榛田　善行,鴨志田　洋一,小柴　満信. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1986-03-05.

Method for developing process of positive type lithographic printing plate to improve uneven development

Номер патента: JPS62278556A. Автор: Akira Nogami,Masabumi Uehara,正文 上原,Minoru Kiyono,Mieji Nakano,野上　彰,清野　実,中野　巳恵治. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1987-12-03.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPS61278847A. Автор: Nobuhiko Wakasaki,Shoji Taniguchi,Masao Tokura,義三 源,Yoshizo Minamoto,戸倉　正夫,谷口　昇次,若崎　宣彦. Владелец: UENO KAGAKU KOGYO KK. Дата публикации: 1986-12-09.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPS62194249A. Автор: Akira Nishioka,明 西岡,Toshimi Hirano,平野　利美. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-26.

Positive type photosensitive resinous composition

Номер патента: CA2024482A1. Автор: Kiyomi Sakurai,Mamoru Seio,Takeshi Ikeda. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1991-03-02.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: JPS62153950A. Автор: Yoshiyuki Harita,Yukihiro Hosaka,正重 高鳥,Ikuo Nozue,Masashige Takatori,幸宏 保坂,榛田　善行,野末　幾男. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-08.

Multi-position < > type lock

Номер патента: FR1031423A. Автор: Battista Aliprandi,Mario Baciocchi,Felice Demmig. Владелец: . Дата публикации: 1953-06-23.

Positive type photosensitive paste composition for PDP electrode, PDP electrode prepared therefrom, and PDP comprising the PDP electrode

Номер патента: US20060073412A1. Автор: Beom-Wook Lee,Dong-Hee Han,Sang-Wook Sin,Jin-Hwan Jeon. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-06.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film and method for producing cured film, liquid crystal display device, and organic electroluminescent display device

Номер патента: CN103091986A. Автор: 米泽裕之,山﨑健太,川岛敬史,疋田政宪. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-05-08.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: KR900002362B1. Автор: 마사노리 미야베,히데카쯔 고오하라,노부오 도오큐다께,도시마시 나까야마,신고오 아사우미,하쯔유기 다나까,요시아끼 아라이. Владелец: 도오교오오오까고오교오 가부시기가이샤. Дата публикации: 1990-04-12.

Process for positive type fine pattern formation

Номер патента: JPS57162430A. Автор: Hitoshi Kato,Yoshikazu Tsujino,Shugo Yamazaki. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-10-06.

Positive type actinic-ray-curable dry film and pattern-forming method by use of the same

Номер патента: US6555286B1. Автор: Genji Imai,Takeya Hasegawa. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-29.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS60176034A. Автор: Yoshiyuki Harita,孝夫 三浦,Yukihiro Hosaka,Takao Miura,幸宏 保坂,榛田　善行. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1985-09-10.

Positive-type photosensitive resin composition, method for production of resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: US20110250396A1. Автор: Hiroshi Matsutani,Ken Nanaumi,Takumi Ueno,Alexandre Nicolas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-13.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: CN101727006A. Автор: 李吉成,赵显龙,李种和,郑闵鞠,郑知英,车明焕,俞龙植,郑斗瑛. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2010-06-09.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS60230136A. Автор: Yasuhiro Yoneda,泰博 米田,Masashi Miyagawa,昌士 宮川,Kota Nishii,Shunichi Fukuyama,俊一 福山,耕太 西井. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1985-11-15.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: US11573490B2. Автор: Ju-Young Jung,Yeonok KIM,Ji Ung KIM,Geun Huh,Jinkyu IM. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. Дата публикации: 2023-02-07.

Positive type photosensitive epoxy resin composition and printed circuit board using same

Номер патента: CN1232885C. Автор: 菅野安昭,野岛安治. Владелец: VANDIEK Inc. Дата публикации: 2005-12-21.

Positive-type photosensitive electrodeposition coating composition and process for producing circuit plate

Номер патента: CA2009831A1. Автор: Naozumi Iwasawa,Junichi Higashi. Владелец: Junichi Higashi. Дата публикации: 1990-08-14.

Dry-developable positive type resist composition

Номер патента: JPS59125729A. Автор: Yasuhiro Yoneda,泰博 米田,Masashi Miyagawa,Tateo Kitamura,健郎 北村,昌士 宮川. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-07-20.

Positive-type resist composition and method for formation of resist pattern

Номер патента: KR101016930B1. Автор: 도시유키 오가타,요헤이 기노시타,다케시 이와이. Владелец: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2011-02-28.

Positive-type photosensitive electrodeposition coating composition and process for producing circuit plate

Номер патента: EP0383223A1. Автор: Naozumi Iwasawa,Junichi Higashi. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1990-08-22.

Wireless-communication-based point positioning type release tag

Номер патента: CN203535785U. Автор: 张衡,戴阳,樊伟,杨胜龙. Владелец: East China Sea Fishery Research Institute Chinese Academy of Fishery Sciences. Дата публикации: 2014-04-09.

Positive Type Dry Film Photoresist

Номер патента: US20080090168A1. Автор: Jong-Min Park,Byoung-Kee Kim,Se-Hyung Park,Seong-In Baek. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2008-04-17.

Silica based positive type photosensitive organic compound

Номер патента: CN101551589A. Автор: 阿部浩一,小岛恭子. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-07.

Radiaton sensitive positive type resist composition and its solution

Номер патента: JPS5744145A. Автор: Tadao Kato,Hideo Saeki,Kazunori Saito. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1982-03-12.

Positive type electron beam resist

Номер патента: JPS5842041A. Автор: ヒロユキ・ヒラオカ,ジエ−ムズ・エコノミ−,ロイ・ジヨン・グリツタ−. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1983-03-11.

Positive type resist polymer composition and method of making resist patterns

Номер патента: WO1979000283A1. Автор: Y Yoneda,K Kitamura,T Kitakohji. Владелец: T Kitakohji. Дата публикации: 1979-05-31.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: CN1816774A. Автор: 辻新祐,饭沼洋介,荒濑慎哉. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2006-08-09.

A kind of precise positioning type optical fiber senses pre-alarm system

Номер патента: CN104408848B. Автор: 刘龙海,陈施忠. Владелец: NANJING YEXIANG TECHNOLOGY DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-05.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: TWI528111B. Автор: Tomoyuki Ando,Takahiro Senzaki,Kaoru Ishikawa. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-01.

Positive type photosensitive lithographic plate

Номер патента: JPS62143045A. Автор: Takeshi Yamamoto,Hiroshi Tomiyasu,Nobumasa Sasa,毅 山本,Shichiro Takahashi,富安　寛,佐々　信正,高橋　七郎. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1987-06-26.

Silica based positive type photosensitive organic compound

Номер патента: TW201001076A. Автор: Kyoko Kojima,Koichi Abe. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-01.

Positive type photosensitive resin composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US6699646B2. Автор: Genji Imai,Hideo Kogure. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-02.

POSITIVE TYPE THERMO-STABLE PHOTOSENSITIVE PROTECTIVE SUBSTANCE

Номер патента: IT1060035B. Автор: . Владелец: GAF Corp. Дата публикации: 1982-07-10.

Positive type resist resin for far ultraviolet rays

Номер патента: JPS5872938A. Автор: Hiroyuki Uchida,Jun Nakauchi,純 中内,内田　広幸. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 1983-05-02.

