SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

　以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。

　本発明に係る半導体装置の製造方法は、
　半導体チップにシート状樹脂組成物が貼り付けられたシート状樹脂組成物付きチップを準備する工程Ａと、
　被着体を準備する工程Ｂと、
　前記被着体に、前記シート状樹脂組成物付きチップを、前記シート状樹脂組成物を貼り合わせ面にして貼り付ける工程Ｃと、
　前記工程Ｃの後に、前記シート状樹脂組成物を加熱して半硬化させる工程Ｄと、
　前記工程Ｄの後に、前記工程Ｄにおける加熱よりも高温で前記シート状樹脂組成物を加熱して硬化させる工程Ｅとを含む。

　以下では、本発明に係る一実施形態として、まず、半導体チップにバンプが形成されているとともに、被着体としての搭載用基板に電極が形成されている場合について説明する。
　すなわち、本実施形態に係る半導体装置の製造方法は、
　半導体チップのバンプ形成面にシート状樹脂組成物が貼り付けられたシート状樹脂組成物付きチップを準備する工程Ａと、
　電極が形成された実装用基板を準備する工程Ｂと、
　前記実装用基板に、前記シート状樹脂組成物付きチップを、前記シート状樹脂組成物を貼り合わせ面にして貼り付けて、前記半導体チップに形成された前記バンプと前記実装用基板に形成された電極とを対向させる工程Ｃと、
　前記工程Ｃの後に、前記シート状樹脂組成物を加熱して半硬化させる工程Ｄと、
　前記工程Ｄの後に、前記工程Ｄにおける加熱よりも高温で加熱し、前記バンプと前記電極とを接合するとともに、前記シート状組成物を硬化させる工程Ｅとを少なくとも含む。

　［シート状樹脂組成物付きチップを準備する工程］
　図１～図４は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。
　本実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、まず、図１に示すように、シート状樹脂組成物付きチップ４０を準備する（工程Ａ）。なお、シート状樹脂組成物付チップ４０の具体的な準備方法については、後に図５～図１１を参照しながら説明することとする。

　シート状樹脂組成物付きチップ４０は、バンプ１８が形成された半導体チップ２２と、半導体チップ２２のバンプ形成面２２ａに貼り付けられたシート状樹脂組成物１０とを有する。シート状樹脂組成物付きチップ４０では、バンプ１８がシート状樹脂組成物１０に埋め込まれるとともに、半導体チップ２２のバンプ形成面２２ａがシート状樹脂組成物１０に貼り付けられている。

　（シート状樹脂組成物）
　シート状樹脂組成物１０は、半導体チップ２２を実装用基板５０（図２参照）に実装する際に、半導体チップ２２と実装用基板５０との間隙を封止する機能を有する。

　シート状樹脂組成物１０は、２００℃で１０秒間加熱した後の熱硬化率が１０％以上であることが好ましく、１３％以上であることがより好ましい。シート状樹脂組成物１０の２００℃で１０秒間加熱した際の熱硬化率が１０％以上であると、前記工程Ｄの後のシート状樹脂組成物１０は、ある程度粘度が上昇していることとなる。その結果、よりボイドの膨張を抑制することができる。

　熱硬化率は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を用い、発熱量を測定して求める。具体的には、まず、熱硬化させていないシート状樹脂組成物を作成し、－１０℃から昇温速度１０℃／分の条件で、３５０℃（熱硬化反応が完全に完了したと想定される温度）まで昇温した際の発熱量（未硬化サンプルの反応熱量）を測定する。また、熱硬化前のシート状樹脂組成物を、２００℃で１０秒間加熱したサンプルを作成する。
　次に、２００℃で１０秒間加熱したサンプルについて、－１０℃から昇温速度１０℃／分の条件で、３５０℃（熱硬化反応が完全に完了したと想定される温度）まで昇温した際の発熱量（２００℃で１０秒間加熱したサンプルの反応熱量）を測定する。その後、以下の式（３）により熱硬化率を得る。なお、発熱量は、示差走査熱量計にて測定される発熱ピークの立ち上がり温度と反応終了温度の２点を結んだ直線とピークで囲まれる面積を用いて求める。

　式（３）：
熱硬化率＝［｛（未硬化サンプルの反応熱量）－（２００℃で１０秒間加熱したサンプルの反応熱量）｝／（未硬化サンプルの反応熱量）］×１００（％）

　シート状樹脂組成物１０は、２００℃未満における最低溶融粘度が１００Ｐａ・ｓ～５０００Ｐａ・ｓの範囲内にあることが好ましく、３００Ｐａ・ｓ～４０００Ｐａ・ｓの範囲内にあることがより好ましく、５００Ｐａ・ｓ～２０００Ｐａ・ｓの範囲内にあることがさらに好ましい。シート状樹脂組成物１０の２００℃未満における最低溶融粘度が１００Ｐａ・ｓ～５０００Ｐａ・ｓの範囲内にあると、前記工程Ｃにおいて、半導体チップ２２に形成されたバンプ１８と実装用基板５０に形成された電極５２とを容易にシート状樹脂組成物１０に埋め込みながら、対向させることができる。

　シート状樹脂組成物１０の２００℃未満における最低溶融粘度とは、熱硬化前の２００℃未満における最低溶融粘度をいう。

　シート状樹脂組成物１０の２００℃未満における最低溶融粘度は、シート状樹脂組成物１０の構成材料の選択によりコントロールすることができる。特に、熱可塑性樹脂の選択によりコントロールすることができる。具体的に、熱可塑性樹脂として、例えば、低分子量のものを使用すると、２００℃未満における最低溶融粘度を小さくすることができ、例えば、高分子量のものを使用すると、２００℃未満における最低溶融粘度を大きくすることができる。

