Split-gate flash memory cell with varying insulation gate oxides, and method of forming same
Номер патента: EP3815149B1
Опубликовано: 09-08-2023
Автор(ы): Chien-Sheng Su, Jeng-Wei Yang, Nhan Do
Принадлежит: Silicon Storage Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-08-2023
Автор(ы): Chien-Sheng Su, Jeng-Wei Yang, Nhan Do
Принадлежит: Silicon Storage Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Split-gate flash memory cell with varying insulation gate oxides, and method of forming same
Номер патента: EP3815149A1. Автор: Nhan Do,Jeng-Wei Yang,Chien-Sheng Su. Владелец: Silicon Storage Technology Inc. Дата публикации: 2021-05-05.