Automatic positioning type leak-hunting detection method for inner container of water heater

Номер патента: CN106323562A. Автор: 严培棉. Владелец: Maanshan Meigeer Technology And Electrical Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-11.

A method and circuit for driving an active matrix of a positive type liquid crystal display device

Номер патента: SG40088G. Автор: . Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1989-01-27.

Positive type resist

Номер патента: JPS585736A. Автор: Shigeyoshi Suzuki,成嘉 鈴木. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-01-13.

Positive type resist material

Номер патента: JPS60189741A. Автор: Shuji Hayase,Yasunobu Onishi,修二 早瀬,Kunihiro Isori,五十里　邦弘,康伸 大西. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1985-09-27.

High aspect ratio, positive type thick flexible photoresist film

Номер патента: KR940004381A. Автор: 에스. 딕시트 서니트. Владелец: 제랄드 켄트 화이트. Дата публикации: 1994-03-15.

Sliding positioning type weft catch device

Номер патента: CN105671751A. Автор: 何晓东. Владелец: Suzhou Danfang Textile Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-15.

Quick positioning type precision vice

Номер патента: CN219094839U. Автор: 徐东军. Владелец: Suzhou Sixi Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-05-30.

Positive type photosensitive resin composition containing siloxane compound

Номер патента: TW200804984A. Автор: Tadashi Hatanaka. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Positive type dry film photoresist

Номер патента: EP1820063B1. Автор: Se-Hyung Park,Byoung-Kee 204-504 Byucksan town KIM,Jong-Min 505-301 Saemmaeul woobang apartment PARK,Seong-In 2-907 Seogang apartment BAEK. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-09-17.

A method and circuit for driving an active matrix of a positive type liquid crystal display device

Номер патента: HK69789A. Автор: Shinji Morozumi,Toshiyuki Misawa,Yoshio Nakazawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1989-09-08.

Positive type dry film resist, PDP filter and display device

Номер патента: KR101190355B1. Автор: 이병일,김병기,김정근,박세형. Владелец: 코오롱인더스트리 주식회사. Дата публикации: 2012-10-11.

Positive-type photosensitive resin composition, method for producing resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: CN103091987A. Автор: 松谷宽,山下幸彦,七海宪,上野巧,亚历山大·尼古拉,谷本明敏. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Accurate positioning type fish killing and scale removing mechanism

Номер патента: CN217695120U. Автор: 张宝锋,董雅文,郭晓月,陈馨乐,谢雨荷. Владелец: Xian University of Technology. Дата публикации: 2022-11-01.

Positive type photosensitive resin composition, manufacturing method of pattern cured film, cured product, interlayer insulating film, cover coat layer, surface protective film and electronic components

Номер патента: JP6919746B2. Автор: 明敏 谷本,哲也 榎本,篤太郎 吉澤,大作 松川,榎本　哲也. Владелец: HD MicroSystems Ltd. Дата публикации: 2021-08-18.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: US20060211797A1. Автор: Yosuke Iinuma,Shinsuke Tsuji,Shinya Arase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2006-09-21.

Positive type photosensitive organic compound, pattern forming method, thin-film transistor array base-plate and liquid crystal display element

Номер патента: CN104698756B. Автор: 施俊安,刘骐铭. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2019-03-22.

PROCESS FOR PREPARING PHOTO-RESISTANT MATERIALS OF THE POSITIVE TYPE SENSITIVE TO ELECTRONIC RADIATION

Номер патента: FR2364487A1. Автор: Duane E Johnson,Lester A Pederson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1978-04-07.

Apparatus for transmitting wireless power and method of transmitting wireless power according to position type

Номер патента: WO2018174536A1. Автор: Keum-Su Song,Dong-Zo KIM,Ji-Won Kim,Min-Cheol Ha,Jong-Chul Hong,Kwang-Seob Kim,Se-Hyun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2018-09-27.

Positive type resist material

Номер патента: JPS58114030A. Автор: Kazuo Toda,Katsuhiro Fujino,和男 戸田,藤野　勝裕. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1983-07-07.

Positive-type photosensitive composition

Номер патента: KR100560281B1. Автор: 사토쓰토무. Владелец: 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리. Дата публикации: 2006-03-10.

Positive type radiation-sensitive composition, inter-layer insulating film and forming method therefor

Номер патента: CN102213918A. Автор: 一户大吾. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-12.

Positive Type Photosensitive Resist Composition and Use Thereof

Номер патента: KR100537964B1. Автор: 요시히로 야마모또,슈지 다하라,리쯔꼬 시바하라,모리쯔구 모리따,이찌로우 오노. Владелец: 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-12-21.

Positive type photosensitive anionic electrodeposition coating resin composition

Номер патента: EP0489560A1. Автор: Toshihiko Akahori,Shigeo Tachiki,Takuro Kato,Masahiko Hiro. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1992-06-10.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPS57118238A. Автор: Takeshi Yamamoto,Masabumi Uehara,Atsuo Yamazaki,Toru Aoki. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1982-07-23.

Fire automatic-positioning type photograph platform courses method

Номер патента: CN107888878A. Автор: 包云清. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-06.

Clamping and positioning type pushing device for forming counterweight blocks of elevator

Номер патента: CN216546965U. Автор: 李飞,赵林,孙明亮,刘明臣. Владелец: Tianjin Shengchi Precision Industry Co ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Positive type radiation-sensitive resist composition

Номер патента: CA2078830A1. Автор: Hirotoshi Nakanishi,Yasunori Uetani,Hiroshi Moriuma. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-05-02.

Direct positive type light-sensitive silver halide photographic materials

Номер патента: GB2044944B. Автор: . Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1983-11-02.

Positive-type photosensitive resin composition, cured film, protective film, insulating film, and semiconductor device

Номер патента: US8309280B2. Автор: Toshio Banba. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-13.

Hardenable photosensitive mixture suitable as positive type recording material

Номер патента: JPS6095432A. Автор: ラインホルト、イョット、レイラー,ハンス、シユプ,アルベルト、エルツアー,クラウス‐ペーター、イエケル. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1985-05-28.

A kind of automatic butt homing position type new-energy automobile charging equipment

Номер патента: CN108718024A. Автор: 费先艳. Владелец: 费先艳. Дата публикации: 2018-10-30.

Direct positive type silver halide color photographic light-sensitive material

Номер патента: JPH0652385B2. Автор: 泰雄 登坂,進 大川内,元 小松. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1994-07-06.

Positive type dry film photoresist and preparing method of the same

Номер патента: KR100793406B1. Автор: 박종민,김병기,변달석,박세형,송석정. Владелец: 주식회사 코오롱. Дата публикации: 2008-01-11.

Developing solution for rubber type photoresist

Номер патента: JPS5882244A. Автор: Akira Yokota,Hisashi Nakane,初幸 田中,Hatsuyuki Tanaka,Takashi Komine,Cho Yamamoto,晃 横田,小峰　孝,中根　久,山本　兆. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1983-05-17.

Developer for thermal positive type photosensitive composition

Номер патента: KR100839153B1. Автор: 츠토무 사토. Владелец: 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리. Дата публикации: 2008-06-19.

Positive type resist composition for electron ray or x-ray

Номер патента: JPS63218947A. Автор: Makoto Hanabatake,Makoto Kitakata,Yukikazu Kamimura,Akihiro Furuta,誠 花畑,Katsumi Tanigaki,勝己 谷垣,北方　誠,古田　秋弘,上村　幸和. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1988-09-12.