　シート状樹脂組成物１０としては、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを併用したものが挙げられる。また、熱硬化性樹脂単独でも使用可能である。

　前記熱可塑性樹脂としては、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン－酢酸ビニル共重合体、エチレン－アクリル酸共重合体、エチレン－アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、６－ナイロンや６，６－ナイロン等のポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴやＰＢＴ等の飽和ポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。これらの熱可塑性樹脂のうち、イオン性不純物が少なく耐熱性が高く、半導体チップの信頼性を確保できるアクリル樹脂が特に好ましい。

　前記アクリル樹脂としては、特に限定されるものではなく、炭素数３０以下、特に炭素数４～１８の直鎖若しくは分岐のアルキル基を有するアクリル酸又はメタクリル酸のエステルの１種又は２種以上を成分とする重合体等が挙げられる。前記アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、へキシル基、へプチル基、シクロヘキシル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、テトラデシル基、ステアリル基、オクタデシル基、又はドデシル基等が挙げられる。

　また、前記重合体を形成する他のモノマーとしては、特に限定されるものではなく、例えばアクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸若しくはクロトン酸等の様なカルボキシル基含有モノマー、無水マレイン酸若しくは無水イタコン酸等の様な酸無水物モノマー、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６－ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８－ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０－ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２－ヒドロキシラウリル若しくは（４－ヒドロキシメチルシクロヘキシル）－メチルアクリレート等の様なヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２－（メタ）アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート若しくは（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等の様なスルホン酸基含有モノマー、又は２－ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の様な燐酸基含有モノマーが挙げられる。

　シート状樹脂組成物１０全体に対する熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは３重量％以上であり、より好ましくは４重量％以上である。４重量％以上であると、良好な可とう性が得られる。一方、樹脂成分中の熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは１５重量％以下であり、より好ましくは１２重量％以下であり、さらに好ましくは８重量％以下である。８重量％以下であると、良好な熱的信頼性が得られる。

　前記熱可塑性樹脂の中でも、半硬化前のシート状樹脂組成物１０の粘度を低粘度とするために、アクリル樹脂が好ましい。

　前記熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、又は熱硬化性ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。特に、半導体チップを腐食させるイオン性不純物等の含有が少ないエポキシ樹脂が好ましい。また、エポキシ樹脂の硬化剤としてはフェノール樹脂が好ましい。

　前記エポキシ樹脂は、接着剤組成物として一般に用いられるものであれば特に限定は無く、例えばビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、臭素化ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＡＦ型、ビフェニル型、ナフタレン型、フルオンレン型、フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型等の二官能エポキシ樹脂や多官能エポキシ樹脂、又はヒダントイン型、トリスグリシジルイソシアヌレート型若しくはグリシジルアミン型等のエポキシ樹脂が用いられる。これらは単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。これらのエポキシ樹脂のうちノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型樹脂又はテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂が特に好ましい。これらのエポキシ樹脂は、硬化剤としてのフェノール樹脂との反応性に富み、耐熱性等に優れるからである。

　さらに、前記フェノール樹脂は、前記エポキシ樹脂の硬化剤として作用するものであり、例えば、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ｔｅｒｔ－ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、ポリパラオキシスチレン等のポリオキシスチレン等が挙げられる。これらは単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。これらのフェノール樹脂のうちフェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂が特に好ましい。封止信頼性を向上させることができるからである。

　前記エポキシ樹脂とフェノール樹脂の配合割合は、例えば、前記エポキシ樹脂成分中のエポキシ基１当量当たりフェノール樹脂中の水酸基が０．５～２．０当量になるように配合することが好適である。より好適なのは、０．８～１．２当量である。すなわち、両者の配合割合が前記範囲を外れると、十分な硬化反応が進まず、エポキシ樹脂硬化物の特性が劣化し易くなるからである。

　シート状樹脂組成物１０全体に対する熱硬化性樹脂の含有量は、１０重量％以上であることが好ましく、１２重量％以上であることがより好ましく、１５重量％以上であることがさらに好ましい。１０％以上であると、良好な可とう性が得られる。一方、樹脂成分中の熱硬化性樹脂の含有量は、３０重量％以下であることが好ましく、２５重量％以下であることがより好ましく、２０重量％以下であることがさらに好ましい。２０重量％以下であると、シートのタックが抑制され取扱い性が向上する。

　エポキシ樹脂とフェノール樹脂の熱硬化促進触媒としては、特に制限されず、公知の熱硬化促進触媒の中から適宜選択して用いることができる。熱硬化促進触媒は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。熱硬化促進触媒としては、例えば、アミン系硬化促進剤、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ホウ素系硬化促進剤、リン－ホウ素系硬化促進剤などを用いることができる。

　前記熱硬化促進触媒の含有量は、熱硬化性樹脂１００重量部に対して、０．７重量部以上であることが好ましく、２．４重量部以上であることがより好ましく、４．８重量部以上であることがさらに好ましい。４．８重量部以上であると、半硬化工程において容易にシート状樹脂組成物１０を半硬化させることができる。また、熱硬化促進触媒の含有量は、好ましくは２４重量部以下である。２４重量部以下であると、熱硬化性樹脂の保存性を向上させることができる。

