Manufacturing method of split-gate flash memory cell
Номер патента: TW503527B
Опубликовано: 21-09-2002
Автор(ы): Chi-Huei Lin
Принадлежит: Nanya Plastics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-09-2002
Автор(ы): Chi-Huei Lin
Принадлежит: Nanya Plastics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for shrinking array dimensions of split gate flash memory device using multilayer etching to define cell and source line and device manufactured thereby
Номер патента: US20010015455A1. Автор: Chia-Ta Hsieh,Di-Son Kuo,Hung-Cheng Sung,Yai-Fen Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2001-08-23.