Direct positive type silver halide photosensitive material

Номер патента: GB2049212B. Автор: . Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1983-04-27.

Notch positioning type soldering structure and method for preventing pin deviation

Номер патента: US20110308850A1. Автор: Ching-Feng Hsieh,Hsiang-Chih Ni. Владелец: Askey Computer Corp. Дата публикации: 2011-12-22.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS57202536A. Автор: Yasuhiro Yoneda,Tateo Kitamura,Jiro Naito,Toshisuke Kitakoji. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-12-11.

Radiation sensitive positive type resist for forming fine pattern

Номер патента: JPS58118641A. Автор: Akira Miura,Tsukasa Tada,明 三浦,宰 多田. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1983-07-14.

Developer for thermal positive type photosensitive composition

Номер патента: EP1806622A1. Автор: Tsutomu c/o THINK LABORATORY CO. LTD. SATO. Владелец: Think Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-11.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: CN101727006B. Автор: 李吉成,赵显龙,李种和,郑闵鞠,郑知英,车明焕,俞龙植,郑斗瑛. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2014-06-25.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: JPS63218946A. Автор: Hitoshi Oka,孝夫 三浦,Takao Miura,岡　仁志. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1988-09-12.

Positive type photosensitive composition and pattern formation method using the same

Номер патента: KR101414535B1. Автор: 슈헤이 야마구치,노리히코 타구치. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-07-03.

Positive type photosensitive organic compound

Номер патента: CN108027555A. Автор: 古江健太郎,宫石由起. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2018-05-11.

Positive type resist composition

Номер патента: JPS63217346A. Автор: Makoto Hanabatake,Makoto Kitakata,Yukikazu Kamimura,Akihiro Furuta,誠 花畑,Katsumi Tanigaki,勝己 谷垣,北方　誠,古田　秋弘,上村　幸和. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1988-09-09.

SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC ELEMENTS OF DIRECT POSITIVE TYPE HANDLING WITH WHITE LIGHT.

Номер патента: IT8721373D0. Автор: Alberto Vacca,Angelo Vallarino,Mauro Besio. Владелец: Minnesota Mining & Mfg. Дата публикации: 1987-07-21.

Positive type photosensitive organic compound, partition wall and optical element

Номер патента: CN104160336B. Автор: 川岛正行,高桥秀幸,古川丰. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: WO2005010615A1. Автор: Yosuke Iinuma,Shinsuke Tsuji,Shinya Arase. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2005-02-03.

Positive type photosensitive resin composition containing an alkali-soluble polymer and a compound which forms an amine compound with irradiation of light

Номер патента: US6197475B1. Автор: Yasunori Kojima,Makoto Kaji,Hideo Hagiwara. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-03-06.

Positive type light sensitive composition

Номер патента: JPS5271224A. Автор: Kiyokatsu Jinno. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-06-14.

Positioning type labeling machine

Номер патента: CN219619582U. Автор: 张兵,张建,肖宏远. Владелец: Anhui Lianjia Intelligent Equipment Co ltd. Дата публикации: 2023-09-01.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film manufactured therefrom

Номер патента: US8828651B2. Автор: Tadashi Hatanaka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-09-09.

Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom

Номер патента: TW202100579A. Автор: 金智雄,任珍奎,許槿,鄭周永,金蓮玉. Владелец: 南韓商羅門哈斯電子材料韓國公司. Дата публикации: 2021-01-01.

Positive type photosensitive epoxy resin composition and printed circuit board using the same

Номер патента: US20040043327A1. Автор: Yasuharu Nojima,Yasuaki Sugano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-04.

Positive Type Dry Film Photoresist And Composition For Preparing The Same

Номер патента: US20080124654A1. Автор: Jong-Min Park,Byoung-Kee Kim,Se-Hyung Park,Seong-In Baek. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2008-05-29.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: EP0227487A2. Автор: Yoshiyuki Harita,Yoshihiro Hosaka,Ikuo Nozue,Kiyoshi Honda,Masashige Takatori. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1987-07-01.

Positive-type photosensitive resin composition, and insulating film and oled formed using the same

Номер патента: WO2013048069A1. Автор: Se Hyung Park,Byoung Kee Kim. Владелец: KOLON INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2013-04-04.

Positive-type photosensitive resin composition and black bank of an organic light-emitting device including same

Номер патента: WO2012008736A2. Автор: 김상우,김경준,신세진. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2012-01-19.

High-sensitivity, high-resolution positive-type electron-beam resist

Номер патента: EP0343603B1. Автор: Akira Tamura,Takeo Sugiura,Keishi Tanaka. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 1994-08-17.

Positive-type photosensitive resin composition, method for production of resist pattern, semiconductor device, and electronic device

Номер патента: WO2009063808A1. Автор: Hiroshi Matsutani,Ken Nanaumi,Takumi Ueno,Alexandre Nicolas. Владелец: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2009-05-22.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: KR101225957B1. Автор: 이길성,유용식,이종화,조현용,정민국,정지영,정두영. Владелец: 제일모직주식회사. Дата публикации: 2013-01-24.

Positive type photosensitive resin composition, cured film and forming method thereof, interlayer dielectric film and display device

Номер патента: TW201224662A. Автор: Satoru Yamada,Daisuke Kashiwagi,Katsuhiro Shimono,Takashi Kawashima,Kenta Yamazaki,Tatsuya Shimoyama,Yoshihisa Masaki,Kouichi Sugihara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-06-16.

Positive type dry film photoresist

Номер патента: EP1820063A4. Автор: Jong-Min Park,Byoung-Kee Kim,Se-Hyung Park,Seong-In Baek. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2010-03-31.

Positive type resist composition

Номер патента: TW430754B. Автор: Yasunori KAMITANI,Mahiro Mori. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2001-04-21.

Positive-type resist composition, resist film formation method, and laminate production method

Номер патента: WO2019151019A1. Автор: 学 星野. Владелец: 日本ゼオン株式会社. Дата публикации: 2019-08-08.

Positive-type photosensitive resin composition, method for producing resist pattern, and electronic component

Номер патента: CN102132212B. Автор: 松谷宽,七海宪,上野巧,亚历山大·尼古拉. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-28.

Positive type photosensitive resin composition

Номер патента: JPS57151939A. Автор: Yoshiyuki Harita,Toko Harada,Yukihiro Hosaka,Yasuo Terasawa. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1982-09-20.

Positive type photosensitive resin composition and organic light emitting device black bank comprising the same

Номер патента: TW201217908A. Автор: Kyung-Jun Kim,Sang-Woo Kim,Se-Jin Shin. Владелец: Lg Chemical Ltd. Дата публикации: 2012-05-01.

Apparatus for transmitting wireless power and method of transmitting wireless power according to position type

Номер патента: EP3552300C0. Автор: Keum-Su Song,Dong-Zo KIM,Ji-Won Kim,Min-Cheol Ha,Jong-Chul Hong,Kwang-Seob Kim,Se-Hyun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-05.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: TW561315B. Автор: Toru Fujimori,Sjorp Tan. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-11.

Positive type resist composition

Номер патента: TW526387B. Автор: Hiroshi Moriuma,Yoshiyuki Takata. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2003-04-01.