　また、シート状樹脂組成物１０には、無機充填剤を適宜配合することができる。無機充填剤の配合は、導電性の付与や熱伝導性の向上、貯蔵弾性率の調節等を可能にする。

　前記無機充填剤としては、例えば、シリカ、クレー、石膏、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミナ、酸化ベリリウム、炭化珪素、窒化珪素等のセラミック類、アルミニウム、銅、銀、金、ニッケル、クロム、鉛、錫、亜鉛、パラジウム、半田等の金属、又は合金類、その他カーボン等からなる種々の無機粉末が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。なかでも、シリカ、特に溶融シリカが好適に用いられる。

　無機充填剤の平均粒径は、０．０１～３０μｍの範囲内であることが好ましく、０．０５～１０μｍの範囲内であることがより好ましい。なお、本発明においては、平均粒径が相互に異なる無機充填剤同士を組み合わせて使用してもよい。また、平均粒径は、光度式の粒度分布計（ＨＯＲＩＢＡ製、装置名；ＬＡ－９１０）により求めた値である。

　前記無機充填剤の配合量は、有機樹脂成分１００重量部に対し１００～１４００重量部に設定することが好ましい。特に好ましくは２３０～９００重量部である。無機充填剤の配合量を１００重量部以上にすると、耐熱性や強度が向上する。また、１４００重量部以下とすることにより、流動性が確保できる。これにより、接着性や埋め込み性が低下することを防止できる。

　なお、シート状樹脂組成物１０には、前記無機充填剤以外に、必要に応じて他の添加剤を適宜に配合することができる。他の添加剤としては、例えば難燃剤、シランカップリング剤、イオントラップ剤、カーボンブラック等の顔料等が挙げられる。前記難燃剤としては、例えば、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、臭素化エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。前記シランカップリング剤としては、例えば、β－（３、４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。前記イオントラップ剤としては、例えばハイドロタルサイト類、水酸化ビスマス等が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。また、実装時に半田の酸化膜を除去することを目的として、有機酸を添加することもできる。

　シート状樹脂組成物１０の厚さ（複層の場合は、総厚）は特に限定されないものの、硬化後の樹脂の強度や充填性を考慮すると５μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。なお、シート状樹脂組成物１０の厚さは、チップ２２と実装用基板５０との間隙の幅を考慮して適宜設定することができる。

　シート状樹脂組成物１０は、例えば、次の通りにして作製される。まず、シート状樹脂組成物１０の形成材料である樹脂組成物溶液を作製する。当該樹脂組成物溶液には、前述の通り、前記樹脂組成物やフィラー、その他各種の添加剤等が配合されている。

　次に、樹脂組成物溶液を基材セパレータ上に所定厚みとなる様に塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を所定条件下で乾燥させ、シート状樹脂組成物１０を形成する。塗布方法としては特に限定されず、例えば、ロール塗工、スクリーン塗工、グラビア塗工等が挙げられる。また、乾燥条件としては、例えば乾燥温度７０～１６０℃、乾燥時間１～５分間の範囲内で行われる。

　半導体チップ２２の厚さとしては、特に限定されないが、例えば、１０～１０００μｍの範囲内で適宜設定することができる。

　半導体チップ２２に形成されているバンプ１８の高さとしては、特に限定されないが、３μｍ以上１００μｍ以下のものを用いることができる。バンプ１８の高さが３μｍ以上１００μｍ以下の場合、すなわち、半導体チップ２２が３μｍ以上１００μｍ以下の凹凸を有する場合、シート状樹脂組成物１０との間に気泡が噛み込み易い。しかしながら、前記工程Ｄの後は、シート状樹脂組成物１０の粘度は、上昇している。従って、気泡が噛み込み易い３μｍ以上１００μｍ以下の凹凸を有する半導体チップ２２を用いた場合であっても、ボイドの膨張が抑制されているため、種々の不具合の原因となる大きなボイドの発生を抑制することができる。

　バンプ１８の構成材料としては、特に限定されないが、ハンダが好ましく、Ｓｎ－Ｐｂ系、Ｐｂ－Ｓｎ－Ｓｂ系、Ｓｎ－Ｓｂ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ｂｉ系、Ｂｉ－Ｓｎ系、Ｓｎ－Ｃｕ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ｃｕ系、Ｓｎ－Ｉｎ系、Ｓｎ－Ａｇ系、Ｓｎ－Ｐｂ－Ａｇ系、Ｐｂ－Ａｇ系のハンダを挙げることができる。

　［実装用基板を準備する工程］
　また、図２に示すように、表面５０ａに電極５２が形成された実装用基板５０を準備する（工程Ｂ）。

　実装用基板５０としては、リードフレームや回路基板（配線回路基板など）等の各種基板を用いることができる。このような基板の材質としては、特に限定されるものではないが、セラミック基板や、プラスチック基板が挙げられる。プラスチック基板としては、例えば、エポキシ基板、ビスマレイミドトリアジン基板、ポリイミド基板等が挙げられる。
また、実装用基板５０として半導体ウエハを用いることもできる。

　実装用基板５０に形成されている電極５２の高さとしては、特に限定されないが、３μｍ以上１００μｍ以下のものを用いることができる。電極５２の高さが３μｍ以上１００μｍ以下の場合、すなわち、搭載用基板５０が３μｍ以上１００μｍ以下の凹凸を有する場合、シート状樹脂組成物１０との間に気泡が噛み込み易い。しかしながら、前記工程Ｄの後は、シート状樹脂組成物１０の粘度は、上昇している。従って、気泡が噛み込み易い３μｍ以上１００μｍ以下の凹凸を有する搭載用基板５０を用いた場合であっても、ボイドの膨張が抑制されているため、種々の不具合の原因となる大きなボイドの発生を抑制することができる。

