Fabrication method of wiring substrate for mounting semiconductor element and semiconductor device
Номер патента: KR100614548B1
Опубликовано: 25-08-2006
Автор(ы): 구사노히데도시, 오사와겐지, 이지마도모
Принадлежит: 노쓰 코포레이션, 소니 가부시끼 가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-08-2006
Автор(ы): 구사노히데도시, 오사와겐지, 이지마도모
Принадлежит: 노쓰 코포레이션, 소니 가부시끼 가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing multilayer wiring substrate, and multilayer wiring substrate
Номер патента: US20070293038A1. Автор: Yuji Nishitani,Hiroshi Asami,Hidetoshi Kusano,Ken Orui. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-12-20.