Positive-type photosensitive resin composition

Номер патента: EP3413132A4. Автор: Tadamitsu Nakamura,Daisaku Matsukawa. Владелец: Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. Дата публикации: 2019-09-25.

Photoresist compositions comprising solvents for short wavelength imaging

Номер патента: WO2002084401A3. Автор: Anthony Zampini,Charles R Szmanda. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-05-15.

Photoresist compositions comprising solvents for short wavelength imaging

Номер патента: EP1377879A2. Автор: Charles R. Szmanda,Anthony Zampini. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2004-01-07.

Method of forming plated product using negative photoresist composition and photosensitive composition used therein

Номер патента: TW200606598A. Автор: Koji Saito,Yasushi Washio,Yasuo Masuda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

Polymer for chemical amplification type photoresist, photoresist composition and process for producing semiconductor device using it

Номер патента: JP2003261657A. Автор: Osamu Onishi,治 大西. Владелец: Sumitomo Bakelite Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-19.

Ultrasonic diagnostics technique for position type of acromial process with respect to head of humerus

Номер патента: RU2367346C1. Автор: Александр Юрьевич Кинзерский,Ирина Николаевна Турдакина. Владелец: Государственное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования &#34;Уральская государственная медицинская академия дополнительного образования Федерального агентства по здравоохранению и социальному развитию&#34; (ГОУ ДПО УГМАДО Росздрава). Дата публикации: 2009-09-20.

Composition for positive type photoresist pealing solution

Номер патента: TW200528942A. Автор: Kaoru Ikegami,Norio Ishikawa. Владелец: Kanto Kagaku. Дата публикации: 2005-09-01.

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THICK FILM RESIST PATTERN

Номер патента: US20120141940A1. Автор: ANDO Tomoyuki,Washio Yasushi,Shimizu Takahiro,Koshiyama Jun. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-06-07.

POLYIMIDE-BASED POLYMERS, COPOLYMERS THEREOF AND POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20120301826A1. Автор: KIM Sang Woo,KIM Kyung Jun,Oh Dong Hyun,PARK Chan Hyo,Seong Hye Ran,Shin Se Jin. Владелец: . Дата публикации: 2012-11-29.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPH01177031A. Автор: Koji Yamagata,Tsukasa Sakurada,司 桜田,光二 山形. Владелец: RAIZAA KOGYO KK. Дата публикации: 1989-07-13.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPH01147538A. Автор: Hisao Yamashita,Shigeru Azuhata,Akira Kato,寿生 山下,加藤　　明,Shigeru Nozawa,Takeo Komuro,茂 小豆畑,滋 野沢,武勇 小室,Hirohisa Yasu,裕寿 安. Владелец: Babcock Hitachi KK. Дата публикации: 1989-06-09.

Positive type photoresist composition for exposure with far ultraviolet ray

Номер патента: JPH11184090A. Автор: Kenichiro Sato,利明 青合,Toshiaki Aoso,健一郎 佐藤. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-07-09.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JPH01179147A. Автор: 泉 松下,徹 西家,Akira Kudo,章 工藤,Izumi Matsushita,Yoshimi Urushibata,芳実 漆畑,Toru Nishiie. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 1989-07-17.

Positive type photoresist composition and pattern forming method

Номер патента: JPH1165108A. Автор: Yasumasa Kawabe,保雅 河辺. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-05.

Polyimide-based polymers, copolymers thereof and positive type photoresist compositions comprising the same

Номер патента: TW201041935A. Автор: Chan-Hyo Park,Kyung-Jun Kim,Sang-Woo Kim,Dong-Hyun Oh,Hye-Ran Seong,Se-Jin Shin. Владелец: Lg Chemical Ltd. Дата публикации: 2010-12-01.

Positive type photoresist composition

Номер патента: JP2001194789A. Автор: Kazuyoshi Mizutani,Kenichiro Sato,健一郎 佐藤,一良 水谷. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-19.

Positive type photoresist composition for exposure with far ultraviolet ray

Номер патента: JP2001264984A. Автор: 豊 阿出川,Yutaka Adegawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2001-09-28.

Developing solution for positive type photoresist

Номер патента: JPH01129250A. Автор: Keizo Ishino,敬三 石野,博生 浜砂,Hiroo Hamasuna,Kiitosonen Markku,キイトソネン マルック. Владелец: Valmet Oy. Дата публикации: 1989-05-22.

Negative-type photoresist composition for thick film, photoresist film, and bump forming method using the same

Номер патента: JP3710758B2. Автор: 博司 駒野,浩一 三隅,俊樹 奥井,宏二 斉藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-26.

Negative-type photoresist composition for thick film, photoresist film, and bump forming method using the same

Номер патента: JP3895353B2. Автор: 博司 駒野,浩一 三隅,俊樹 奥井,宏二 斉藤. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-22.

Chemical amplification type photoresist composition and pattern forming method using same

Номер патента: JPH10171122A. Автор: 勝美 前田,嘉一郎 中野,悦雄 長谷川,Shigeyuki Iwasa,繁之 岩佐,Etsuo Hasegawa,Katsumi Maeda,Kaichiro Nakano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-06-26.

METHOD FOR PRODUCING POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND FILTER

Номер патента: US20130022913A1. Автор: Tanaka Yuma,Horii Makoto. Владелец: SUMITOMO BAKELITE CO., LTD.. Дата публикации: 2013-01-24.

Vision positioning type filling robot system and vision positioning type filling method

Номер патента: CN103738902A. Автор: 王鑫,刘振,张宇航,姜洪彬,李志慧,李光远,王庆旭,霍箭东,欧祥印,孙德春,姜有锐,蒋世财,杨鹏凌,郑榆,康振国. Владелец: CHANGCHUN BEIFANG INSTRUMENT EQUIPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-23.

Improved structure of assembled and positioning-type frame for hanging trousers

Номер патента: TW512712U. Автор: Shiue-Shian Chen. Владелец: Fu Bing Ind Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-01.

Motive positioning type door/window connector

Номер патента: TWM305256U. Автор: Shr-Lin Wang. Владелец: Ulih Hardware Entpr Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-21.

Sectional positioning type pivot structure for engaging electronic devices

Номер патента: TWM296579U. Автор: An-Sz Shiu. Владелец: Simula Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-21.

Internally positioning type bearing

Номер патента: TW540656U. Автор: Wen-Hau Juang. Владелец: Wen-Hau Juang. Дата публикации: 2003-07-01.

Arm positioned type head

Номер патента: CA772961A. Автор: H. Frank Edgar,N. Watkins Thomas,L. Libby Edwin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1967-12-05.

Positioning type inserting device

Номер патента: TWM396338U. Автор: Ze-Pin Lin. Владелец: Virtical Top Entpr Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-11.

Positive type photosensitive resin composition and semiconductor device using the same

Номер патента: SG78269A1. Автор: Takashi Hirano,Hiroaki Makabe,Toshio Banba,Toshiro Akeda,Naoshige Takeda. Владелец: Sumitomo Bakelite Co. Дата публикации: 2001-02-20.

Apparatus for one section two operative position type bottle injecting, extending and blowing machine

Номер патента: TW551294U. Автор: Yi-Ru Li. Владелец: Golfang Mfg & Dev Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-01.

Reagent card for ABO blood type positive typing and Rh blood type detection

Номер патента: CN212228966U. Автор: 童军,王玉霞,高浩月,孔维臣,安潇潇,邱晓雨. Владелец: Changchun Bode Biotechnology Co ltd. Дата публикации: 2020-12-25.