　［半導体チップに形成されたバンプと実装用基板に形成された電極とを対向させる工程］
　前記工程Ａ及び前記工程Ｂの後、図３に示すように、実装用基板５０に、シート状樹脂組成物付きチップ４０を、シート状樹脂組成物１０を貼り合わせ面にして貼り付けて、半導体チップ２２に形成されたバンプ１８と実装用基板５０に形成された電極５２とを対向させる（工程Ｃ）。具体的には、まず、シート状樹脂組成物付きチップ４０のシート状樹脂組成物１０を実装用基板５０に対向させて配置し、次に、フリップチップボンダーを用い、シート状樹脂組成物付きチップ４０側から圧力を加える。これにより、バンプ１８と電極５２とは、シート状樹脂組成物１０に埋め込まれながら、対向される。貼り合わせ時の温度は、１００～２００℃が好ましく、より好ましくは１５０～１９０℃である。ただし、ハンダの融点よりも低い温度であることが好ましい。また、貼り合わせ時の圧力は０．０１～１０ＭＰａが好ましく、より好ましくは０．１～１ＭＰａである。
　貼り合わせの温度が１５０℃以上であると、シート状樹脂組成物１０の粘度が低下し、凹凸を空隙なく充填できる。また、貼り合わせの温度が、２００℃以下であると、シート状樹脂組成物１０の硬化反応を抑制したまま貼り合わせが可能となる。
　この際、シート状樹脂組成物１０の２００℃未満における最低溶融粘度が１００Ｐａ・ｓ～５０００Ｐａ・ｓの範囲内にあると、半導体チップ２２に形成されたバンプ１８と実装用基板５０に形成された電極５２とを容易にシート状樹脂組成物１０に埋め込みながら、対向させることができる。

　［シート状樹脂組成物を半硬化させる工程］
　前記工程Ｃの後、シート状樹脂組成物１０を加熱して半硬化させる（工程Ｄ）。前記工程Ｄにおける加熱温度は、１００～２３０℃であることが好ましく、１５０～２１０℃であることがより好ましい。前記工程Ｄにおける加熱温度は、ハンダの融点よりも低い温度であることが好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒の範囲内であることが好ましく、３～１２０秒の範囲内であることがより好ましい。
　この際、シート状樹脂組成物１０の２００℃で１０秒間加熱した後の熱硬化率が１０％以上であると、工程Ｄの後のシート状樹脂組成物１０は、ある程度粘度が上昇していることとなる。その結果、よりボイドの膨張を抑制することができる。

　［バンプと電極とを接合するとともに、シート状組成物を硬化させる工程］
　前記工程Ｄの後、前記工程Ｄにおける加熱よりも高温で加熱し、図４に示すように、バンプ１８と電極５２とを接合するとともに、シート状組成物１０を硬化させる（工程Ｅ）。図４では、バンプ１８がハンダで構成され、バンプ１８が溶融することによりバンプ１８と電極５２とが接合（電気的に接続）されている様子を示している。
　この際の加熱温度は、１８０～４００℃であることが好ましく、２００～３００℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒の範囲内であることが好ましく、３～１２０秒の範囲内であることがより好ましい。

　以上により、半導体装置６０が得られる。

　以上、本実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、搭載用基板５０に、シート状樹脂組成物付きチップ４０を、シート状樹脂組成物１０を貼り合わせ面にして貼り付けた状態でシート状樹脂組成物１０を加熱して半硬化させる（工程Ｄ）。従って、シート状樹脂組成物１０は半硬化前よりも粘度が上昇する。その後、工程Ｄにおける加熱よりも高温で加熱し、シート状樹脂組成物１０を硬化させる（工程Ｅ）。工程Ｅの段階では、すでにシート状樹脂組成物１０は半硬化しているため、仮にシート状樹脂組成物１０と搭載用基板５０との間にボイドが噛み込んでいたとしても、ボイドの膨張は抑制されている。従って、種々の不具合の原因となる大きなボイドの発生を抑制することができる。

　次に、シート状樹脂組成物付チップの具体的な準備方法について、図５～図１１を参照しながら説明する。
　本実施形態のシート状樹脂組成物は、裏面研削用テープ又はダイシングテープと一体化して使用できる。これにより、半導体装置を効率よく製造できる。図５～図１１は、シート状樹脂組成物付チップの準備方法の一例を説明するための断面模式図である。

　［裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物］
　本実施形態に係る裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物は、裏面研削用テープと、前述のシート状樹脂組成物とを備える。

　図５は、裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００の断面模式図である。図５に示すように、裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００は、裏面研削用テープ１２と、シート状樹脂組成物１０とを備える。裏面研削用テープ１２は、基材１２ａ及び粘着剤層１２ｂを備え、粘着剤層１２ｂは基材１２ａ上に設けられている。シート状樹脂組成物１０は粘着剤層１２ｂ上に設けられている。
　なお、シート状樹脂組成物１０は、図５に示したように裏面研削用テープ１２の全面に積層されていなくてもよく、半導体ウェハ１６（図６参照）との貼り合わせに十分なサイズで設けられていればよい。