Positioning type locking structure of pushing type quick-release socket adapter

Номер патента: TWM352429U. Автор: Shu-Wen Lin. Владелец: Forging Adapter Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-11.

Compound having sulfonyl structure, radiation-sensitive acid generator, positive-type radiation-sensitive resin composition, and negative-type radiation-sensitive resin composition using the same

Номер патента: JP4120437B2. Автор: 健一 横山,勇 王,敏 江幡,智樹 永井,潤一郎 稲葉. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-07-16.

Compound having sulfonyl structure, radiation-sensitive acid generator, positive-type radiation-sensitive resin composition, and negative-type radiation-sensitive resin composition using the same

Номер патента: JP4951827B2. Автор: 健一 横山,努 下川,勇 王,敏 江幡,真司 白木. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-06-13.

Manual positioning type intermittent type formula shoes are with scalding limit equipment

Номер патента: CN205492813U. Автор: 宛家勇. Владелец: Wenzhou Ju&#39;na Shoe Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-24.

Chemical amplification type positive type resist composition

Номер патента: JPH11305444A. Автор: Yasunori Kamiya,保則 上谷,Hiroaki Fujishima,浩晃 藤島. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-11-05.

Pin type hinge with pin positioning type magnet mounting structure

Номер патента: CN217518450U. Автор: 廖天明. Владелец: Guangdong Kolity Home Hardware Co ltd. Дата публикации: 2022-09-30.

On-position type gas analysis system with on-position standardization function

Номер патента: CN201075086Y. Автор: 王健,熊志才,钟安平. Владелец: Juguang Sci & Tech (hangzhou) Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-18.

Positive type infrared light sensitive composition and positive heat-sensitive lithographic plate

Номер патента: CN101770167B. Автор: 张振亚,赵伟建,刘明芳,李长山,李合成,滕方迁. Владелец: SECOND FILM FACTORY OF LUCKY GROUP. Дата публикации: 2012-05-16.

Positive and negative type photoresist separation device for developer regeneration system

Номер патента: TWI668529B. Автор: 陳俊吉,余彥明,西村保二. Владелец: 西村保二. Дата публикации: 2019-08-11.

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND A METHOD OF FORMING THE PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20120015293A1. Автор: KANDA Hiromi,INABE Haruki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-19.

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE INSULATING RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME

Номер патента: US20120021357A1. Автор: Maeda Katsumi,Yamamichi Shintaro. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-26.

Ortho-Nitrobenzyl Ester Compound and Positive Type Photosensitive Resin Composition Including the Same

Номер патента: US20120156622A1. Автор: YOO Yong-Sik,Kim Jae-Hyun,CHEON Hwan-Sung,Kim Young-Ho,PARK Su-Min,LEE Jong-Hwa,CHO Hyun-Yong,CHUNG Min-Kook,JEONG Ji-Young,LEE Jeong-Woo,KIM Soo-Young. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-21.

THERMAL POSITIVE-TYPE PLANOGRAPHIC ORIGINAL PRINTING PLATE AND METHOD OF MAKING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE

Номер патента: US20120227604A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-09-13.

Positive type composition and method for pattern formation of transparent conductors using the same

Номер патента: KR102293227B1. Автор: 최한영. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2021-08-23.

Absolute position type multi-foot robot servo steering engine

Номер патента: CN209850926U. Автор: 赵同阳. Владелец: Shenzhen Zhiqin New Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-27.

Removing method of positive type photo resist

Номер патента: JPS52143769A. Автор: Nobuo Hasegawa,Toshiharu Matsuzawa,Hiroshi Yanagisawa,Kikuo Doda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1977-11-30.

Positioning-type device for programmed control

Номер патента: SU1158976A1. Автор: Владимир Львович Кошкин,Эдуард Тихонович Горбенко,Станислав Александрович Чуйкин,Лев Николаевич Смирнов. Владелец: Предприятие П/Я В-2190. Дата публикации: 1985-05-30.

Positioning type secondary damper

Номер патента: CN210949641U. Автор: 林纪农,林乔宇. Владелец: Wuxi Johnnywell Railway Equipment Technology Co ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

Positive type resist

Номер патента: JPS5638039A. Автор: Kazuo Toda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1981-04-13.

Sheet self-adaptive positioning type die

Номер патента: CN203853468U. Автор: 程盛,李明林,胥奇,王毅鹏. Владелец: Sichuan Changhong Jijia Precision Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-01.

Simple positioning type machining center clamp

Номер патента: CN217727990U. Автор: 陈跃坤. Владелец: Chongqing Taicang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-04.

Positive type active energy linear dry film and pattern forming method

Номер патента: JP4373540B2. Автор: 玄児 今井,剛也 長谷川. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-25.

Positive type fine processing method

Номер патента: JPH01129251A. Автор: 信光 松浦,Nobumitsu Matsuura. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-22.

Synchronous positioning type crane with rotary car

Номер патента: CN201873461U. Автор: 张勇,何昊炅. Владелец: KONECRANES PLC. Дата публикации: 2011-06-22.

Positive type resist composition

Номер патента: JP2003005375A. Автор: Kenichiro Sato,健一郎 佐藤. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-08.

Positive type ionizing radiation sensitive resist

Номер патента: JPS54133322A. Автор: Akira Miura,Akizou Hideyama,Iwao Toukawa. Владелец: CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI. Дата публикации: 1979-10-17.

Snaps into position type ceiling structure

Номер патента: CN107587644A. Автор: 孔晓燕. Владелец: Wenzhou Kanaifu Electrical Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Device for position-type temperature controller

Номер патента: SU1059557A1. Автор: Владимир Абрамович Годин,Владимир Васильевич Мошнин. Владелец: Предприятие П/Я Р-6947. Дата публикации: 1983-12-07.

Thunder and lightning positioning type anti-thunder and wire breakage preventing device

Номер патента: CN203504118U. Автор: 徐卫东,梁振华. Владелец: Guangzhou Kaineng Electric Industry Coltd. Дата публикации: 2014-03-26.

Polymer material having positive type image formation ability

Номер патента: JPS5332718A. Автор: Norinaga Fujishige,Susumu Ichikawa. Владелец: Agency of Industrial Science and Technology. Дата публикации: 1978-03-28.

Positive type radiation sensitive material

Номер патента: JPS5387720A. Автор: Masataka Miyamura. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-08-02.

Clamping groove positioning type mobile phone welding jig

Номер патента: CN213351318U. Автор: 张立梅. Владелец: Tianjin Dingyan Jingchong Technology Development Co ltd. Дата публикации: 2021-06-04.

Front positioning type automatic leveling land leveller

Номер патента: CN204168715U. Автор: 齐彦龙. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-02-25.

Geological drilling self-positioning type reaming drilling tool

Номер патента: CN216690977U. Автор: 张峰,王瑞芳,王永智,牟业龙,寇明遥,齐艳妮,胡银平. Владелец: Northwest Research Institute of Mining and Metallurgy. Дата публикации: 2022-06-07.

Accurate positioning type four-color offset press

Номер патента: CN214449313U. Автор: 张伟. Владелец: Chongqing Xinshunqing Packaging Products Co ltd. Дата публикации: 2021-10-22.

Production of base for positive type photosensitive planographic printing plate

Номер патента: JPH10171104A. Автор: Takahiro Mori,Kazuyuki Nishio,和之 西尾,孝博 森. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1998-06-26.