　（裏面研削用テープ）
　裏面研削用テープ１２は、基材１２ａと、基材１２ａ上に積層された粘着剤層１２ｂとを備えている。

　上記基材１２ａは裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００の強度母体となるものである。例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、エチレン－酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン－（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸エステル（ランダム、交互）共重合体、エチレン－ブテン共重合体、エチレン－ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、全芳香族ポリアミド、ポリフェニルスルフイド、アラミド（紙）、ガラス、ガラスクロス、フッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、セルロース系樹脂、シリコーン樹脂、金属（箔）、紙などが挙げられる。粘着剤層１２ｂが紫外線硬化型である場合、基材１２ａは紫外線に対し透過性を有するものが好ましい。

　上記基材１２ａは、同種又は異種のものを適宜に選択して使用することができ、必要に応じて数種をブレンドしたものを用いることができる。基材１２ａの表面には、慣用の表面処理を施すことができる。基材１２ａには、帯電防止能を付与するため、上記の基材１２ａ上に金属、合金、これらの酸化物などからなる厚さが３０～５００Å程度の導電性物質の蒸着層を設けることができる。基材１２ａは単層又は２種以上の複層でもよい。

　基材１２ａの厚さは適宜に決定でき、一般的には５μｍ以上２００μｍ以下程度であり、好ましくは３５μｍ以上１２０μｍ以下である。

　なお、基材１２ａには、各種添加剤（例えば、着色剤、充填剤、可塑剤、老化防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、難燃剤など）が含まれていてもよい。

　粘着剤層１２ｂの形成に用いる粘着剤は、半導体ウェハの裏面研削時に半導体ウェハを保持でき、裏面研削後に半導体ウェハから剥離できるものであれば特に制限されない。例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などの一般的な感圧性接着剤を用いることができる。上記感圧性接着剤としては、半導体ウェハやガラスなどの汚染をきらう電子部品の超純水やアルコールなどの有機溶剤による清浄洗浄性などの点から、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が好ましい。

　上記アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸エステルを主モノマー成分として用いたものが挙げられる。上記アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ｓ－ブチルエステル、ｔ－ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、２－エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステル、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、エイコシルエステルなどのアルキル基の炭素数１～３０、特に炭素数４～１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキルエステルなど）及び（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル（例えば、シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステルなど）の１種又は２種以上を単量体成分として用いたアクリル系ポリマーなどが挙げられる。なお、（メタ）アクリル酸エステルとはアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルをいい、本発明の（メタ）とは全て同様の意味である。

　上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性などの改質を目的として、必要に応じ、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル又はシクロアルキルエステルと共重合可能な他のモノマー成分に対応する単位を含んでいてもよい。このようなモノマー成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物モノマー；（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６－ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８－ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０－ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２－ヒドロキシラウリル、（４－ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２－（メタ）アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー；２－ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマー；アクリルアミド、アクリロニトリルなどがあげられる。これら共重合可能なモノマー成分は、１種又は２種以上使用できる。これら共重合可能なモノマーの使用量は、全モノマー成分の４０重量％以下が好ましい。

　さらに、上記アクリル系ポリマーは、架橋させるため、多官能性モノマーなども、必要に応じて共重合用モノマー成分として含むことができる。このような多官能性モノマーとして、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどがあげられる。これらの多官能性モノマーも１種又は２種以上用いることができる。多官能性モノマーの使用量は、粘着特性などの点から、全モノマー成分の３０重量％以下が好ましい。

　上記アクリル系ポリマーは、単一モノマー又は２種以上のモノマー混合物を重合に付すことにより得られる。重合は、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合などの何れの方式で行うこともできる。清浄な被着体への汚染防止などの点から、低分子量物質の含有量が小さいのが好ましい。この点から、アクリル系ポリマーの数平均分子量は、好ましくは３０万以上、さらに好ましくは４０万～３００万程度である。

　また、上記粘着剤には、ベースポリマーであるアクリル系ポリマーなどの数平均分子量を高めるため、外部架橋剤を適宜に採用することもできる。外部架橋方法の具体的手段としては、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、メラミン系架橋剤などのいわゆる架橋剤を添加し反応させる方法があげられる。外部架橋剤を使用する場合、その使用量は、架橋すべきベースポリマーとのバランスにより、さらには、粘着剤としての使用用途によって適宜決定される。一般的には、上記ベースポリマー１００重量部に対して、５重量部程度以下、さらには０．１～５重量部配合するのが好ましい。さらに、粘着剤には、必要により、上記成分のほかに、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤などの添加剤を用いてもよい。

　粘着剤層１２ｂは放射線硬化型粘着剤により形成することができる。放射線硬化型粘着剤は、紫外線などの放射線の照射により架橋度を増大させてその粘着力を容易に低下させることができ、ピックアップを容易に行うことができる。放射線としては、Ｘ線、紫外線、電子線、α線、β線、中性子線などが挙げられる。

　放射線硬化型粘着剤は、炭素－炭素二重結合などの放射線硬化性の官能基を有し、かつ粘着性を示すものを特に制限なく使用することができる。放射線硬化型粘着剤としては、例えば、上記アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などの一般的な感圧性粘着剤に、放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合した添加型の放射線硬化性粘着剤を例示できる。

　配合する放射線硬化性のモノマー成分としては、例えば、ウレタンオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレートなどがあげられる。また放射線硬化性のオリゴマー成分はウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系など種々のオリゴマーがあげられ、その重量平均分子量が１００～３００００程度の範囲のものが適当である。放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分の配合量は、上記粘着剤層の種類に応じて、粘着剤層の粘着力を低下できる量を、適宜に決定することができる。一般的には、粘着剤を構成するアクリル系ポリマーなどのベースポリマー１００重量部に対して、例えば５～５００重量部、好ましくは４０～１５０重量部程度である。

　また、放射線硬化型粘着剤としては、上記説明した添加型の放射線硬化性粘着剤のほかに、ベースポリマーとして、炭素－炭素二重結合をポリマー側鎖または主鎖中もしくは主鎖末端に有するものを用いた内在型の放射線硬化性粘着剤があげられる。内在型の放射線硬化性粘着剤は、低分子成分であるオリゴマー成分などを含有する必要がなく、または多くは含まないため、経時的にオリゴマー成分などが粘着剤在中を移動することなく、安定した層構造の粘着剤層を形成することができるため好ましい。

　上記炭素－炭素二重結合を有するベースポリマーは、炭素－炭素二重結合を有し、かつ粘着性を有するものを特に制限なく使用できる。このようなベースポリマーとしては、アクリル系ポリマーを基本骨格とするものが好ましい。アクリル系ポリマーの基本骨格としては、上記例示したアクリル系ポリマーがあげられる。

　上記アクリル系ポリマーへの炭素－炭素二重結合の導入法は特に制限されず、様々な方法を採用できるが、炭素－炭素二重結合はポリマー側鎖に導入するのが分子設計が容易である。例えば、予め、アクリル系ポリマーに官能基を有するモノマーを共重合した後、この官能基と反応しうる官能基および炭素－炭素二重結合を有する化合物を、炭素－炭素二重結合の放射線硬化性を維持したまま縮合または付加反応させる方法があげられる。

　これら官能基の組合せの例としては、カルボン酸基とエポキシ基、カルボン酸基とアジリジル基、ヒドロキシル基とイソシアネート基などがあげられる。これら官能基の組合せのなかでも反応追跡の容易さから、ヒドロキシル基とイソシアネート基との組合せが好適である。また、これら官能基の組み合わせにより、上記炭素－炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを生成するような組合せであれば、官能基はアクリル系ポリマーと上記化合物のいずれの側にあってもよいが、上記の好ましい組み合わせでは、アクリル系ポリマーがヒドロキシル基を有し、上記化合物がイソシアネート基を有する場合が好適である。この場合、炭素－炭素二重結合を有するイソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、ｍ－イソプロペニル－α，α－ジメチルベンジルイソシアネートなどがあげられる。また、アクリル系ポリマーとしては、上記例示のヒドロキシ基含有モノマーや２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテルのエーテル系化合物などを共重合したものが用いられる。

　上記内在型の放射線硬化性粘着剤は、上記炭素－炭素二重結合を有するベースポリマー（特にアクリル系ポリマー）を単独で使用することができるが、特性を悪化させない程度に上記放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合することもできる。放射線硬化性のオリゴマー成分などは、通常ベースポリマー１００重量部に対して３０重量部の範囲内であり、好ましくは０～１０重量部の範囲である。

　上記放射線硬化型粘着剤には、紫外線などにより硬化させる場合には光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、α－ヒドロキシ－α，α´－ジメチルアセトフェノン、２－メチル－２－ヒドロキシプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα－ケトール系化合物；メトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフエノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）－フェニル］－２－モルホリノプロパン－１などのアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタールなどのケタール系化合物；２－ナフタレンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニルクロリド系化合物；１－フェノン－１，１―プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシムなどの光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３′－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２－クロロチオキサンソン、２－メチルチオキサンソン、２，４－ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４－ジクロロチオキサンソン、２，４－ジエチルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソンなどのチオキサンソン系化合物；カンファーキノン；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィノキシド；アシルホスフォナートなどがあげられる。光重合開始剤の配合量は、粘着剤を構成するアクリル系ポリマーなどのベースポリマー１００重量部に対して、例えば０．０５～２０重量部程度である。

　なお、放射線照射の際に、酸素による硬化阻害が起こる場合は、放射線硬化型の粘着剤層１２ｂの表面よりなんらかの方法で酸素（空気）を遮断するのが望ましい。例えば、上記粘着剤層１２ｂの表面をセパレータで被覆する方法や、窒素ガス雰囲気中で紫外線などの放射線の照射を行う方法などが挙げられる。

　なお、粘着剤層１２ｂには、各種添加剤（例えば、着色剤、増粘剤、増量剤、充填剤、粘着付与剤、可塑剤、老化防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、架橋剤など）が含まれていてもよい。

　粘着剤層１２ｂの厚さは特に限定されないが、チップ切断面の欠け防止、シート状樹脂組成物１０の固定保持の両立性などの観点から１～５０μｍ程度であるのが好ましい。好ましくは２～３０μｍ、さらには好ましくは５～２５μｍである。

　（裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物の製造方法）
　裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００は、例えば裏面研削用テープ１２及びシート状樹脂組成物１０を別々に作製しておき、最後にこれらを貼り合わせることにより作成することができる。

　（シート状樹脂組成物付チップの準備方法）
　次に、シート状樹脂組成物付チップの準備方法について説明する。図６～図１１は、裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００を用いるシート状樹脂組成物付チップ４０準備方法の各工程を示す図である。
　具体的には、当該シート状樹脂組成物付チップの準備方法は、半導体ウェハ１６のバンプ１８が形成されたバンプ形成面２２ａと裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００のシート状樹脂組成物１０とを貼り合わせる貼合せ工程、半導体ウェハ１６の裏面１６ｂを研削する研削工程、半導体ウェハ１６の裏面１６ｂにダイシングテープ１１を貼りつけるウェハ固定工程、裏面研削用テープ１２を剥離する剥離工程、半導体ウェハ１６をダイシングしてシート状樹脂組成物付き半導体チップ４０を形成するダイシング工程、及びシート状樹脂組成物付き半導体チップ４０をダイシングテープ１１から剥離するピックアップ工程を含む。