Removing method of positive type photo resist

Номер патента: JPS5368577A. Автор: Nobuo Hasegawa,Toshiharu Matsuzawa,Hiroshi Yanagisawa,Kikuo Doda. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1978-06-19.

Spinner type photoresist developing method

Номер патента: JPS6433930A. Автор: Tsutomu Minagawa. Владелец: Sanken Electric Co Ltd. Дата публикации: 1989-02-03.

Self-positioning type building unit plate

Номер патента: CN202945737U. Автор: 程海龙,苏秋菊,侯明福,袁文帅. Владелец: SHENYANG THRIVE INDUSTRIALIZED HOUSING CO Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Rolling positioning type high-accuracy metal tube floater flow meter

Номер патента: CN103968899A. Автор: 李斌,易建军. Владелец: Jinhu County Instrument And Meter Head Factory. Дата публикации: 2014-08-06.

Positioning type wire connector

Номер патента: CN203481403U. Автор: 朱素央. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-03-12.

Scan-type photoresist coating system

Номер патента: CN208705657U. Автор: 吴明锋. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2019-04-05.

A kind of three-position type pneumatic actuator

Номер патента: CN204573288U. Автор: 李朝辉,胡小鹏. Владелец: Shenyi Automatic Controlling Valve Apparatus Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-19.

Slope positioning type laser automatic guiding system and girder welding machine comprising same

Номер патента: CN213410901U. Автор: 李旭,王志刚,巩用亭. Владелец: Shandong Yuehao Automation Equipment Co ltd. Дата публикации: 2021-06-11.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: JPH10123703A. Автор: Kunihiko Kodama,Kenichiro Sato,邦彦 児玉,Kazuya Uenishi,利明 青合,Toshiaki Aoso,一也 上西,健一郎 佐藤. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-15.

Improvement in sensitivity of positive type photo resist

Номер патента: JPS5258374A. Автор: Kiyokatsu Jinno. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-13.

Plug-in positioning type sampling device for soil detection

Номер патента: CN216746848U. Автор: 陈灿林,谢彤菁,黎子豪. Владелец: Guangdong Deliang Environmental Protection Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-06-14.

Welding seam positioning type leveling device

Номер патента: CN218983770U. Автор: 李彦国,秦磊,谷文,谷杰,范传斌,陈正凯,陈焕勇,盛建军,童俊豪,许晴爽. Владелец: Shenzhong Link Administration Center. Дата публикации: 2023-05-09.

High-sensitive positive type electron beam formation

Номер патента: JPS52132678A. Автор: Junji Sato,Kenichi Kawashima,Konoe Miura,Chihiro Eguchi. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1977-11-07.

Splicing positioning type LED lamp post

Номер патента: CN215570055U. Автор: 阮震夏. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-18.

Chemical amplification positive type resist material

Номер патента: JPH1083079A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　　潤,Fujio Yagihashi,不二夫 八木橋,歩 清森,Tomoyuki Iwasaki,智之 岩崎,Ayumi Kiyomori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-03-31.

Self-positioning type vehicle-mounted wireless charger

Номер патента: CN217563371U. Автор: 李青华. Владелец: Shuku Technology Shenzhen Co ltd. Дата публикации: 2022-10-11.

Chemical amplification positive type resist material

Номер патента: JP2002099090A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　　潤. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-05.

There is the front positioning type mini-size tillage machine of depth stop function

Номер патента: CN204707413U. Автор: 刘文胜,张东火,尹国庆,高岳陵,程义明. Владелец: ANHUI LUBAN GROUP SHENNIU MACHINE Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.

Preheating furnace pre-positioned type blast furnace gas ignition furnace

Номер патента: CN202066365U. Автор: 刘石生,黄立娇,王群里. Владелец: CHANGSHA DEMEI METALLURGICAL EQUIPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-07.

Card-inserting positioning type automobile fog lamp structure

Номер патента: CN211716475U. Автор: 廖清祥. Владелец: Dibao Traffic Equipment Nanchang Co ltd. Дата публикации: 2020-10-20.

Positive type radiation-sensitive resin composition, inter-layer insulating film and method for forming the same

Номер патента: CN102053497B. Автор: 花村政晓,村田惠,荒井雅史. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-20.

On-position type gas survey device

Номер патента: CN201266168Y. Автор: 王健,黄伟,顾海涛. Владелец: Juguang Sci & Tech (hangzhou) Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-01.

Positive type photosensitive heat resistant material

Номер патента: JPS62145239A. Автор: Shigeru Kubota,Norimoto Moriwaki,Torahiko Ando,繁 久保田,森脇　紀元,虎彦 安藤. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1987-06-29.

Positive-type radiation-sensitive resin composition and method for producing plated molded article

Номер патента: JP4403627B2. Автор: 伸一郎 岩永,淳史 伊藤,克 太田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-27.

Self-positioning type feeding and conveying device

Номер патента: CN218144385U. Автор: 陈龙耀,张香尘. Владелец: Jiangxi Longen Intelligent Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Self-positioning type split framework oil seal

Номер патента: CN202441889U. Автор: 邓伦胜. Владелец: 邓伦胜. Дата публикации: 2012-09-19.

Accurate positioning type drilling equipment for part mould for motor car

Номер патента: CN211759966U. Автор: 黄佳峰. Владелец: QINGDAO FENGGUANG PRECISION MACHINERY CO Ltd. Дата публикации: 2020-10-27.

Positive type photosensitive composition

Номер патента: CN1621943A. Автор: 佐藤勉. Владелец: Think Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-01.

Cable plastic layer extrusion non-deviation-adjustment positioning type extrusion mold

Номер патента: CN211858262U. Автор: 陈金洲,庞世付. Владелец: Chibi Hongtong Plastic Industry Co ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Dynamic positioning type ship lateral propeller controlling device

Номер патента: CN201980411U. Автор: 刘晓亮,王馨,朱省年,明文红,崔东晓,林润枝. Владелец: MCA ELECTRIC CO Ltd. Дата публикации: 2011-09-21.

Central-positioned type switch chassis overhaul device

Номер патента: CN105449562A. Автор: 吴昊,胡新雨,张艺镇. Владелец: RUGAO POWER SUPPLY Co OF JIANGSU ELECTRIC POWER Co. Дата публикации: 2016-03-30.

Positive type resist composition

Номер патента: JPH10115925A. Автор: Hiroshi Komano,博司 駒野,Kazufumi Sato,寿昌 中山,Hideo Haneda,英夫 羽田,和史 佐藤,Toshimasa Nakayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-06.

Positive type photosensitive composition for photosensitive planographic printing plate

Номер патента: JPH1039506A. Автор: Takateru Asano,孝輝 浅野,Kunihiro Tagashira,邦博 田頭,Shigeru Natori,茂 名取. Владелец: Fuji Yakuhin Kogyo KK. Дата публикации: 1998-02-13.

Positioning type lower panel fastening structure of dishwasher

Номер патента: KR960036298U. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1996-12-16.

Movable positioning type gantry numerical control milling machine

Номер патента: CN213646010U. Автор: 程良. Владелец: Anqing Moore Electric Appliance Co ltd. Дата публикации: 2021-07-09.