　＜貼合せ工程＞
　貼合せ工程では、半導体ウェハ１６のバンプ１８が形成されたバンプ形成面２２ａと裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００のシート状樹脂組成物１０とを貼り合わせる（図６参照）。

　半導体ウェハ１６のバンプ形成面２２ａには、複数のバンプ１８が形成されている（図６参照）。バンプ１８の高さは用途に応じて定められ、一般的には１５～１００μｍ程度である。もちろん、半導体ウェハ１６における個々のバンプ１８の高さは同一でも異なっていてもよい。

　半導体ウェハ１６表面に形成されたバンプ１８の高さＸ（μｍ）とシート状樹脂組成物１０の厚さＹ（μｍ）とが、０．５≦Ｙ／Ｘ≦２の関係を満たすことが好ましい。より好ましくは、０．５≦Ｙ／Ｘ≦１．５であり、さらに好ましくは、０．８≦Ｙ／Ｘ≦１．３である。

　バンプ１８の高さＸ（μｍ）とシート状樹脂組成物１０の厚さＹ（μｍ）とが上記関係を満たすことにより、半導体チップ２２と実装用基板５０との間の空間を十分に充填することができると共に、当該空間からのシート状樹脂組成物１０の過剰のはみ出しを防止することができ、シート状樹脂組成物１０による半導体チップ２２の汚染などを防止することができる。なお、各バンプ１８の高さが異なる場合は、最も高いバンプ１８の高さを基準とする。

　まず、裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物１００のシート状樹脂組成物１０上に任意に設けられたセパレータを適宜に剥離し、図６に示すように、半導体ウェハ１６のバンプ１８が形成されたバンプ形成面２２ａとシート状樹脂組成物１０とを対向させ、シート状樹脂組成物１０と半導体ウェハ１６とを貼り合わせる（マウント）。

　貼り合わせの方法は特に限定されないが、圧着による方法が好ましい。圧着の圧力は、好ましくは０．１ＭＰａ以上、より好ましくは０．２ＭＰａ以上である。０．１ＭＰａ以上であると、半導体ウェハ１６のバンプ形成面２２ａの凹凸を良好に埋め込むことができる。また、圧着の圧力の上限は特に限定されないが、好ましくは１ＭＰａ以下、より好ましくは０．５ＭＰａ以下である。

　貼り合わせの温度は、好ましくは４０℃以上であり、より好ましくは６０℃以上である。４０℃以上であると、シート状樹脂組成物１０の粘度が低下し、半導体ウェハ１６の凹凸を空隙なく充填できる。また、貼り合わせの温度は、好ましくは１００℃以下であり、より好ましくは８０℃以下である。１００℃以下であると、シート状樹脂組成物１０の硬化反応を抑制したまま貼り合わせが可能となる。

　貼り合わせは、減圧下で行うことが好ましく、例えば、１０００Ｐａ以下、好ましくは５００Ｐａ以下である。下限は特に限定されず、例えば、１Ｐａ以上である。

　＜研削工程＞
　研削工程では、半導体ウェハ１６のバンプ形成面２２ａとは反対側の面（すなわち、裏面）１６ｂを研削する（図７参照）。半導体ウェハ１６の裏面研削に用いる薄型加工機としては特に限定されず、例えば研削機（バックグラインダー）、研磨パッドなどを例示できる。また、エッチングなどの化学的方法にて裏面研削を行ってもよい。裏面研削は、半導体ウェハ１６が所望の厚さ（例えば、１０～８００μｍ）になるまで行われる。

　＜ウェハ固定工程＞
　研削工程後、半導体ウェハ１６の裏面１６ｂにダイシングテープ１１を貼りつける（図８参照）。なお、ダイシングテープ１１は、基材１１ａ上に粘着剤層１１ｂが積層された構造を有する。基材１１ａ及び粘着剤層１１ｂとしては、裏面研削用テープ１２の基材１２ａ及び粘着剤層１２ｂの項で示した成分及び製法を用いて好適に作製することができる。

　＜剥離工程＞
　次いで、裏面研削用テープ１２を剥離する（図９参照）。これにより、シート状樹脂組成物１０が露出した状態となる。

　裏面研削用テープ１２を剥離する際、粘着剤層１２ｂが放射線硬化性を有する場合には、粘着剤層１２ｂに放射線を照射して粘着剤層１２ｂを硬化させることで、剥離を容易に行うことができる。放射線の照射量は、用いる放射線の種類や粘着剤層の硬化度などを考慮して適宜設定すればよい。

　＜ダイシング工程＞
　ダイシング工程では、図１０に示すように半導体ウェハ１６及びシート状樹脂組成物１０をダイシングしてダイシングされたシート状樹脂組成物付き半導体チップ４０を形成する。ダイシングは、半導体ウェハ１６のシート状樹脂組成物１０を貼り合わせたバンプ形成面２２ａから常法に従い行われる。例えば、ダイシングテープ１１まで切込みを行うフルカットと呼ばれる切断方式などを採用できる。本工程で用いるダイシング装置としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。