Four point positioning type self dumping lorry tail lamp rack

Номер патента: CN200988451Y. Автор: 赵志刚,王锡山,孔令,卢江丽,匡西友,宫和基,房胜利. Владелец: China National Heavy Duty Truck Group Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-12.

Up-down-moving positioning type curtain

Номер патента: CN203000495U. Автор: 杨宇恒. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-06-19.

Laser scribing machine used for CCD device assisted positioning type wafer processing

Номер патента: CN201702514U. Автор: 金朝龙. Владелец: SUZHOU TIANHONG LASER CO Ltd. Дата публикации: 2011-01-12.

Positioning type stamping device for machining automobile parts

Номер патента: CN211101195U. Автор: 刘永庆. Владелец: Hangzhou Rudong Auto Parts Co ltd. Дата публикации: 2020-07-28.

Apparatus for positioning type carriers

Номер патента: SU971671A1. Автор: Алексей Петрович Карасев,Сергей Иванович Степин,Владимир Ильич Бояринцев,Юрий Евгеньевич Ершов,Анатолий Семенович Шиманель,Олег Иванович Васильев. Владелец: Предприятие П/Я А-1680. Дата публикации: 1982-11-07.

Suspension positioning type hardware plate machining die

Номер патента: CN218134462U. Автор: 王军. Владелец: Keben Precision Mould Co ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Wireless remote-control direction-positioning type miniature anti-loss finder

Номер патента: CN202632490U. Автор: 李伟天. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-12-26.

Self-positioning type vertical lifting spraying conveying assembly line

Номер патента: CN211726281U. Автор: 周芳,罗杰,于小勇. Владелец: Dongguan Huijiang Pingcheng Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-23.

Automatically positioning type table

Номер патента: JPH1146877A. Автор: Toshihiro Yoshida,利浩 吉田. Владелец: Ishino Seisakusho Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-23.

Front positioning type corn silage harvester

Номер патента: CN204669904U. Автор: 王佳. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-09-30.

The formation method of positive type photosensitive organic compound, cured film, cured film, organic EL display and liquid crystal indicator

Номер патента: CN102193316B. Автор: 杉原幸一,真崎庆央,冈部孝太郎,疋田政宪. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-11-18.

The coupler seat of honour of overcurrent protection homing position type

Номер патента: CN207353163U. Автор: 黄普添. Владелец: FOSHAN HUILAIDE ELECTRICAL APPLIANCE Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-11.

Positive type resist composition using narrowly dispersible polymer

Номер патента: JPH11352695A. Автор: Hirotaka Inoue,博貴 井上,貴清 寺川,Takakiyo Terakawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-24.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: JPH11223951A. Автор: 利幸 大田,喜次 勇元,孝夫 三浦,Toshiyuki Ota,Makoto Murata,誠 村田,Takao Miura,Yoshitsugu Isamoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 1999-08-17.

Positive type radiation sensitive resin composition

Номер патента: JP2003029397A. Автор: Satoru Fujii,悟 藤井,欣尚 柳原,慶 北野,細見　　哲也,Tetsuya Hosomi,Kei Kitano,Yoshihisa Yanagihara. Владелец: Nagase Chemtex Corp. Дата публикации: 2003-01-29.

Nitrogen pressure type photoresist supply system capable of preventing air bubbles

Номер патента: CN201921800U. Автор: 王阳. Владелец: Shenyang Xinyuan Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-10.

Positioning type water quality sampling device for environment detection

Номер патента: CN215296778U. Автор: 杨雪芹,罗波,李秀婷,李子昂,朱潜,胡律,吴传琦,向宏亮. Владелец: Zhongdi Qingyang Hubei Testing Certification Co ltd. Дата публикации: 2021-12-24.

Automatic-positioning-type double-cup sucker device

Номер патента: CN203821807U. Автор: 周自强,张宇,孙刚,么利中,杨大哲,谷大丰,安学民. Владелец: Electric Power Research Institute of State Grid Shanxi Electric Power Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-10.

Polymer and positive type resist material and method for forming pattern using the same

Номер патента: JP2004107377A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　潤,Yuji Harada,原田　裕次. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-08.

A kind of externally positioned type delay detonator

Номер патента: CN105300200B. Автор: 马志刚,李学平,曾光伟,王秋宇. Владелец: Yahua Group Mianyang Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Low position type hot air heater

Номер патента: JP2529284B2. Автор: 秀和 林,正 向井. Владелец: Osaka Gas Co Ltd. Дата публикации: 1996-08-28.

A kind of anti-deformation formula rotational positioning type wheel hub clamp for machining

Номер патента: CN206702696U. Автор: 林新鹏,刘勇进. Владелец: Jiangsu Long Wheel Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Flash-back and smokeless needle warming moxibustion device of attemperation and positioning type

Номер патента: CN101829017B. Автор: 陈以国,洪文学,王文侠. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-03-05.

Fast-assembling positioning type cutting torch core rod seat

Номер патента: CN212805639U. Автор: 张奎,蒋振华,陶欣,李林林,常瑞祥,俞正新,魏银阶,孙秀志. Владелец: SHANDONG DINGCHENG NEW MATERIALS CO Ltd. Дата публикации: 2021-03-26.

Lateral positioning type anti-slip mechanism of aviation cabin

Номер патента: CN103622332A. Автор: 何文仙. Владелец: Ningbo Yinzhou Yunfan Engineering Consulting Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-12.

Offset regulation positioning type polish rod sealing device

Номер патента: CN201730575U. Автор: 马保军,商延安. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-02.

Positioning type hanging sliding door without lower rail

Номер патента: CN218644148U. Автор: 丁静,于杰,韩聪,薛敬蕾. Владелец: Qingdao Ruifenglong Industry And Trade Co ltd. Дата публикации: 2023-03-17.

Positive type resist

Номер патента: JPS5619044A. Автор: Shigeyoshi Suzuki. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-02-23.

Positive type image forming material

Номер патента: JP2002303983A. Автор: Kaoru Iwato,Kazuto Kunida,一人 國田,薫 岩戸. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-18.

Displacement control homing position type is from grouting blind plate

Номер патента: CN106555562A. Автор: 刘学鹏,张明昌,张新亮,方春飞. Владелец: Sinopec Research Institute of Petroleum Engineering. Дата публикации: 2017-04-05.

Adjustable positioning type thermal transfer printing device for sportswear

Номер патента: CN211968819U. Автор: 吕绍敢. Владелец: Guangzhou Xilong Clothing Co ltd. Дата публикации: 2020-11-20.

Positive type resist polymer composition

Номер патента: JPS5587142A. Автор: Yasuhiro Yoneda,Tateo Kitamura,Jiro Naito,Toshisuke Kitakoji. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-07-01.

A kind of oil duct externally positioned type hydraulic motor

Номер патента: CN207961140U. Автор: 陈凌杰. Владелец: FOSHAN KEDA HYDRAULIC MACHINERY Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-12.

Rotary positioning type welding hanging ring

Номер патента: CN214611057U. Автор: 张鹏,马磊,王淼,杨超,陈卫东,赵国锋,贾卓,安章亮,国乐. Владелец: Juli Sling Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-05.

Mobile phone positioning type soil testing and formulated fertilization service platform implementation method and system

Номер патента: CN103810640A. Автор: 王剑峰,张玉欣. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-05-21.

Support positioning type clamp

Номер патента: CN214534845U. Автор: 杨奇峰,周志龙. Владелец: Ningbo Mingyang Stainless Steel Pipe Co ltd. Дата публикации: 2021-10-29.

Formation of positive type color liquid crystal element

Номер патента: JPS62262827A. Автор: KOTARO Yoneda,Haruichi Inoue,Ryoichi Akiyama,公太郎 米田,亮一 秋山,晴一 井上. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-14.

Double-channel absolute zero position type circular inductosyn

Номер патента: CN201159648Y. Автор: 王智勇,娄敏,汤文军,曾乐乐,曹小法. Владелец: China Shipbuilding Industry Corp No6354 Research Institute. Дата публикации: 2008-12-03.

Macromolecular silicone, chemically amplifiable positive type resist material and pattern-formation process

Номер патента: JPH10324748A. Автор: Jun Hatakeyama,畠山　　潤,俊信 石原,Toshinobu Ishihara,Ichiro Kaneko,茂広 名倉,Mutsuo Nakajima,Shigehiro Nagura,睦雄 中島,一郎 金子,Junji Tsuchiya,純司 土谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-08.

Polystyrene-based polymer compound, chemical amplification positive type resist material and pattern formation

Номер патента: JPH11236416A. Автор: Osamu Watanabe,修 渡辺,茂広 名倉,Shigehiro Nagura,隆信 武田,Takanobu Takeda,Junji Shimada,順次 島田. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

Combined positioning type binding belt

Номер патента: CN215437769U. Автор: 王宏杰. Владелец: Hont Electrical Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-07.

Permanent magnet repulsion positioning type high-precision metal tube float flowmeter

Номер патента: CN103983310A. Автор: 李斌,易建军. Владелец: Jinhu County Instrument And Meter Head Factory. Дата публикации: 2014-08-13.

Positive type photosensitive resin composition and organic EL element partition

Номер патента: JP2023098315A. Автор: Yasuhiro Ishida,Yuki MIYAISHI,由起 宮石,啓介 豆田,恭裕 石田,Keisuke Mameta. Владелец: Resonac Holdings Corp. Дата публикации: 2023-07-10.

Post-position type electromagnetic heating high-pressure water jet water heater

Номер патента: CN202438504U. Автор: 郭志强,王宏伟,李福军,陈玉军. Владелец: DAQING DEVELOPMENT ZONE DONGYOU NEW TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Positive-type planographic printing plate

Номер патента: JPS56162693A. Автор: Sei Goto,Tamiya Matsuoka,Keiichi Yugi,Hiroo Kawada. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1981-12-14.

Arbitrary positioning-type book sewer

Номер патента: CN202169574U. Автор: 王露,姜加男. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-21.

Positioning type forming die

Номер патента: CN216275028U. Автор: 徐亚,吕淑敏. Владелец: Wuxi Xuni Environmental Protection Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-04-12.

Positive type resist material

Номер патента: JPS5590942A. Автор: Yasuhiro Yoneda,Tateo Kitamura,Toshisuke Kitakoji. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1980-07-10.

Optical brush guided positioning type after-image amblyopia therapeutic equipment

Номер патента: CN1282448C. Автор: 陈洁,王光霁. Владелец: INST OF EYE LIGHT VISION WENZHOU MEDICAL COLLEGE. Дата публикации: 2006-11-01.

Positive type photosensitive polyimide composition and polyimide film

Номер патента: JP2002221793A. Автор: Masaki Okazaki,Mitsuru Ueda,充 上田,真喜 岡崎,Yuji Shibazaki,祐二 芝崎. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-08-09.

Automobile rear tail door with multiple positioning type door lock reinforcing plates

Номер патента: CN214246973U. Автор: 姚超,郑晓,于雷,王井泉. Владелец: Changchun Faway Tong Yang Automobile Plastic Components Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-21.

Magnetic attraction positioning type line lamp

Номер патента: CN212840878U. Автор: 席海涛. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-03-30.

Snaps into position type ceiling structure

Номер патента: CN207260408U. Автор: 孔晓燕. Владелец: Wenzhou Kanaifu Electrical Appliance Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-20.

Electronic positioning type valve actuator

Номер патента: CN2342189Y. Автор: 周建平,贺业超. Владелец: RITONG ELECTROMECHANICAL EQUIPMENT ENGINEERING Co Ltd SHENZHEN. Дата публикации: 1999-10-06.

Positioning type civil engineering steel structure embedded part

Номер патента: CN218540993U. Автор: 吕旭. Владелец: China Construction Second Engineering Bureau Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-28.

Multiple working position type rotating shaft structure

Номер патента: CN200943639Y. Автор: 李焕文,江家荣. Владелец: Jarllytec Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-05.

Electro-pneumatic valve positioner based on two-position type limit switch

Номер патента: CN203202388U. Автор: 孙燕飞,马乐成. Владелец: CHANGSHU HUAXIA INSTRUMENT Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-18.

External adjustable push rod structure of three-position type pneumatic actuator

Номер патента: CN203036060U. Автор: 徐子敬,方宁州. Владелец: HANGZHOU TANGNENG VALVE Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-03.

Constant-speed scanning positioning type post-welding seam tracking and residual stress removal system

Номер патента: CN102922147B. Автор: 吴晓,周磊,张华�,华亮,张齐,赵振东,顾菊平,丁立军,刘雨晴,张新松,俞钶安. Владелец: Nantong University. Дата публикации: 2013-12-25.

Sloping block positioning type inclined hole depth gauge

Номер патента: CN216558603U. Автор: 王强,丁星发. Владелец: Wuxi Haige Measurement And Control Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Remote controller of outside positioning type instantaneous gas water heater

Номер патента: JPS54137742A. Автор: Kazutoshi Iwasaki,Akira Miyai,Kiyoshi Ueda,Yoshiharu Inui. Владелец: SANKI GASU KIGU KK. Дата публикации: 1979-10-25.

Direct positive type silver halide photographic emulsion

Номер патента: JPS5536841A. Автор: Noboru Fujimori,Keiji Ogi,Hidekazu Sakamoto,Tsuneo Suga,Kenji Egami,Kiyomitsu Mine. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1980-03-14.

Air pressure positioning type anti-theft label

Номер патента: CN201498077U. Автор: 赵沛字. Владелец: Oulong Commerce and Trade (Shanghai) Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-02.

Novel trinuclear methyne dye and direct positive type photograph material using same as sensitizer

Номер патента: JPS5616557A. Автор: Sutaigaa Rorufu,Furansowa Rebeeru Jiyan. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1981-02-17.

Dry-type photoresist stripping for preventing substrate from peeling

Номер патента: TW507268B. Автор: You-Cheng Liou. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2002-10-21.

Position type 24-hour world time zone timepieces

Номер патента: TWM271181U. Автор: Micro Yeh. Владелец: Micro Yeh. Дата публикации: 2005-07-21.

Reclining chair ofthe multiple position type

Номер патента: AU237141B2. Автор: Stewart Fletcher Peter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-06-07.

Recliner chair of the multiple position type incorporating improved head-rest control

Номер патента: CA693540A. Автор: F. Schliephacke Fridtjof. Владелец: Individual. Дата публикации: 1964-09-01.

Extensible head-rest and control for double-movement and two position types of chairs

Номер патента: CA692657A. Автор: S. Fletcher Peter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1964-08-18.

Position type 12-hour system world time zone timepieces

Номер патента: TWM275437U. Автор: Micro Yeh. Владелец: Micro Yeh. Дата публикации: 2005-09-11.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.