　なお、ダイシング工程に続いてダイシングテープ１１のエキスパンドを行う場合、該エキスパンドは従来公知のエキスパンド装置を用いて行うことができる。

　＜ピックアップ工程＞
　図１１に示すように、シート状樹脂組成物付き半導体チップ４０をダイシングテープ１１から剥離する（シート状樹脂組成物付き半導体チップ４０をピックアップする）。ピックアップの方法としては特に限定されず、従来公知の種々の方法を採用できる。

　ここでピックアップは、ダイシングテープ１１の粘着剤層１１ｂが紫外線硬化型の場合、粘着剤層１１ｂに紫外線を照射した後に行う。これにより、粘着剤層１１ｂの半導体チップ２２に対する粘着力が低下し、半導体チップ２２の剥離が容易になる。

　以上により、シート状樹脂組成物付き半導体チップ４０の準備が完了する。

　また、本発明に係るシート状樹脂組成物付き半導体チップの準備方法は、裏面研削用テープ一体型シート状樹脂組成物を用いる方法に限定されない。
　例えば、ダイシングテープ一体型シート状樹脂組成物を用いて準備してもよい。ダイシングテープ一体型シート状樹脂組成物は、ダイシングテープと、シート状樹脂組成物とを備える。ダイシングテープは、基材及び粘着剤層を備え、粘着剤層は基材上に設けられている。シート状樹脂組成物は粘着剤層上に設けられている。ダイシングテープは、上述した裏面研削用テープと同様の構成を採用することができる。
　具体的に、当該シート状樹脂組成物付チップの準備方法は、半導体ウェハのバンプが形成されたバンプ形成面とダイシングテープ一体型シート状樹脂組成物のシート状樹脂組成物とを貼り合わせる貼合せ工程、半導体ウェハをダイシングしてシート状樹脂組成物付き半導体チップを形成するダイシング工程、及びシート状樹脂組成物付き半導体チップをダイシングテープから剥離するピックアップ工程を含む。

　また、本発明に係るシート状樹脂組成物付き半導体チップの準備方法は、単体のシート状樹脂組成物を用いて準備してもよい。
　具体的に、単体のシート状樹脂組成物を用いたシート状樹脂組成物付チップの準備方法は、例えば、半導体ウェハのバンプが形成されたバンプ形成面とシート状樹脂組成物とを貼り合わせる貼合せ工程、シート状樹脂組成物の半導体ウエハ貼り合わせ面とは反対側の面に裏面研削用テープを貼り合わせる工程、半導体ウェハの裏面を研削する研削工程、半導体ウェハの裏面にダイシングテープを貼りつけるウェハ固定工程、裏面研削用テープを剥離する剥離工程、半導体ウェハをダイシングしてシート状樹脂組成物付き半導体チップを形成するダイシング工程、及びシート状樹脂組成物付き半導体チップをダイシングテープから剥離するピックアップ工程を含む。
また、単体のシート状樹脂組成物を用いたシート状樹脂組成物付チップの準備方法の他の例としては、当該シート状樹脂組成物付チップの準備方法は、半導体ウェハのバンプが形成されたバンプ形成面とシート状樹脂組成物とを貼り合わせる貼合せ工程、シート状樹脂組成物の半導体ウエハ貼り合わせ面とは反対側の面にダイシングテープを貼り合わせる工程、半導体ウェハをダイシングしてシート状樹脂組成物付き半導体チップを形成するダイシング工程、及びシート状樹脂組成物付き半導体チップをダイシングテープから剥離するピックアップ工程を含む。

　上述した実施形態では、半導体チップにバンプが形成されているとともに、被着体としての搭載用基板に電極が形成されている場合について説明した。しかしながら、本発明に係る半導体チップは、シート状樹脂組成物が貼り合わせられる面側に、バンプ等による凹凸（例えば、３μｍ以上の凹凸）が形成されていなくてもよい。また、本発明の被着体は、シート状樹脂組成物が貼り合わせられる面側に、電極等による凹凸（例えば、３μｍ以上の凹凸）が形成されていなくてもよい。３μｍ未満の凹凸がある場合や凹凸がない場合にもシート状樹脂組成物と被着体との間にボイド（例えば、微小なボイド）が噛み込む場合はある。しかしながら、このような場合であっても、工程Ｄ（シート状樹脂組成物を加熱して半硬化させる工程）と、工程Ｅ（前記工程Ｄの後に、前記工程Ｄにおける加熱よりも高温で前記シート状樹脂組成物を加熱して硬化させる工程）とを行なうため、ボイドの膨張は抑制されている。従って、このような場合においても種々の不具合の原因となる大きなボイドの発生を抑制することができる。
　半導体チップのシート状樹脂組成物が貼り合わせられる面側に凹凸が形成されておらず、被着体のシート状樹脂組成物が貼り合わせられる面側に凹凸が形成されていない場合の具体例としては、シート状樹脂組成物をダイボンドフィルムとして使用する例が挙げられる。
　すなわち、この場合の半導体装置の製造方法は、
　半導体チップの非回路形成面（回路形成面とは反対側の面）にダイボンドフィルムとしてのシート状樹脂組成物が貼り付けられたシート状樹脂組成物付きチップを準備する工程Ａと、
　リードフレーム等の実装用基板を準備する工程Ｂと、
　前記実装用基板に、前記シート状樹脂組成物付きチップを、前記シート状樹脂組成物を貼り合わせ面にして貼り付ける工程Ｃと、
　前記工程Ｃの後に、前記シート状樹脂組成物を加熱して半硬化させる工程Ｄと、
　前記工程Ｄの後に、前記工程Ｄにおける加熱よりも高温で前記シート状組成物を加熱して硬化させる工程Ｅとを少なくとも含む。